「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

Next, the drawing pattern multiplexing apparatus 1 determines a grid angle for each pixel based on the converted normal information and creates artwork data expressing the irregularities of the cell groups included in all of the cell groups by an artwork data creation means 29.例文帳に追加

次に、図柄多重化装置１は、版下データ作成手段２９によって、変換法線情報に基づいて画素ごとに格子角度を決定し、全てのセルグループに含まれるセル群の凹凸を表現する版下データを作成する。 - 特許庁

In the respective discharge patterns expressed by discharge pattern numbers 0-11, data such as the kind of the flag of a discharge object, the number of the discharge and the number of a table to be used for drawing for deciding the number of the games until the discharge are set.例文帳に追加

０〜１１の放出パターン番号により表される各放出パターンには、放出対象のフラグの種類、放出数、放出までのゲーム数を決める抽選に使用するテーブルの番号などのデータが設定される。 - 特許庁

At the time of winning in drawing, a performance device controller (performance device control part 109) drives a performance device 309 freely turnably attached at a position to cover a part of each reel and covers a part of each reel including a winning pattern.例文帳に追加

演出装置制御装置（演出装置制御部１０９）が、抽選に当選したとき、各リールの一部を覆う位置に回動自在に取り付けられた演出装置３０９を駆動して当選絵柄を含む各リールの一部を覆う。 - 特許庁

Blanking by a blanking control unit 31 is eliminated by making the circumferential direction movement velocity Vsub of a substrate and a beam deflection velocity Vbeam higher in a segment R2 in which a drawing pattern is sparse, and making Vsub and Vbeam lower in segments R1 and R3 which are dense.例文帳に追加

描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。 - 特許庁

Drawing is performed on the basis of the entry of a game ball to a big game port, derivation of various kinds of game states is decided, fluctuation display is started in a big game pattern display device and stop display is performed after a prescribed time.例文帳に追加

遊技球の大物口への入球に基づいて抽選が行われ、各種遊技状態の導出が決定されるとともに、大物図柄表示装置において変動表示が開始され、所定時間後、停止表示させられる。 - 特許庁

When a jackpot pattern with time shortening is determined by the drawing of a jackpot and a time shortening game state is attained after the end of a jackpot game, the variation time of the normal patterns is controlled to the second time made shorter than the first time.例文帳に追加

大当たりの抽選によって時短付き大当たり図柄が決定され、大当たり遊技終了後に時短遊技状態になると、普通図柄の変動時間が第１の時間よりも短縮された第２の時間に制御される。 - 特許庁

The EL sheet make only a drawn portion possible to emit light by arbitrarily drawing a desired letter or a pattern on the other face of the substrate 1 by using a electrically conductive material 6 having light-permeability.例文帳に追加

このＥＬシートは、透明フィルム基板１の他方の面に、光透過性を有する通電性物質６を用いて任意に所望の文字やパターンなどを描画することにより、描画した部分だけを発光可能とするものである。 - 特許庁

(1) Photosensitive resist ink containing a 2,4,5-triallyl imidazole dimer or its derivative, or acridine or its derivative is used as the photosensitive resist ink used for forming the resist pattern by the direct resist drawing method.例文帳に追加

（１）レジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられる感光性レジストインクにおいて、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体又はその誘導体、もしくはアクリジン又はその誘導体を含有する感光性レジストインクを用いる。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus which uses a lamp as a light source and a micro-mirror device, in which it is not necessary to make ultraviolet light incident from an oblique side to the micro-mirror device, and in which an optical path of reflected ultraviolet light is not disturbed.例文帳に追加

光源としてのランプとマイクロミラーデバイスを用いたパターン描画装置で、マイクロミラーデバイスに対して紫外光を斜めから入射させる必要がなくかつ反射した紫外光の光路を邪魔しない装置を提供する。 - 特許庁

In the pattern drawing system, a plurality of light beams emitted from a light source unit are guided to each of a plurality of irradiation regions 61 arrayed at a specified pitch with respect to an X direction on a substrate by an optical system.例文帳に追加

パターン描画装置では、光源ユニットから出射される複数の光ビームが、光学系により基板上においてＸ方向に関して一定の照射ピッチで配列される複数の照射領域６１のそれぞれへと導かれる。 - 特許庁

To provide a vehicular illumination device capable of drawing some patterns of the same shape and same size irrespective of a distance ranging from a vehicle when optical images including a predetermined pattern are projected onto a road surface in front of the vehicle.例文帳に追加

