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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > drawing patternに関連した英語例文

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drawing patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1363



例文

Thus, in the pattern drawing apparatus, the inexpensive packaged LED 311 can be used, the cost can be reduced, and the light source is minimized.例文帳に追加

これにより、安価であるパッケージLED311を利用することができ、コストの削減ができるとともに、光源を小型化したパターン描画装置を提供することができる。 - 特許庁

To provide a device for sorting a micromirror device to obtain a drawing pattern with good linearity and no recess in a width or thickness direction, in a maskless exposure apparatus.例文帳に追加

マスクレス露光装置において、幅方向にも厚さ方向にも窪みのない直線性の良い描画パターンを得るためのマイクロミラーデバイス選別装置を提供する。 - 特許庁

To provide a raster scan charged particle beam drawing method for exposing a desired pattern efficiently with high reliability, and to provide an aligner and a process for fabricating a device.例文帳に追加

所望パターンを効率的かつ高い信頼性のもとに露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法、露光装置、及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, when a mode notification pattern is led and displayed on the first display section 11, mode displaying lamps 23, 24 and 25 are used, so that the drawing mode at that point can be displayed.例文帳に追加

そして、第一表示部11にモード報知図柄が導出表示された場合に、モード表示ランプ23,24,25を用い、その時点の抽選モードが表示される。 - 特許庁

例文

A nozzle where a seal material is reserved and a substrate to be coated with the seal material are relatively moved to perform drawing on the substrate in specified pattern from the nozzle.例文帳に追加

シール材を貯留するノズルと、前記シール材を塗布される基板とを、相対的に移動させることで、前記ノズルから前記基板上に所定のパターンで描画を行う。 - 特許庁


例文

A correction calculator 103 reads the correction value for a pattern similar to the relative displacement between the marks from a database 10, and outputs a corrected drawing position to the deflector 36.例文帳に追加

補正演算機103は、マーク間の相対変位に類似したパターンの補正値をデータベース10から読出し、補正された描画位置を偏向器36に出力する。 - 特許庁

When a handwriting stroke is inputted in the dot pattern unit sheet 21 by the electronic pen 1, stroke drawing storage means 353 draws the stroke and stores it in the file.例文帳に追加

ストローク描画記録手段353は、ドットパターン単位用紙21に対して電子ペン1により手書きのストロークが記入されると、そのストロークを描画してファイルに記録する。 - 特許庁

A concentric circular FZP pattern portion 101 is provided on a Ta film on an SiN film by an electron beam drawing technique or the like to form a Fresnel zone plate (FZP) 100.例文帳に追加

SiN膜上のTa膜上に電子線描写などの手法により同心円状のFZPパターン部分101を設けてフレネルゾーンプレート(FZP)100とする。 - 特許庁

By performing a pattern drawing for a predetermined time, an instruction of a controller 90 displaces a location of an illumination system focus lens 435 included in the illumination optical system 43.例文帳に追加

パターン描画が一定時間行われると、制御部90の指示により、照明光学系43が備える照明系フォーカスレンズ435の設置位置を変位させる。 - 特許庁

例文

A consumer pattern 14 is formed by drawing the outline of the shape of the bald spot of the consumer based on each of the specified points and the base point on the screen of the computer.例文帳に追加

上記により特定された各指定点及び上記基点に基づき顧客のはげの形状の輪郭をコンピュータの画面上に描いて顧客パターン14を形成する。 - 特許庁

例文

Then, when the pattern combination is displayed, the main control circuit (71) switches the internal drawing table from the one for the time of the RT operation to the one for the general game state.例文帳に追加

そして、主制御回路(71)は、この図柄組合せが表示されると、内部抽籤テーブルをRT作動中用のものから一般遊技状態用のものに切り換える。 - 特許庁

The drawing (d) indicates the third stage of the standstill variation, the standstill variation is advanced further from the state of (c) and the pattern 'dugong' in 3b3 is also enlarged.例文帳に追加

図中(d)は静止変動の第3段階を示した図であり、(c)の状態から更に静止変動が進行し、3b3の図柄「ジュゴン」についても拡大されている。 - 特許庁

The drop drawing is performed only in start opening prize winning where the number of variation display times of a performance pattern reaches a specific value in a probability variable game state.例文帳に追加

