「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

In the client, drawing data of the pop-up window P on the drawing data G for display developed on a frame buffer is read according to the window area information received from the server, and displayed by fitting its size on an input device (soft keyboard) 27 in which an arrangement pattern of a key is normally displayed.例文帳に追加

クライアントでは、サーバから受信されたウインドウ領域情報に従い、フレームバッファに展開されている表示用描画データＧ上のポップアップウインドウＰの描画データが読み出され、通常はキーの配列パターンが表示される入力装置(ソフトキーボード)２７にそのサイズを合わせて表示される。 - 特許庁

To provide a supply method of a substrate for drawing and a substrate selecting device, with which a substrate to be used for pattern drawing for the manufacture of a photomask and satisfying the quality specification of an aimed product is provided and a photosensitive material is not wasted, which satisfies requirements about costs and productivity.例文帳に追加

フォトマスク作製のためのパタン描画に供用される基板で、目的とする製品の品質仕様に見合う基板を提供でき、且つ、感光材を無駄にせずに、コスト面や生産性の面でも対応できる、描画用基板の供給方法および基板選択装置を提供する。 - 特許庁

In the game machine wherein whether or not to add a time shortening function after a big winning is determined by prior internal drawing, a notice performance pattern is changed between the case that the result of the internal drawing is a winning with time shortening and the case that it is the winning without the time shortening (step S704, step S712).例文帳に追加

大当り後に時間短縮機能が付加されるか否かが事前の内部抽選で決定されている遊技機において、内部抽選の結果が時短付当りの場合と、時短無当りの場合とで予告演出パターンを変化させる（ステップＳ７０４，ステップＳ７１２）。 - 特許庁

An operator group 100 which describes a drawing object 200 formed by painting out a part of a drawing area 201 (an area of a shading pattern 202) with shading and uniformly painting out a background section 204 with a prescribed background color is replaced between a first operator group 106 and a second operator group 108.例文帳に追加

描画領域２０１の一部（シェーディングパターン２０２の領域）をシェーディングで塗り潰し、且つ、背景部２０４を所定の背景色で均一に塗り潰す描画オブジェクト２００を記述するオペレータ群１００を、第１オペレータ群１０６と第２オペレータ群１０８とに置換する。 - 特許庁

The resolution of an imaging unit to draw an image on an object is preliminarily determined; drawing pattern data are rasterized with the resolution of the drawing unit to generate raster data; and an image is drawn on the object by using the raster data.例文帳に追加

予め、前記画像を被描画体に描画する描画ユニットの解像度を求め、前記描画パターンデータを前記描画ユニットの解像度でラスタライズしてラスターデータを生成し、このラスターデータを用いて被描画体上に画像を描画することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

A reel symbol array capable of avoiding a stop pattern form displayed when the reels are stopped being the arrangement of winning patterns corresponding to the plurality of winning kinds in the case that the stop operation is performed in a range capable of drawing patterns corresponding to the winning kind won by internal drawing is applied.例文帳に追加

内部抽選にて当選した当選種類に対応した図柄を引き込み可能な範囲で停止操作が行なわれた場合、リール停止時に表示される停止図柄態様が複数の当選種類に対応した当選図柄の揃いとなることを回避できるリール図柄配列を適用する。 - 特許庁

Further, a part of the long flexible recording medium stretched into a plane, by keeping the tension constant in the part of medium put across the adjacent two rollers 30, 32 with a tension setting means 68 is subjected to a drawing process with a two-dimensional pattern by a drawing unit 48.例文帳に追加

さらに、張力設定手段６８で、隣接する２個のローラ３０、３２間に掛け渡されている部分の張力を一定に保つことにより平面的に張架させた長尺の可撓性記録媒体の部分に、描画ユニット４８で、二次元のパターンで描画処理を行う。 - 特許庁