車両前方の路面上に所定パターンを含む光画像を投影する場合に、車両からの距離に拘らず、同じ形状及び大きさのパターンを描画することができる車両用照明装置を提供する。 - 特許庁

To realize a technique capable of reducing the greenhouse effect in a building, which facilitates the drawing of a picture, pattern, character, color on the wall surface of the building and allows the change of display contents by use of natural force such as rain or sunshine.例文帳に追加

建造物の壁面に容易に絵画や模様、文字、色彩を描写できると共に、降雨や日照といった自然力を利用して表示内容を変更可能であり、ビル内の温室効果を低減することができる技術の実現。 - 特許庁

A display screen F of a pattern display device 6 is split to generate a plurality of stage image regions t in which stage images p having mutually different drawing concepts are drawn, and a collective pattern generating process is executed in which pattern generating processes for starting the change of special patterns A, B, C to be determined are executed and displayed in parallel in the stage image regions t.例文帳に追加

本発明は、図柄表示装置６の表示画面Ｆを分割し、各個で描出概念が相互に異なるステージ画像ｐが描出される複数のステージ画像領域ｔを生成するとともに、各ステージ画像領域ｔで、夫々特別図柄Ａ，Ｂ，Ｃを変動開始し確定に至る図柄生成行程が並行して実行表出される集合図柄生成行程を実行するようにした。 - 特許庁

The method of manufacturing a master mold for nanoimprint comprises forming a pattern on a resist-applied silicon substrate by electron beam drawing to prepare a silicon master, separating a master mold having a rugged pattern reverse to a resist pattern of the silicon master formed by electroforming, from the silicon master, and then eliminating resist residue on the surface of the master mold by irradiation of plasma containing atomic hydrogen.例文帳に追加

レジストを塗布したシリコン基板に電子線描画によってパターンを形成してシリコン原盤を作製した後、電鋳により形成された前記シリコン原盤のレジストパターンと逆の凹凸パターンを有するマスターモールドを前記シリコン原盤から剥離した後、原子状水素を含むプラズマの照射で前記マスターモールドの表面のレジスト残渣を除去することを特徴とするナノインプリント用マスターモールドの製造方法。 - 特許庁

The image output device is provided with a pattern acquisition means for acquiring rectangular patterns specified by a parameter, a means for drawing the specified rectangular patterns within a range of a specified graphic so that they are paved like tiles, a means for caching the once specified rectangular patterns and a pattern retrieving means for retrieving whether or not the rectangular pattern corresponding to an optional parameter exists in a cache.例文帳に追加

本発明の画像出力装置は、パラメータにより指定された矩形パターンを取得するパターン取得手段と、指定された図形の範囲内を指定された矩形パターンをタイル状に敷き詰めるように描画する手段と、一度指定された矩形パターンをキャッシュする手段と、任意のパラメータに対応した矩形パターンがキャッシュ内に存在するかを検索するパターン検索手段とを有する。 - 特許庁

When drawing a pattern in a linear area extending in a main scanning direction in each main scanning which represents an outward route or a return route, a plurality of detected distances are obtained with respect to the linear area where a pattern is to be drawn in the next main scanning; and the focus adjustment is performed in a plurality of times by using the plurality of detected distances obtained in the last main scanning.例文帳に追加

往路または復路である各主走査において主走査方向に伸びる線状領域にパターンを描画する際に、次の主走査にて描画が行われる線状領域に対して複数の検出距離が取得され、直前の主走査にて取得された複数の検出距離を用いて複数回のフォーカス調整が行われる。 - 特許庁

To provide printed matter with image lines partially provided with characters, which enables only a person knowing the following information to recognize the existence of microcharacters on a genuine article, though the mere constitution of a line-drawing pattern is recognized to the naked eye by randomly constituting the microcharacters using some of the image lines, without restrictions on a pattern constituting the printed matter.例文帳に追加

印刷物を構成する模様に制限を掛けず、画線の一部を利用した微小な文字をランダムに構成することで、肉眼では単に線画模様が構成されているように認識されるが、その情報を知っている者に限り、真正品には当該微小文字の存在が認識可能な画線の一部に文字を有した印刷物を提供する。 - 特許庁

To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスク６０の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板１に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン３’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁

A display controller which receives a variation pattern command from a main controller can select by drawing a display performance capable of executing a second display performance including suggestion information suggesting the contents of a third display performance for two or more times during the period of a first display performance when selecting the display pattern of the display performance.例文帳に追加