確変遊技状態において演出図柄の変動表示回数が特定の回数に達することになる始動口入賞時にのみ転落抽選を行うようにする。 - 特許庁

A product state display part 36 is illuminated in a predetermined pattern in addition to displaying the face, thereby drawing much attention of consumers to the vending machine.例文帳に追加

また、この顔表示に加えて、商品状態表示部36を所定のパターンでイルミネーション表示することで、消費者の注意をさらに自動販売機に向けることができる。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system which can reduce the influence of electron beam leakage on a sample by dislocating a stage when a pattern-drawing process is suspended.例文帳に追加

描画処理が一時的に停止した場合に、ステージを移動して電子ビーム漏れによる試料への影響を低減することのできる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam lithography device controls the wobbling amount of the master disk at an arbitrary value at drawing picture of a desired pattern on the rotating exposure master disk with the electron beam.例文帳に追加

本発明の電子線描画装置は、回転する露光原盤に電子線で所望のパターンを描画する時に原盤の面振れ量を任意の値に制御する。 - 特許庁

To provide a molding method capable of drawing a pattern on an inner surface of a dish made of resin by two-color molding, and a patterned two-color mold dish made of resin.例文帳に追加

本発明は、二色成形によって樹脂製食器の内面に模様を描くことができる成形方法、及び模様付き二色成形樹脂製食器を提供する。 - 特許庁

Since the system does not require an increase in the frequency of measuring the environmental parameter so as to prevent misregistration, decrease in the production speed by the pattern drawing device is avoided.例文帳に追加

また、位置ずれの発生を防止するために環境パラメータの計測頻度を高める必要はないので、パターン描画装置の生産速度の低下を招くこともない。 - 特許庁

The game machine draws winning/losing, displays a series of images at a pattern display device 56, and notifies a player of the winning/losing of the drawing by finally displayed images.例文帳に追加

遊技機は、当落を抽選するとともに図柄表示器56で一連の画像を表示し、最終的に表示する画像によって抽選の当落を遊技者に知らせる。 - 特許庁

This game machine draws winning and losing, displays a series of images at a pattern display device 56 and reports the winning and losing of drawing to a player by the finally displayed image.例文帳に追加

遊技機は、当落を抽選するとともに図柄表示器56で一連の画像を表示し、最終的に表示する画像によって抽選の当落を遊技者に知らせる。 - 特許庁

The method includes calculating the image obtained when a calculating model of the sphere 10 in which the position for drawing the pattern is marked, is photographed at a specified position by the camera 12.例文帳に追加

次に、模様を描画する位置がマークされた球10の計算用モデルを、特定した位置においてカメラ12で撮像したときに得られる画像を計算する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for projection capable of improving resolution by shifting the phase of modulated light when drawing is carried out according to pattern data.例文帳に追加

パターンデータに応じて描画を行う際に変調光の位相をシフトすることにより、解像度を高めることができる投影装置および投影方法を提供する。 - 特許庁

Further, when the big winning kind is "15R probability non-variation", it becomes easier to determine the re-drawing performance pattern B as the count value of the big winning continuation number-of-times counter is larger.例文帳に追加

また、大当り種別が「15R非確変」である場合、大当り継続回数カウンタのカウント値が大きいほど再抽選演出パターンBに決定されやすくなっている。 - 特許庁

In the DNA chip manufacturing device, an inspection pattern is drawn separately in a prescribed position excepting a drawing area on the chip where the spot group is drawn, by the reaction liquids and a nozzle.例文帳に追加

DNAチップ製造装置において、該チップ上の前記スポット群が描かれる描画領域を除く所定の位置に、該反応液と該ノズルによって別途検査パターンを描く。 - 特許庁

To reduce an instable factor given to drawing by a rotary system of an electron beam lithography apparatus and to stably obtain a desired pattern.例文帳に追加

電子線描画装置の回転系が描画に与える不安定要因を低減することを可能にするとともに安定的に所望のパターンを得ることを可能にする。 - 特許庁

To provide a pattern drawing system capable of accurate proximity effect correction under no influence of a coverage wider than a range that proximity effect reaches.例文帳に追加

近接効果の及ぶ範囲よりも広い範囲の被覆率に影響されることなく、正確に近接効果補正することを可能とするパターン描画システムを提供する。 - 特許庁

An information processor 10 composes a print target drawing wherein a drawing included in an area designated from the drawing data is converted into a magnification corresponding to a size of a designated printer sheet and a pattern image for specifying an optional position on the printer sheet to generate print information, and stores correspondence relation data representing a point on the drawing data to which each point on the printer sheet corresponds.例文帳に追加