A main control part 200 stores a prescribed one in a plurality of random number drawing results obtained in a RAM 203 (Step S1900) and transmits a command to operate a special pattern display 100 side in accordance with other random number drawing results to a CPU 1020 (Step S1910).例文帳に追加

主制御部２００は、得られた複数の乱数抽選結果の内で所定のものをＲＡＭ２０３に格納し（ステップＳ１９００）、これ以外の乱数抽選結果に応じた動作を特別図柄表示装置１００側にさせるためのコマンドをＣＰＵ１０２０に送信する（ステップＳ１９１０）。 - 特許庁

Furthermore, according to a gradual scaling, with which a certain point in a two-dimensional coordinate system is converted into a new point by adding a value proportional to the other coordinate value to the x-coordinate value or to the y-coordinate value, a corrected drawing data, corresponding to the second deformed pattern drawing region 47, are generated.例文帳に追加

さらに、２次元の座標系のある点を、そのＸ座標、もしくはＹ座標の座標値に、他方の座標値に比例した値を加えた新たな点に変換するグラデュアル・スケーリングによって、第２変形描画領域４７に対応した補正描画データを生成する。 - 特許庁

A general CPU performs mode fall drawing according to Fig. 21 on condition that a variation pattern for a losing ready-to-win performance is selected during the execution of a second special mode performance, and ends the second special mode performance with the winning of the mode fall drawing as a trigger.例文帳に追加

統括ＣＰＵは、第２特別モード演出の実行中、はずれリーチ演出用の変動パターンが選択されることを条件に図２１に従ってモード転落抽選を行い、該モード転落抽選の当選を契機に第２特別モード演出を終了させるようにした。 - 特許庁

To make the coating amounts of paste from a plurality of paste discharge holes almost equal and to prevent the damage of the surface of a substrate by the lower end of nozzle during coating and drawing when the coating and drawing of a pattern are simultaneously applied to the surface of the substrate using the nozzle having a plurality of paste discharge orifices linearly arranged thereto.例文帳に追加

横一線に配列された複数のペースト吐出孔を有するノズルを用いて基板表面に同時にパターン塗布描画する場合、各ペースト吐出孔でのペースト塗布量はほぼ等しく、塗布描画中にノズル下端で基板表面を損傷しないようにする。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with sufficient sensitivity and resolution, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method and a method for manufacturing a printed wiring board using the composition.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

An electron beam resist layer 21 is formed on a base material 11, and patterning processings such as pattern drawing and development of the electron beam resist layer 21 are carried out by using an electron beam exposure device to form an initial resist pattern 22 in a lattice shape at a prescribed position on the base material 11.例文帳に追加

基材１１上に電子線レジスト層２１を形成し、電子線露光装置を用いて、電子線レジスト層２１のパターン描画、現像等のパターニング処理を実施し、基材１１上の所定位置に格子形状の初期レジストパターン２２を形成する。 - 特許庁

Thereafter, the drawing circuit stores the image information of the specific ready-to-win performance images 36c, 39d in the frame buffer of the VRAM 153 while clobbering the same on the normal-pattern suspending image 38, so as to erase the image information of the normal-pattern suspending image 38 from the frame buffer of the VRAM 153.例文帳に追加

その後、その普図保留画像３８に上書きして特定のリーチ演出画像３６ｃ、３９ｄの画像情報をＶＲＡＭ１５３のフレームバッファに記憶させて、普図保留画像３８の画像情報をＶＲＡＭ１５３のフレームバッファから消去する。 - 特許庁

In carrying operation performed after hanging up operation of the prize 20 at a position based operation of a control panel 7, the angle of a hook 34A during the carrying operation is variably controlled based on variation pattern data decided by variation pattern drawing processing (S3).例文帳に追加

そして、コントロールパネル７の操作に基づく位置で景品２０の吊上動作の後に行われる運搬動作においては、変化パターン抽選処理（Ｓ３）で決定された変化パターンデータに基づいて、運搬動作中のフック３４Ａの角度が可変制御される。 - 特許庁