主制御装置からの変動パターンコマンドを受信した表示制御装置は、表示演出の表示パターンを選択する際に、第１表示演出の期間中に第３表示演出の内容を示唆する示唆情報を含んだ第２表示演出を複数回行うことが可能な表示演出を抽選で選択することができる。 - 特許庁

Stabilization of drawing of servo control at the time of recording and reproduction of the optical disk type hologram recording medium is enhanced by performing readout (S3) of the special pattern from the hologram recording medium and performing tilting, focusing and fine adjustment servo control of wavelength of a light source by using the special pattern (S4 to S6) at the time of recording and reproduction.例文帳に追加

そして、記録又は再生の時にホログラム記録媒体から特殊パターンを読み取り（Ｓ３）、その特殊パターンを用いてチルティング、フォーカシング及び光源の波長のサーボ制御の微調整を行うことにより（Ｓ４〜Ｓ６）、光ディスクタイプのホログラム記録媒体の記録／再生時のサーボ制御の引き込みの安定化を向上させた。 - 特許庁

In the method, a conductive circuit is readily formed at low cost by drawing a circuit pattern on an insulating substrate by using an organic material containing a metal particle, especially a metal particle which is subjected to anti-oxidation treatment in a surface, and by baking the circuit pattern by heating and treating at a temperature of 5% loss weight temperature ±10°C of the organic material.例文帳に追加

金属粒子、特に、表面に抗酸化処理を行った金属粒子、を含有する有機材料を用いて絶縁基板上に回路パターンを描画し、該回路パターンを有機材料の５％減量温度±１０℃の温度で加熱処理して焼成し、簡便かつ安価に導電回路を形成することを特徴とする導電回路の形成方法。 - 特許庁

The method of forming wiring includes: jetting a colloidal metal solution onto a receptive layer base material having a porous receptive type layer formed on the surface thereof by an inkjet system based on image data of a conductive pattern and drawing; and then executing migration-proof treatment for applying a migration-proof solution to form a wiring having the conductive pattern.例文帳に追加

多孔質型受容層が表面に形成された受容層付基材上に、導電性パターンの画像データに基づいて、金属コロイド溶液をインクジェット方式により吐出して描画した後、マイグレーション防止溶液を塗布するマイグレーション防止処理を行って前記導電性パターンを持つ配線を形成することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

When slight focus adjustment is made to the photoirradiation part 4, the pattern-drawing device minutely moves the mask part 42, by means of the mask part-minutely moving mechanism 43, vertically along the optical axis formed by the mask part 42 and the projection optical system 44, to fit the mask pattern of the mask part 42 to an optically conjugate position to the objective surface of the substrate.例文帳に追加

パターン描画装置では、光照射部４のフォーカス微調整が行われる際に、マスク部４２をマスク部微動機構４３によりマスク部４２と投影光学系４４とを結ぶ光軸に沿う上下方向に微小に移動することにより、基板の対象面に対して光学的に共役な位置にマスク部４２のマスクパターンを一致させる。 - 特許庁

In order for high-speed pattern drawing, a switch SWx so acts that a DA converter 24X and an amplifier 25X are connected together under command from a control device, while a switch SWy so acts as to connect a DA converter 24Y to an amplifier 25Y.例文帳に追加

高速パターン描画を行う場合には、制御装置（図示せず）の指令により、ＤＡ変換器２４Ｘとアンプ２５Ｘが繋がるようにスイッチＳＷｘが作動し、ＤＡ変換器２４Ｙとアンプ２５Ｙを繋ぐ様にスイッチＳＷｙが作動する。 - 特許庁

The device calculates a displacement amount and an inclination angle of each exposure region based on the coordinates of each alignment mark and draws a pattern on the upper face of the substrate 9 while correcting a drawing position according to the calculated displacement amount and the inclination angle.例文帳に追加

そして、各アライメントマークの座標に基づいて各露光領域の位置ずれ量および傾き角度を算出し、算出された位置ずれ量および傾き角度に応じて描画位置を補正しつつ、基板９の上面にパターンを描画する。 - 特許庁

In details, with irradiation being properly switched on/off in synchronization with the rotation of the raw material 1, depending on a drawing pattern for the hydrodynamic pressure generation part to be formed, the laser beams L scan the raw material 1 on its surface 1a along the direction of its axis of rotation.例文帳に追加

詳細には、素材１の回転に同期して、形成すべき動圧発生部の描画パターンに応じて、照射のＯＮ・ＯＦＦを適宜切換えつつ、素材１の表面１ａ上をその回転軸方向に沿ってレーザ光Ｌで走査する。 - 特許庁

