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drawing patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1363件
In a transparent solid matter, by processing for drawing a predetermined display pattern by irradiating it with laser light from the outside, crack groups consisting of lots of cracks are generated along the display pattern inside of the solid matter, so as to be used as a display device.例文帳に追加
透明な固体の外部からレーザ光を照射して所定の表示パターンを描く加工を施すことによって、前記固体の内部に前記表示パターンに沿った多数のクラックから成るクラック群を生成せしめ、ディスプレイ装置とした。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus capable of carrying out image processing without the need for a large storage capacity while keeping a high speed processing operation in the case of creating a bit map pattern from a dither table and a color value and performing image drawing processing by using the bit map pattern.例文帳に追加
ディザテーブルと色値とからビットマップパターンを作成し、それを用いて描画処理を行うに当たり、高速な処理動作を維持しながら記憶容量の大きなものを用意せずに画像処理ができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁
Thereafter, the drawing circuit stores the image information of the jackpot images 39e to 39g in the frame buffer of the VRAM 153 while clobbering the same on the normal-pattern suspending image 38, so as to erase the image information of the normal-pattern suspending image 38 from the frame buffer of the VRAM 153.例文帳に追加
その後、その普図保留画像38に上書きして大当り画像39e〜39gの画像情報をVRAM153のフレームバッファに記憶させて、普図保留画像38の画像情報をVRAM153のフレームバッファから消去する。 - 特許庁
To provide a green sheet that improves processing accuracy of a pattern consisting of droplets by preventing thermal expansion during drawing under a heating condition, and to provide a method of manufacturing a ceramic multilayer substrate that improves processing accuracy of the pattern using the green sheet.例文帳に追加
加熱下の描画時における熱的な膨張を抑えることにより液滴からなるパターンの加工精度を向上させたグリーンシートと、該グリーンシートを用いてパターンの加工精度を向上させたセラミック多層基板の製造方法とを提供する。 - 特許庁
Then, when a specified time has passed after an initial display pattern is displayed on the display 16, figure change operation of a combination of figure generation operation, figure moving operation and figure disappearing operation is implemented to thereby the figure pattern showing the result of drawing is displayed.例文帳に追加
図柄が発生した図柄表示位置D3,D4と隣接する図柄表示位置C2,C3には図柄が表示されていないので、図柄表示位置D3,D4にそれぞれ表示されている図柄「5」「8」は、次のステップで図柄表示位置C2,C3に移動する(図柄移動動作)。 - 特許庁
The pattern drawing apparatus includes a head unit equipped with a DMD (digital micromirror device) having a micromirror array which draws a pattern on a photosensitive material and modulates reflected light, a stage which holds a substrate, and a mechanism which relatively moves the head unit and the stage.例文帳に追加
感光材料にパターンを描画するパターン描画装置において、反射光を変調する微小ミラー群を有するDMDが設けられたヘッド部、基板を保持するステージ、並びに、ヘッド部およびステージを相対的に移動する機構が設けられる。 - 特許庁
Then, at the time of winning in the drawing, stop control is performed so as to stop and display pattern parts (the patterns of a left reel part and a right reel part) matched with the role of the pattern combination corresponding to the ready-to-win prize on the winning line.例文帳に追加
そして、この抽選で当選したとき、上記リーチ賞に対応した図柄の組合せのうち上記役と一致する図柄部分(左リール部分と右リール部分の図柄)が入賞ライン上に停止表示するように停止制御する。 - 特許庁
In the case of the probability variation mode and in the case of selecting a second opening control pattern in the opening control pattern selecting drawing, the movable piece 12a is opened three times for the opening time of 1.5 second after the lamps 15a and 15b flicker for 0.5 second.例文帳に追加
確率変動モードでの場合で、かつ開放制御パターン選択抽選で第二開放制御パターンが選択された場合には、ランプ15a,15bが0.5秒点滅した後に可動片12aが1.5秒の開放時間で3回開放する。 - 特許庁