A first working reticle WR1, in which circuit pattern units Pa to Pe commonly usable in a plurality of devices are formed, and a second working reticle WR2, in which another circuit pattern units Pf to Pw are formed, are manufactured by using a laser beam drawing device or the like.例文帳に追加

複数のデバイスで共通に使用できる回路パターンユニットＰａ〜Ｐｅが形成された第１のワーキングレチクルＷＲ１、及び別の回路パターンユニットＰｆ〜Ｐｗが形成された第２のワーキングレチクルＷＲ２をレーザビーム描画装置等を用いて製造する。 - 特許庁

The game machine is constituted so as to select one operation pattern from among a plurality of kinds of operation patterns by drawing to drive-control a motor for moving an operation area for moving the operation area of an induction increasing apparatus of a special game device 36 by the selected operation pattern.例文帳に追加

複数種類の動作パターンのうちから抽選により１つの動作パターンを選択して、選択された動作パターンにより特別遊技装置３６の誘導増加装置作動領域を移動させる作業領域移動用モータを駆動制御する。 - 特許庁

When a BB and an RB are internally gained at the same time, and the player performs stopping operation of a reel to stop a BB winning pattern and an RB winning pattern on a prize winning line, a control part 30a operates a lot drawing part 45 of winning role distribution.例文帳に追加

ＢＢとＲＢが同時に内部入賞した状態で、遊技者が、ＢＢ当選絵柄とＲＢ当選絵柄とが入賞有効ライン上に停止するようにリールの停止操作を行うと、制御部３０ａは当選役振り分け抽選部４５を作動させる。 - 特許庁

Then, the plurality of kinds of operation patterns includes an operation pattern advantageous to a player which stops the operation area of the induction increasing apparatus at a prescribed position for a prescribed period to perform drawing of the operation pattern when a prescribed condition related with the skill of the player is satisfied.例文帳に追加

複数種類の動作パターンには、誘導増加装置作動領域を所定位置に所定期間停止させる遊技者に有利な動作パターンが含まれており、遊技者の技量に関連する所定条件が成立した場合に、動作パターンの抽選を行う。 - 特許庁

The method of forming wiring includes: jetting a colloidal metal solution onto a base material 10 by an inkjet system based on image data of a conductive pattern 14 and drawing; and then executing wet heat treatment on the base material to form a wiring having the conductive pattern.例文帳に追加

基材１０上に、導電性パターン１４の画像データに基づいて、金属コロイド溶液をインクジェット方式により吐出して描画した後、前記基材上に、湿熱処理を施して前記導電性パターンを持つ配線を形成する配線形成方法。 - 特許庁

In the winning in the big winning game as the result of the big winning drawing, the identification information display control arrangement executes the control of variably displaying the identification information by the non-winning variable display pattern and then variably displaying the identification information by the winning variable display pattern.例文帳に追加

識別情報表示制御手段は、大当たり抽選の結果、大当たり遊技に当選した場合、非当選変動表示パターンによって識別情報を変動表示後、当選変動表示パターンによって識別情報の変動表示の制御を行う。 - 特許庁

To provide: a method of processing a base material for a nano-imprint mold, which is used for accurately detecting the surface position of the base material when drawing a pattern on a resist by means of an electron beam; and a method of manufacturing a nano-imprint mold having a highly accurate irregular pattern.例文帳に追加

電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, since reflectance of light on the uniformly rusted, oxidized or corroded surface is different from that on a non-rusted, non-oxidized or non-corroded surface, in the case where an engraving pattern is created, reflectance of light in an engraved portion becomes different, thereby drawing the engraving pattern with high contrast.例文帳に追加