情報処理装置10は、製図データの中から指定された領域に含まれる図面を、指定された印刷用紙の大きさに応じた倍率に変換した印刷対象図面と、印刷用紙上の任意の位置を特定するためのパターン画像とを合成して印刷情報を生成し、印刷用紙上の各点が製図データ上の如何なる点に対応するかを表す対応関係データを記憶する。 - 特許庁

The patterning method includes a step of forming a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate, and the method includes steps of preparing a substrate on which an alignment mark to be used for alignment is formed, drawing a first pattern by aligning using the above alignment mark, and drawing a second pattern by aligning using the above alignment mark.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成する工程を有するパターン形成方法において、位置合わせに用いるアライメントマークが形成された基板を準備する工程と、上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第1のパターンを描画する工程と、さらに上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第2のパターンを描画する工程とを含む。 - 特許庁

The photomask is used to manufacture a fine hemispherical structure, such as a microlens, where a gradation pattern 1A, gradually varying in intensity of exposure light from the center part to the peripheral part according to the spherical shape of the hemispherical structure, is formed on a transparent substrate 10 by pattern drawing by means of a drawing device.例文帳に追加

マイクロレンズ等の微小な半球状構造体の製造に用いられるフォトマスクにおいて、透明基板10上に、前記半球状構造体の球面形状に対応させて、露光した光の強度が中心部から周辺部に向けて徐々に変化するような階調パターン1Aを、描画装置によるパターン描画によって形成する。 - 特許庁

In the case of carrying out the performance by the slot machine, the slot machine stores the stopping positions of a plurality of reels in the sub controller in advance to make the sub controller judge the result of pattern drawing or the state of a game based on the stopping positions of patterns by only the signal of the stopping positions of the reels without sending the result of pattern drawing to the sub controller.例文帳に追加

スロットマシンにおいて演出を行う場合、複数のリールの停止位置を、サブ制御装置に予め記憶し、図柄抽選の結果をサブ制御装置に送出せずに、リールの停止位置の信号のみによって、図柄の停止位置に基づいて、図柄抽選の結果または遊技の状態を、サブ制御装置が判断するスロットマシンである。 - 特許庁

In the case of a big winning as a result of drawing in a drawing part, a normal big winning display performance is executed at a first pattern display device 45 on the basis of a variation pattern command and a fanfare display performance is executed at a light guide plate display part 410 arranged on the front surface of a big winning port.例文帳に追加

抽選部の抽選結果、大当りとなる場合、変動パターンコマンドに基づいて第1図柄表示装置45において通常の大当り表示演出が実行されるとともに、当該表示演出が終了する前に、大入賞口の前面に配備された導光板表示部410にファンファーレ表示演出が実行される。 - 特許庁

A drawing information processing section 2 of a drawing apparatus 6 stores, in a pattern table 31 of a database 3, a reduction scale of a logo used for telop or a profile of the telop and when using the same logo for new telop creation later, the pattern table 31 is read out, compared for reference with a profile of telop to be newly designed or the like and re-utilized for telop editing.例文帳に追加

作画装置6の作画情報処理部2は、データベース3のパタンテーブル31にテロップに用いたロゴの縮小率や、テロップのプロファイルを記憶し、後から同じロゴを新たなテロップ作成に用いる時、パタンテーブル31を読み出して新しく設計するテロップのプロファイル等と比較参照してテロップ編集に再利用する。 - 特許庁

In the first stop control table, stop data for preferentially drawing a pattern display mode of the BB symbol combination onto an effective prize winning line is set, whereas in the second stop control table, stop data for preferentially drawing a pattern display mode of the watermelon symbol combination onto the effective prize winning line is set.例文帳に追加

前記第1の停止制御テーブルには前記BB役の図柄表示態様を優先的に有効入賞ライン上に引き込み可能とする停止データが設定され、前記第2の停止制御テーブルには前記スイカ役の図柄表示態様を優先的に有効入賞ライン上に引き込み可能とする停止データが設定されている。 - 特許庁