A nozzle is allowed to descend from a waiting position A only by an initial descending distance nh which is determined by a maximum value UH of undulations on the substrate surface 28a and a thickness NH of a paste pattern 29 drawn by coating a substrate, when coat-drawing of the paste pattern is started.例文帳に追加
ペーストパターンの塗布描画を開始するに際し、基板表面28aのうねりの最大値UHや基板に塗布描画するペーストパターン29の厚みNHなどで決まる初期下降距離nhだけ待機位置Aからのズルを下降させる。 - 特許庁
When the faces and direction of the substrate S are appropriate, the drawing position of a circuit pattern with respect to the substrate S is adjusted based on the relative positions of the first to fourth reference marks P1 to P4 and the circuit pattern is drawn on the substrate S by an optical unit 18.例文帳に追加
基板Sの表裏および向きが適正な場合には、第1〜第4基準マークP1〜P4の相対位置に基づいて基板Sに対する回路パターンの描画位置を調整し、光学ユニット18によって基板Sに回路パターンを描画する。 - 特許庁
In the process, an area of a drawing pattern before division is obtained in a first area calculation circuit 30, the total of an area of each output pattern after division is obtained in a second area calculation circuit 34 and the obtained two kinds of area are compared.例文帳に追加
その際、第1の面積計算回路30において分割前の描画パターンの面積を求め、第2の面積計算回路34において分割後の各出力図形の面積の累計を求め、求められた2種の面積を比較する。 - 特許庁
According to "Saiguki" (exemplary book on Heian rituals), the ones dyed with a wave pattern (many were substituted by drawing) called 'suri-karaginu' (dyed karaginu) or 'kaibu-karaginu' (ocean pattern karaginu), and red mezome-mo (tie-dye clothes) were used for important ceremonies such as Sechi-e (seasonal court banquets), and this practice continued until the medieval period. 例文帳に追加
また、『西宮記』によると節会などの重い儀式には「摺唐衣」もしくは「海浦唐衣」とよばれる波の文様を摺った(描き絵の代用品も多い)ものと、赤い目染裳が用いられ、そのしきたりは中世まで継続した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To enable to suppress a lowered pattern connection accuracy among fields caused by lowered pattern position accuracy caused by charged up of resist, in the charged particle drawing technology.例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画技術において、レジストのチャージアップによるパターン位置精度の低下に起因する隣接するフィールド間のパターン接続精度の低下を抑制可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁
A display control means changes an auxiliary display pattern displayed at a pattern display device corresponding to operation input by the operation input means and also controls display so as to make the change form of the auxiliary display pattern be different corresponding to the winning and losing of a drawing means (A43-A44, A43-A47).例文帳に追加
表示制御手段は、操作入力手段による操作入力に応じて、図柄表示装置に表示される補助表示用図柄を変化させると共に、抽選手段の当り外れの別に応じて、補助表示用図柄の変化態様を異ならせるように表示制御する(A43〜A44、A43〜A47)。 - 特許庁
The pattern forming method includes an applying process for applying a mixture containing inorganic powder, a glass frit and a solvent to a substrate, a dry process for drying the applied mixture, a laser irradiation process for drawing a pattern on the coating film which has passed through the dry process by laser irradiation, and a development process for developing the pattern.例文帳に追加
無機粉末と、ガラスフリットと、溶剤からなる混合物を基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記混合物を乾燥する乾燥工程と、レーザー照射により前記乾燥工程を経た塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、前記パターンを現像する現像工程とを含むパターン形成方法。 - 特許庁
A light-shielding film 3 is formed on the photomask to surround, without leaving a space, the region where the light-absorbing layer is disposed by drawing a pattern 2 which generates a three-dimensional distribution of the light intensity and by converting the pattern into black, or the region where the light-absorbing layer having the pattern 2 drawn and converted into black is to be disposed.例文帳に追加
そのフォトマスクの面上に、光遮光膜3が、3次元の光強度分布をもたらすパターン2に描画、黒化された光吸収層が配置されている領域、またはパターン2に描画、黒化された光吸収層が配置されるべき領域を隙間無く取り囲んで設けられている。 - 特許庁