また均一に錆びた面または酸化した面または腐食した面は光の反射率がそうでないところと異なるため彫刻模様を作った場合切り込みを入れた部分の光の反射率が異なり、高いコントラストで彫刻模様を描く事が出来る。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of attaining power saving by displaying an image in a drawing area, when necessary, and of displaying an image which is readily recognized by humans in the drawing area, by changing an image processing pattern for an image displayed in the drawing area, according to the distance from the human located close to a screen.例文帳に追加

必要な時に描画領域に画像を表示することにより、省電力化を図ることのできるとともに、スクリーン付近に位置する人間との距離に応じて、描画領域に表示される画像の画像処理パターンを変更することにより、前記人間に認識され易い画像を描画領域に表示することのできる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The exposure device equipped with a lighting optical system having a first lighting light source 1 for drawing based upon exposure pattern data and a lighting optical system having a second lighting light source 2 for irradiating a desired area including a pattern-drawn area with an energy beam is used to achieve high-precision pattern formation based on the exposure pattern data with high throughput at low cost.例文帳に追加

露光パターンデータに基づいて描画するための第１の照明光源１を有する照明光学系と、前記パターン描画された領域を含有する所望の面積に対してエネルギー線を照射するための第２の照明光源２を有する照明光学系とを備えた露光装置を用いることにより、露光パターンデータに基づく高精度のパターン形成を高スループットかつ低コストに達成する。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method by which permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be efficiently formed with high definition, by forming a desired drawn pattern with few jags on a surface of a photosensitive layer to be exposed without reducing exposure speed, in a pattern forming method in which exposure is performed for drawing by inclining a light modulating means.例文帳に追加

前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which enables the formation of a desired drawing pattern suppressing the occurrence of jaggies on a face to be exposed of a photosensitive layer without lowering an exposure speed and a high-definition desired pattern different in thickness and the efficient formation of a printed wiring board having a hole part such as a through hole and a via hole.例文帳に追加

露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成可能であり、かつ厚みが異なる所望のパターンを高精細に形成可能であり、スルーホールやビアホールなどのホール部を有するプリント配線板を効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A controller 24 fluctuation-displays the pattern of a middle pattern column 15 as if being drawn in a form different from before and also displays a character capable of performing the operation of urging pseudo drawing to the pattern in at least one period during fluctuation display and the fluctuation display is performed linked with the operation of the character.例文帳に追加

制御装置２４は、前記変動表示中の少なくとも一時期において、中図柄列１５の図柄をそれまでとは異なる態様で引き付けられるかの如く変動表示させるとともに、前記図柄に対し擬似的に引き付けることを促す動作を行いうるキャラクタを表示可能とし、キャラクタの動作に連動させて、前記変動表示が行われる。 - 特許庁

The resist pattern 41 is formed on the glass substrate by forming a resist pattern 41 on a transferring roll surface by removing a residual substance on a transferring roll 10, providing a photoresist coated film 40 using a slit nozzle 12, drying it, pattern drawing with a laser beam, developing it and washing it with water and by transferring it to the glass substrate 30 and baking it by heating and pressurizing.例文帳に追加

転写ロール１０の残留物を除去し、スリットノズル１２を用いてフォトレジストの塗布膜４０を設け、乾燥し、レーザー光によってパターン描画し、現像、水洗を行って、転写ロール表面にレジストパターン４１を形成し、加熱加圧によってガラス基板３０に転写、ベークしてガラス基板上にレジストパターン４１を形成する。 - 特許庁

A variation time of a specific variation pattern among several variation patterns, an initializing timing of the count value, and the extracting timing of the drawing value for patterns are set in a way that they are in a regular correspondence relationship with each other in order to continuously extract the specific variation pattern.例文帳に追加

そして、複数の変動パターンのうち特定の変動パターンの変動時間と、カウント値の初期化タイミングと、パターン用抽選値の抽出タイミングとが、特定の変動パターンを連続的に抽出させるよう規則的な対応関係をもつように設定されている。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a photomask blank having a light shielding film 15 on a transparent substrate 14, a step of forming a first resist pattern by drawing and developing a resist film formed on the light shielding film, and a step of performing first patterning by etching the light shielding film with the first resist pattern as a mask.例文帳に追加