This pattern drawing device executes an exposure process of a substrate 90 based on synthetic data 824 obtained by synthesizing irradiation data corresponding to respective regions on the substrate 90 by a logical OR calculation process of obtaining a maximum value of an irradiation intensity value on an irradiation position (pixel) basis.例文帳に追加

基板９０上の各領域に対応する照射データを照射位置（画素）ごとの照射強度値の最大値を求める論理和演算処理によって合成した合成データ８２４に基づいて、基板９０の露光処理を行う。 - 特許庁

In such a pattern drawing apparatus 100, the line beam in which positional variation is reduced is introduced to a modulation element 537 by the amount of light adjustment unit 550, and thereby exposure in which variation in the amount of light is reduced among pixels can be obtained.例文帳に追加

パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 - 特許庁

In the time shortening premium opportunity, when a jackpot pattern with time shortening is determined by the drawing of the jackpot, the time shortening game state generated after the end of the jackpot game continues until the variable display of the special patterns is performed 100 times at maximum.例文帳に追加

時短割増機会において、大当たりの抽選により時短付き大当たり図柄が決定されると、大当たり遊技終了後に発生する時短遊技状態は、特別図柄の変動表示が最大で１００回行われるまで継続する。 - 特許庁

At pattern drawing, the positional deviation amount of a sample is acquired from the pre-stored data based on the temperature fluctuation of the sample stage, and the positional deviation amount is corrected by a deflection control system 115 or a laser measurement system 109, and an electron lens control system 117.例文帳に追加

パターン描画時に、試料ステージの温度変動をもとに、予め記憶しておいたデータから試料の位置ずれ量を求め、偏向制御系１１５またはレーザ測定系１０９、電子レンズ制御系１１７で位置ずれ量の補正を行う。 - 特許庁

Particle beam is created, the particle beam is directed through pattern drawing means that creates a number of beams using aperture array means 203 and blanking means 202, and all of the remainings form a patternized particle beam pb as a whole.例文帳に追加

粒子ビームを生成し、アパーチャアレイ手段（２０３）およびブランキング手段（２０２）を用いて粒子ビームを多数のビームを生成するパターン描画手段を通して方向づけ、残りの全部が全体としてパターン化された粒子ビーム（ｐｂ）を形成する。 - 特許庁

Concretely saying, a width of an overlapping region generated when scanned is brought into 50 μm or less, when exposing a resist pattern on a TFT substrate, by conducting a plurality of scans with an exposure light a plurality of times, by a direct drawing exposure machine.例文帳に追加

具体的には、直描露光機で複数回の露光光を複数回走査することで、ＴＦＴ基板上のレジストパターンを露光する際に、走査する際に生じる露光領域の重複領域幅を５０μｍ以下にすることで実現できる。 - 特許庁

When the pressure force received by the stop button is not more than the reference value, the CPU and the reel driving controller controls the stop of the first to third reels 14a-14c, while referring to the stop table by which the drawing range of the small role pattern is defined as five frames.例文帳に追加

ストップボタンが受けた押圧力が基準値以下だった場合、ＣＰＵ及びリール駆動コントローラは小役図柄の引き込み範囲を５コマとする停止テーブルを参照しながら第１〜第３リール１４ａ〜１４ｃの停止制御を行う。 - 特許庁

Based on the CAD drawing on which such a pattern is arranged, the dimensional amount of the plurality of marking positions based on a predetermined coordinate reference is determined (S5), a list of the dimensional amount of the marking positions is created (S7), and the list of the dimensional amount is outputted (S8).例文帳に追加

このようなパターンが配置されたＣＡＤ図面に基づいて、所定の座標基準を基準とした複数の墨位置の寸法量を求めて（Ｓ５）、墨位置の寸法量の一覧を作成し（Ｓ７）、寸法量の一覧を出力する（Ｓ８）。 - 特許庁

In this time, the drawing condition discriminating means 38 generates under the condition that a retaining part at the time when a starting means 14 detects game balls during variation operation of a pattern indication means 12 is stored in memory or the retaining number has a certain quantity.例文帳に追加

その際、抽選状態区分手段３８は、図柄表示手段１２の変動動作中に起動手段１４が遊技球を検出したときの保留分の記憶があること、又は保留個数が或る個数であることを条件に発動する。 - 特許庁