The method of forming the metallic pattern includes the steps of using the metal salt mixture for forming a metallic pattern which contains at least metal salt as well as reducing agent and whose viscosity at 25°C is 3-50 mPa s, drawing a pattern on a substrate material, and heating the substrate at 80-400°C.例文帳に追加
少なくとも金属塩および還元剤を含有し、かつ、25℃における粘度が3〜50mPa・sである金属パターン形成用の金属塩混合物を用い、基材上にパターンを描画した後、80〜400℃に加熱することで金属パターンを形成することを特徴とする金属パターン形成方法。 - 特許庁
The pattern combination associated with the privilege whose degree of advantages to a player is lower than that of the privilege determined by drawing is determined as the pattern combination to allow display by a plurality of reels, and the rotation of the respective reels is stopped according to the detection of a stop operation and the determined pattern combination.例文帳に追加
複数のリールにより表示を許容する図柄の組合せとして、抽籤により決定された特典よりも遊技者にとっての有利さの度合いが低い特典に対応づけられた図柄の組合せを決定し、停止操作の検出とこの決定された図柄の組合せとに基づいて各リールの回転を停止する。 - 特許庁
Then, after numerals are displayed at the respective display positions 12a-12i of the pattern display device 12, a character C1 appears and the animation images of the contents that the character C1 changes a valid line from the temporary valid line to a pattern display line decided by the line decision drawing are displayed at the pattern display device 12.例文帳に追加
そして、図柄表示器12の各表示位置12a〜12iに数字が表示された後、キャラクターC1が登場し、このキャラクターC1が有効ラインを仮有効ラインからライン決定抽選で決定された図柄表示ラインに変更するといった内容のアニメーション画像が図柄表示器12に表示される。 - 特許庁
A variation pattern setting means for setting a variation pattern for executing a variable display game corresponding to a drawing result based on a start right is configured so as to set a single variation pattern in which the variation start of symbols to variation stop includes one variation cycle and a multiple variation pattern (so-called pseudo continuation) in which it includes multiple times of the variation cycles.例文帳に追加
始動権利に基づく抽選結果に対応する変動表示ゲームを実行させるための変動パターンを設定する変動パターン設定手段は、図柄の変動開始から変動停止までが1回の変動サイクルで構成される単変動パターンと、複数回の変動サイクルで構成される複変動パターン(いわゆる疑似連)を設定可能に構成される。 - 特許庁
When the drawing result is a big hit (s403: YES), the first mascot character displayed on a special pattern display device 40 is changed to a big hit display mode (s405).例文帳に追加
抽選結果が大当りである場合(s403:YES)、特別図柄表示装置40に表示されている第1マスコットキャラクタを大当り用の表示態様に変更させる(s405)。 - 特許庁
In particular, the pattern dimension is evaluated by using two or more kinds of patterns to suppress variance in the proximity effect in an electron beam (EB) drawing device while checking the size of the proximity effect.例文帳に追加
とくに、EB描画装置における近接効果のバラツキを少なくするために2種類以上を用いて、近接効果の大きさを確認しながらパターン寸法を評価する。 - 特許庁
In this case, the pachinko game machine performs the drawing processing relating to the winning and losing for the winning to be the operation trigger of the normal motor-driven accessory when a game ball enters the normal pattern start port.例文帳に追加
ここで、このパチンコ機は、普通図柄始動口に遊技球が入球されたとき、普通電動役物の動作契機となる当たりについての当落にかかる抽選処理を行う。 - 特許庁
To provide an electron beam drawing method by which a desired fine pattern can be drawn with satisfactory productivity when a stamper original plate for forming a discrete track medium is drawn by using an electron beam.例文帳に追加
ディスクリートトラック媒体作製用のスタンパ原盤などを電子線描画する際に、所望の微細パターンを生産性よく描画できる電子線描画方法を提供する。 - 特許庁
When the paste height or width of the paste pattern drawn on a substrate is changed, the flow rate of the paste and at least one of nozzle height and a drawing speed are changed synchronously.例文帳に追加
基板上に描画するペーストパターンでのペースト高さや幅を変化させる場合には、このペースト流量と、ノズル高さ,描画速度の少なくともいずれか一方とを同期して変化させる。 - 特許庁
Then, by executing image output to a liquid crystal display part 491 on the basis of the stored drawing data, a prescribed image is displayed at a pattern display device 429.例文帳に追加