透明基板１４上に遮光膜１５を有するフォトマスクブランクを準備する工程と、遮光膜上に形成したレジスト膜を描画、現像して第１レジストパターンを形成する工程と、第１レジストパターンをマスクとして遮光膜をエッチングして第１のパターニングを行う。 - 特許庁

A drawing circuit 2070 first stores image information of an normal-pattern suspending image 38 in the frame buffer of a VRAM 153 when it is determined to draw the normal-pattern ordinary image suspending image 38 notifying the opening/closing of the starting variable prize-winning device and jackpot images 39e to 39g.例文帳に追加

描画回路２０７０は、始動可変入賞装置の開閉を報知する普図保留画像３８と大当り画像３９ｅ〜３９ｇとを描画することが決定されていると、まず、普図保留画像３８の画像情報をＶＲＡＭ１５３のフレームバッファに記憶させる。 - 特許庁

A drawing circuit 2070 first stores image information of an normal-pattern suspending image 38 in the frame buffer of a VRAM 153 when it is determined to draw the normal-pattern suspending image 38 notifying the opening/closing of the starting variable prize-winning device, and specific ready-to-win performance images 36c, 39d.例文帳に追加

描画回路２０７０は、始動可変入賞装置の開閉を報知する普図保留画像３８と特定のリーチ演出画像３６ｃ、３９ｄとを描画することが決定されていると、まず、普図保留画像３８の画像情報をＶＲＡＭ１５３のフレームバッファに記憶させる。 - 特許庁

To generate punch data for achieving both drawing of a prescribed pattern on a workpiece and cutting of the workpiece along the outline of the pattern in generating punch data for executing the operation of forming small holes on the sheet-like workpiece by using an embroiderable sewing machine.例文帳に追加

刺繍縫製可能なミシンを用いてシート状の被加工物に対する小孔形成動作を実行するための打刻データを作成するものにあって、被加工物に対する所定の模様の描画と、その模様の輪郭に沿った被加工物の切断との双方を可能とする打刻データを作成する。 - 特許庁

In this EL sheet, a conductive polymer 6 having light transmittivity can be formed with high minuteness on the other surface of the light transmissive film substrate 1 arbitrarily with a desired character, pattern, etc. by drawing the desired character, desired pattern, etc., arbitrarily by using an ink jet printer.例文帳に追加

このＥＬシートは、光透過性フィルム基板１の他方の面に、光透過性を有する導電性ポリマー６を、インクジェットプリンターを用いて任意に所望の文字やパターンなどを描画することにより、所望の文字やパターンなどを任意に、かつ高精細に形成可能とするものである。 - 特許庁

A CPU 20 of a control part of this Pachinko game machine draws lots of the big hit by acquiring a random number for the big hit, and generates the big hit by lot drawing of the big hit, and is put in a big hit state when a pattern of a pattern variation display device 10 stops in alignment with predetermined arrangement.例文帳に追加

このパチンコ遊技機の制御部のＣＰＵ２０は、大当たり用の乱数を取得して大当たりの抽選を行ない、大当たり抽選により大当たりが発生し、図柄変動表示装置１０の図柄が予め決められた配列に揃って停止したとき、大当たり状態となる。 - 特許庁

To provide a method and device for converting pattern data never causing the unexpected increase in data capacity even in the conversion of CAD data for a drawing machine to pattern data for a defect inspecting machine or the reduction in processing speed of the defect inspecting machine by an unnecessary region division.例文帳に追加

描画機用のＣＡＤデータを欠陥検査機用の図形データに変換してもデータ容量が不用意に増大したり不要な領域分割によって欠陥検査機の処理速度が低下したりすることのない図形データ変換方法およびデータ変換装置を提供すること。 - 特許庁