While staying in a low latent probability mode, it is assumed that a variation pattern to which a super shortening variation is made to correspond as variation contents is selected and shift drawing for determining whether to shift from the low latent probability mode to a high latent probability mode is won.例文帳に追加

低潜確モード滞在中に、変動内容として超短縮変動が対応付けられた変動パターンが選択されるとともに、低潜確モードから高潜確モードへ移行させるか否かを決定する移行抽選に当選したとする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board by making a drawing on a base with a liquid prepared by dispersing conductive particles in a solvent, the method having improved work efficiency while holding excellent contact between the base and a wiring pattern.例文帳に追加

導電性粒子を溶媒に分散させた液体を基材に描画し配線基板を製造する方法において、基材と配線パターンの良好な密着性を保持したまま、作業性を向上させることができる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of generating an exposure pattern that reduces the total number of drawing figures by changing a rectangles containing transverse lines to a one containing no transverse lines in consideration of an angle and a width through the use of two parameters to improve throughput while maintaining accuracy.例文帳に追加

２つのパラメータで角度、幅を配慮して、斜め線を含む矩形を斜め線を含まない矩形に変更することで総描画図形数を減らし、精度を保持したままスループットを向上させる露光パターン生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate positioning apparatus improved in accuracy and the yield of a reticle by correcting a reticle precursor position by measuring slippage of a pattern center with respect to a reticle center in a mask drawing apparatus, and to provide a substrate positioning method.例文帳に追加

マスク描画装置内でレチクル中心に対するパターン中心のズレを測定し、レチクル原版位置を修正することができ、レチクルの精度と収率の向上を図ることができる基板位置決め装置及び基板位置決め方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can cope with both wavelengths used for a direct drawing exposure method, has excellent photo sensitivity, and can improve the tent reliability and adhesion of a formed resist film and the resolution of a formed resist pattern.例文帳に追加

直接描画露光法に用いられる両波長に対応可能で、光感度に優れ、形成したレジスト膜のテント信頼性や密着性及び形成したレジストパターンの解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

On the display device 21, an identification pattern is displayed and varied based on a drawing result performed caused by the behavior of a game medium, and the special game state is led with a prescribed display mode.例文帳に追加

一方、特別図柄表示装置２１には識別図柄が表示され、遊技媒体の挙動に起因して行った抽選結果に基づいて該識別図柄が変動されると共に、所定の表示態様をもって特別遊技状態が導出される。 - 特許庁

When a residual capacity of a battery is reduced with a content on an electrophoretic display body 13, the electrophoretic display body 13 is rewritten with a random pattern wherein pixels in same rows are smeared out by a drawing color and a background color of the content.例文帳に追加

電気泳動表示体１３にコンテンツが表示されているときに、電池残量が少なくなると、同一行の画素がコンテンツの描画色と背景色とで塗りつぶされたランダムパターンによって電気泳動表示体１３を書き換えるようにした。 - 特許庁

Two or more thin film-formed substrates are bonded together with the adhesive layer through a process, and the inexpensive bonding device equipped with a pressurizing contactor that performs pressurization drawing a spiral pressurizing pattern, without producing any air bubbles or voids.例文帳に追加

接着層による薄膜形成基板の２枚以上の接合において、スパイラル状の加圧軌跡を描きながら加圧を行う加圧接触子を持つ接合装置により気泡及びボイドが無く、高精度な接着層を、安価な装置、プロセスにより実現する。 - 特許庁

When one organic EL element is short-circuited, almost all the driving currents Ids flow in the organic EL elements, and the current flow to the drawing-out pattern 509 to burn off it by heat generation, and the damaged organic EL element is automatically changed from a short-circuit sate to an open-circuit state.例文帳に追加

何れか１つの有機ＥＬ素子がショートしたとき、それに駆動電流Ｉdsのほぼ全て流れるが、引出しパターン５０９を流れ発熱し焼き切れて、損傷のある有機ＥＬ素子がショートからオープンに自動的に変化する。 - 特許庁

The droplet ejection apparatus 3 includes a droplet ejection member 65 comprising a droplet ejection head for drawing a prescribed pattern on a substrate by ejecting droplets thereonto, and a post treatment section 70 for carrying out the post treatment of the substrate onto which droplets have been ejected.例文帳に追加

液滴吐出装置３は、サブストレート基板に液滴を吐出して所定のパターンを描画する液滴吐出ヘッドを含む液滴吐出部６５と、液滴が吐出されたサブストレート基板に後処理を施す後処理部７０と、を備えている。 - 特許庁