そして、この格納された描画データに基づいて液晶表示部491に対して画像出力が行われることで図柄表示装置429にて所定の画像が表示される。 - 特許庁
To highly accurately perform drawing of a fine pattern to be formed on a magnetic disk medium at high speed, to easily perform proximity effect correction and to perform writing at a fixed dose amount on the whole substrate.例文帳に追加
磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。 - 特許庁
To apply smoothing processing to a color halftone character with a halftone background and a halftone line drawing with a halftone background, such as a photograph without increasing a jaggy detection pattern by preventing the occurrence of voids.例文帳に追加
ジャギー検出パターンを増やすことなく、また、白抜けの発生を防止して、写真などの中間調背景付きカラー中間調文字・中間調線画にスムージング処理を施す。 - 特許庁
In order to correct the position deviation of a pattern drawing caused by positioning error by exposure heads 12A to 12H, a read out address region is shifted by ΔS, and raster data are read out from a bit map memory.例文帳に追加
露光ヘッド12A〜12Hの位置決め誤差に起因するパターンの描画位置ずれを修正するため、ΔSだけ読み出すアドレス領域をシフトさせてラスタデータをビットマップメモリから読み出す。 - 特許庁
To quickly and smoothly connect a connection portion of respective line segments constituting a polygonal line to conduct drawing, when a line graphic pattern such as the polygonal line is drawn using the line segments having a line width.例文帳に追加
線幅を有する線分を用いて折れ線等の線図形を描画する際に、折れ線を構成する各線分の接続部分を高速にしかも滑らかに繋いで描画する。 - 特許庁
Related to the insert nut 4, a noise eliminating earth terminal pattern of a printed board 1 is screwed to one end while an earth wire 5 is screwed to the other end, for drawing out an earth.例文帳に追加
インサートナット4は、その一端にはプリント板1のノイズ対策用アース取り出しパターン部分にネジ止めで固定し、他端にはアース線5をネジ止めすることで、アース取り出しを得る。 - 特許庁
To make a slot machine not to be tiresome by changing a execution start timing for indicating the possibility of winning based on the result of a pattern drawing for each time.例文帳に追加
図柄抽選の結果に基づての入賞の可能性を示すための演出の実行開始タイミングを、ゲーム毎に変化させ、退屈を感じさせないようにしたスロットマシンを提供する。 - 特許庁
A Pachinko game machine 1 carries out big winning drawing with an entry to a start winning port as a trigger, determines a basic variation pattern and a performance mode and variably displays a performance symbol.例文帳に追加
パチンコ機1は、始動入賞口への入賞を契機として大当たり抽選を行うとともに基本変動パターン及び演出モードを決定し、演出図柄を変動表示する。 - 特許庁
A pattern drawing apparatus includes a distance detecting part 5 acquiring a detected distance to the principal plane of a substrate 9, and a focusing mechanism 471 adjusting the focus of the light beam from a head.例文帳に追加
パターン描画装置は、基板9の主面との間の検出距離を取得する距離検出部5およびヘッドからの光ビームのフォーカス調整を行うフォーカス機構471を備える。 - 特許庁
To provide a photosensitive element which has high sensitivity even in direct drawing exposure and which is less affected by a void, and a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加
直接描画露光においても高感度であり、且つ、ボイドの影響が少ない感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The transfer paper is used for so called a line drawing for coloring constituted by coating a water soluble paste 2 throughout the top face of a board 1 and further printing a pattern 3 with a flammable ink.例文帳に追加
いわゆる塗り絵として使用する転写紙であって、台紙1の上面全体に水溶性の糊2をコーティングし、さらに可燃性インクで図柄3を印刷して、構成されている。 - 特許庁
To enhance accuracy of drawing, by improing the degradation of positional accuracy in a drawn pattern accompanying changes in the orthogonality of movable mirrors, in a laser interference position detection system for detecting stage position.例文帳に追加
ステージ位置を検出するレーザー干渉位置検出システムの移動ミラーの直交性の変動に伴う描画パターンの位置精度の劣化を改善し、描画精度の向上をはかる。 - 特許庁
Moreover, in the memory 31 of the pattern drawing apparatus, there is stored a point-image intensity distribution 313, acquired by the image pick-up portion 15 when a point light source is arranged at a height of the object plane.例文帳に追加