To improve accuracy of a starting position of drawing in a circumference direction in each position in a radial direction of each region when a hard disk pattern is drawn by electron beam scanning, the hard disk pattern including a plurality of servo regions and data regions between the servo regions in an arc form provided from the center side to the outside of the disk.例文帳に追加

中心側から外側に向けて円弧状に設けられる複数のサーボ領域と該サーボ領域間のデータ領域からなるハードディスクパターンを電子ビーム走査により描画する際の、各領域の半径方向位置毎の周方向描画開始位置の精度を向上させる。 - 特許庁

To obtain a nap-raised warp knit fabric having a raised needle loop surface to enable clear drawing of a relief pattern or a printed pattern, having excellent abrasion resistance, usable as an upholstery fabric resistant to pilling, and usable also as a basic fabric of an artificial leather by applying a resin composition or an adhesive to the pile surface.例文帳に追加

ニードルループ面が起毛されていて凹凸模様や捺染模様を鮮明に描出することが出来、耐摩耗性に優れ、椅子張地等に使用してピリングの発生がなく、パイル面に樹脂組成物や接着剤を塗布して人工皮革の原布としても使用し得る起毛経編布帛を得る。 - 特許庁

Then, when a prescribed "time reduction winning random number" is selected as the result of the "second drawing", "varying time reducing state" occurs without regard to the occurrence of a "big win state" to reduce the varying time of a "special pattern" until the "special pattern" is varied prescribed number of times.例文帳に追加

そして、その「第二抽選」の結果、所定の「時短当たり乱数」を選択した場合には、「大当たり状態」の生起とは無関係に「変動時間短縮状態」が生起し、「特別図柄」が所定の回数だけ変動するまで「特別図柄」の変動時間が短縮されるようになっている。 - 特許庁

In the case where the amount of variation in dimension of a prepared photomask exceeds an allowable range, a glass portion of the photomask is partially subjected to etching so that a dimension of a transcribed pattern obtained when a pattern formed on the photomask is transcribed on a wafer substrate falls into the allowable range in all drawing regions.例文帳に追加

作製したフォトマスクの寸法ばらつき量が許容範囲を超えている場合、当該フォトマスク上に描かれたパターンをウエハ基板上に転写した際に得られる転写パターンの寸法が、全描画領域内で許容範囲内となるように、フォトマスクのガラス部を部分的にエッチングする。 - 特許庁

A method for manufacturing circuit board includes: a substrate formation process S1 for burning green sheet to form a ceramic substrate; a catalyst patterning process S2 for drawing and forming a catalyst pattern from a liquid body containing plating catalyst; and a plating process S3 for plating the catalyst pattern.例文帳に追加

グリーンシートを焼成してセラミック基板を形成する基板形成工程Ｓ１と、めっき触媒を含有する液状体で触媒パターンを描画形成する触媒パターニング工程Ｓ２と、前記触媒パターンにめっきを施すめっき工程Ｓ３と、を有する回路基板の製造法。 - 特許庁

To provide a negative resist material, which has an extremely high curing rate, is appropriately applicable to clear pattern exposure or direct drawing with the use of an energy ray, and has extremely good adhesiveness with a base material and to provide an image pattern forming method using the negative resist.例文帳に追加

硬化速度が極めて速く、かつエネルギー線により、鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、かつ基板との密着性に非常に優れた、ネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A pachinko game machine 1 simultaneously generates both of probability variation and time shortening advantageous to the player side after a big winning ends, ends the probability variation at the time of winning probability variation fall drawing, and ends the time shortening when a pattern variation performance operation at a special pattern display part is executed for the stipulated number of times.例文帳に追加

パチンコ遊技機１は、大当たり終了後に遊技者側に有利な確変及び時短の双方を同時に発生し、確変転落抽選に当選したときに確変を終了し、特別図柄表示部での図柄変動演出動作が規定回数実行されたときに時短を終了する。 - 特許庁