In a drawing-up board 35 which keeps the intervals between the lead terminals extending from the above ceramic board to a main board, a ground pattern 63 provided along the periphery of the drawing-up plate 35 and lands 63 electrically conducting individually with each lead terminal are made on the surface, and further a capacitor 65 is connected between each land 63 and ground pattern 61.例文帳に追加

上記セラミック基板からメインボードに向かって伸びるリード端子の間隔を保持する整列板35には、その表面に、整列板35の外周に沿って設けられたグランドパターン61と、各リード端子と個々に導通するランド63とが形成されており、更に、各ランド63とグランドパターン61との間には、コンデンサ65が接続されている。 - 特許庁

An drawing instruction/data generation device 1 outputs a drawing instruction/data comprising a plurality of data fields each set with calculation target data and an instruction field set with calculation kind information, and a connection configuration switching pattern generator 2 outputs a connection configuration switching pattern according to contents of the instruction field to a connection configuration switching device 3.例文帳に追加

描画命令・データ発生装置1が、演算種別情報が設定された命令フィールド及び演算対象データが設定された複数のデータフィールドからなる描画命令・データを出力し、接続構成切替パターン生成器2が、命令フィールドの内容に応じた接続構成切替パターンを接続構成切替器3に出力する。 - 特許庁

The main control means 60a transmits information relating to a winning combination drawing result to the sub control means 60b for each game in the game wherein the special winning combination is not won, and the sub control means 60b selects a performance pattern corresponding to the received information relating to the winning combination drawing result and outputs a performance according to the selected performance pattern.例文帳に追加

メイン制御手段60aは、特別役に当選していない遊技では、遊技ごとに役抽選結果に係る情報をサブ制御手段60bに送信し、サブ制御手段60bは、受信した役抽選結果に係る情報に対応する演出パターンを選択し、選択した演出パターンに従って演出を出力する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can display an image which can be easily recognized by a person on a drawing region and of exhibiting excellent advertising/promoting functions, especially when the image is an advertisement, such as a commercial or promotion video, by changing the image processing pattern of the image displayed on the drawing region according to the distance between the drawing region and the person.例文帳に追加

描画領域と人間との距離に応じて、描画領域に表示される画像の画像処理パターンを変更することにより、前記人間に認識され易い画像を描画領域に表示し、特に画像がコマーシャル、プロモーションビデオ等の宣伝である場合に、優れた宣伝広告機能を発揮することのできる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing device for drawing a predetermined pattern by irradiating a mask with a charged particle beam for drawing an image by setting a grounding body 10 comprising a grounding pin 10c vertically installed in a frame-like frame 10a on a mask W in which a grounding body corresponding to the type of the mask can be set and deterioration in throughput can be prevented.例文帳に追加

マスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、額縁状のフレーム10aにアースピン10cを垂設して成るアース体10をマスクWにセットして描画を行うものにおいて、マスクにその種類に応じたアース体をセットでき、且つ、スループットの低下も防止できるようにする。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 has functions of detecting a shift amount in the relative position of respective alignment cameras 41 to 44 with respect to pulse light projected from an optical head 32 and correcting an alignment amount of a substrate 9 and a starting position of drawing on a substrate 9 based on the detected shift amount.例文帳に追加

パターン描画装置1は、光学ヘッド32から照射されるパルス光に対する各アライメントカメラ41〜44の相対位置のずれ量を検出し、そのずれ量に基づいて基板9のアライメント量および基板9の描画開始位置を補正する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device and an alignment method by which drawing can be carried out at an accurate position on a substrate even when a positional relation between a light irradiating unit and an alignment camera changes, without using a high-performance driving mechanism for the alignment camera.例文帳に追加

アライメントカメラに高性能な駆動機構を使用することなく、光照射部とアライメントカメラとの位置関係が変化した場合であっても、基板上の正確な位置に描画を行うことができるパターン描画装置およびアライメント方法を提供する。 - 特許庁

The processing device 33 compares original data with the inspection data by pattern matching or the like by using line data obtained from drawing data as the original data, to determine whether the installation work of the block B is in the prescribed finish state shown by the drawing or not.例文帳に追加

一方、処理装置33は、図面データから得られた線画データを元データとし、この元データと前記検査データとをパターンマッチング等により比較して、ブロックBにおける艤装作業が、図面により示された所定の完成状態になっているかどうか、判定する。 - 特許庁

That is, when the forcing command is set on performance control (S606:Yes), a randomly acquired random number value for drawing is forcibly rewritten with a random number value for enforcement (S616), and then the drawing processing (S618) of the performance pattern is executed.例文帳に追加