また、パターン描画装置の記憶部31には、対象面の高さに点光源を配置した場合に撮像部15にて取得される点像強度分布313が記憶されている。 - 特許庁
To provide an apparatus for patterning of a tufted machine, which is capable of freely drawing the pattern over the whole width of the tufted machine and expressing a high designability, at a low cost.例文帳に追加
本発明の課題は、タフテッドマシーンの幅全体にわたって柄を自由に描くことができ、高い意匠性を表現できるタフテッドマシーンの柄出し装置を安価に提供することにある。 - 特許庁
When a jackpot pattern with time shortening is determined by the drawing of a jackpot and a time shortening game state is attained after the end of a jackpot game, the variation time of the normal patterns is controlled to be shortened.例文帳に追加
大当たりの抽選によって時短付き大当たり図柄が決定され、大当たり遊技終了後に時短遊技状態になると、普通図柄の変動時間が短縮制御される。 - 特許庁
To provide a wiring forming method and a manufacturing method of a circuit board, capable of improving connection reliability by controlling the drawing pattern of a liquid material, and to provide an electrode, a thin-film element and a circuit board for improved connection reliability.例文帳に追加
液状材料の描画パターンを制御して、接続信頼性を向上させることができる配線形成方法および回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
This die is manufactured by drawing an image by changing the shape of an electronic beam in such a manner that the edge roughness of the pattern including at least edges other than edges being orthogonal and in parallel may become 30 nm or lower.例文帳に追加
直交及び平行するエッジ以外のエッジを少なくとも含むパターンのエッジラフネスが30nm以下になるように電子ビームの形状を変化させて描画して、型を製造する。 - 特許庁
To provide a pattern drawing apparatus that checks and stocks a mask without conveying it out of the apparatus, whereby contamination and damage of the mask accompanying its conveyance can be prevented.例文帳に追加
マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁
The method includes a step of applying a coordinate shift component randomly generated in the X direction and/or the Y direction by coordinate of each design data constituting a drawing pattern.例文帳に追加
描画パターンを構成する各設計データの座標ごとに、ランダムに発生させたX方向および/またはY方向の座標シフト成分を印加する工程を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
A measure is prepared in a multi-beam charged particle beam apparatus, the measure that can change micro-field size so that each beam will not make a micro field size that is to be drawn become an even-numbered multiple of a drawing pattern size.例文帳に追加
マルチビーム荷電粒子線装置において各ビームが描画する微小フィールドサイズを描画パターンサイズの偶数倍にしない為に、微小フィールドサイズを変更する手段を設ける。 - 特許庁
To prevent drawing data from being very large in amount owing to a smaller beam diameter and higher resolution which are inevitable for a finer pattern to be exposed in a laser beam exposing method.例文帳に追加
レーザビーム露光方法において、露光するパターンの微細化に対応するために不可避となる描画ビーム径や分解能の微細化による描画データの肥大化を防ぐことを課題とする。 - 特許庁
To provide an exposure method and an apparatus for rapidly and efficiently drawing a line image pattern in a large size to be used for an electromagnetic wave shield filter for a PDP.例文帳に追加
本発明は、PDP用電磁波防止フィルタに用いられる大きなサイズの線画パターン描画を迅速、かつ効率よく行うことのできる露光方法、及び装置を得ることである。 - 特許庁
To provide a height measurement method and a charged particle beam lithography apparatus in which drawing accuracy can be enhanced by reducing the height measurement error caused by a pattern formed on a specimen.例文帳に追加
試料に形成されたパターンに起因する高さ測定誤差を低減して、描画精度の向上を図ることのできる高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
To provide a device for decorating a component capable of decorating a correct pattern without any defective drawing by irradiating a surface of a component with laser beam according to an adequate irradiation condition.例文帳に追加
適正な照射条件によってレーザを部品表面に照射して、描画不良のない正確な絵柄を加飾することができる部品の加飾装置を提供すること。 - 特許庁
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