すなわち、演出制御上で強制コマンドの設定がされている場合(S606:Yes)、無作為に取得した抽選用乱数値を強制用乱数値によって強制的に書き換え(S616)、その上で演出パターンの抽選処理(S618)を実行する。 - 特許庁

This structure allows the circuit designer to recognize the area wherein pattern formation is restricted without referring to the specification drawing and artwork restriction drawing, resulting in lessening the circuit designer's burden at the time of changing the design of the circuit board.例文帳に追加

これにより、回路設計者はパターンの形成が制限される領域を回路基板の仕様図面やアートワーク制限図を参照することなく認識することが可能となり、回路設計者が回路基板の設計変更を行う際の負担を軽減することができる。 - 特許庁

When determining that the information relating to the drawing result of the symbol combination is not received in the information reception means 70, the sub control means 60b performs control so as to select a performance pattern to be selected when the information relating to the drawing result of the symbol combination is not received.例文帳に追加

サブ制御手段60bは、情報受信手段70で役の抽選結果に係る情報を受信しなかったと判断したときは、役の抽選結果に係る情報を受信しなかったときに選択される演出パターンを選択するように制御する。 - 特許庁

To obtain an electron beam drawing apparatus, where an electron beam is capable of reaching to a shutoff stop edge passing through a distance much smaller than a total deflection amplitude at shutoff and deflection of a beam, a time required for shutting off a beam is markedly shortened, and a drawing pattern is improved in resolution.例文帳に追加

ビーム遮断偏向時の全偏向振幅よりはるかに小さい距離で遮断絞りエッジにビームを到達させ、ビーム遮断までの時間を大幅に短縮して描画パターンのエッジ解像度を向上させることができる電子ビーム描画装置を実現する。 - 特許庁

To provide a photomask data display which masks it possible to accurately and easily confirm whether or not the pattern region of mask data for drawing device and a specified pelicle frame overlap each other on practical level while graphically displaying the mask data for drawing device on the display.例文帳に追加

描画装置用のマスクデータをディスプレイ装置上に図形表示しながら、描画装置用のマスクデータの絵柄領域と所定ペリクル枠との重なりの有無の確認を正確に、且つ、簡単に実用レベルで行なえる、フォトマスクデータ表示装置を提供する。 - 特許庁

When determining that the information relating to the drawing result of the symbol combination is not received in the information reception means 70, the sub control means 60b performs control so as to select a performance pattern to be selected when the information relating to the drawing result of the symbol combination is not received.例文帳に追加

サブ制御手段60bは、情報受信手段70で役の抽選結果に係る情報を受信しなかったときは、役の抽選結果に係る情報を受信しなかったときに選択される演出パターンを選択するように制御する。 - 特許庁

To realize a truth or falsehood discriminable printed matter according to a Fourier transformation pattern of a printing line drawing obtained by embedding various information not visually recognized by a person in a fine printing element for constituting the line drawing for securities without reducing an artistic effect of the printing element.例文帳に追加

印刷画線の持つ美術的な効果減じることなく、証券用線画を構成する細画線に人間の視覚では認識できない多様な情報を埋め込み、印刷線画のフーリエ変換パターンにより真偽判別可能な印刷物を実現する。 - 特許庁

A drawing where the selected ceiling blow-off opening is arranged is generated and the drawing is displayed on a screen (display of the form number of the blow-off opening which can be arranged 5, the calculation of an arranging pattern 6, an arranging image display 7 and the arrangement of blow-off opening 8).例文帳に追加

そして、選定した天井吹出し口を前記居住区域に配設した図面の作成を行い、その図面を画面上に表示する(配置できる吹出し口形番の表示5、配置パターンの計算6、配置イメージ表示7、吹出し口の配置8)。 - 特許庁

例文

In the case of the probability variation mode and in the case of selecting a first opening control pattern in opening control pattern selecting drawing, the movable piece 12a is opened once for the opening time of 6 seconds after the lamps 15a and 15b flicker for 10 seconds.例文帳に追加

確率変動モードでの場合で、かつ開放制御パターン選択抽選で第一開放制御パターンが選択された場合には、ランプ15a,15bが10秒点滅した後に可動片12aが6秒の開放時間で1回開放する。 - 特許庁




  
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