1016万例文収録!

「dry structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > dry structureに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

dry structureの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 486



例文

The toner for dry electrostatic charge image development contains at least a binder resin, a coloring material and a release agent, wherein the toner has a core-shell structure, the core comprises a resin having a polyester skeleton, and the shell layer comprises a styrene-acrylic resin and an acrylic resin.例文帳に追加

少なくとも結着樹脂、着色材、離型剤を含有する乾式静電荷像現像用トナーにおいて、前記トナーはコアシェル構造を有し、コアは、ポリエステル骨格を有する樹脂からなり、前記シェル層が、スチレン−アクリル系樹脂とアクリル系樹脂とにより構成されることを特徴とする乾式静電荷像現像用トナー。 - 特許庁

The hydrogel sheet 10 for concrete modification includes a gel sheet having a three-dimensional net structure which includes a water-soluble organic polymer and a water-swellable clay mineral and is impregnated with the electrolyte solution having an ion concentration of ≥0.1-≤15 mol/kg-H_2O, provided that the weight ratio of the electrolyte solution to the dry gel sheet is 2-100.例文帳に追加

水溶性有機高分子と水膨潤性粘土鉱物とからなる三次元網目構造を有するゲルシートに、イオン濃度0.1mol/kg−H_2O以上15mol/kg−H_2O以下の電解質溶液を乾燥ゲルシート重量に対して2倍〜100倍保持させてなるコンクリート改質用ヒドロゲルシート10である。 - 特許庁

When formed by dry etching in a laminate structure comprising a high carbon concentration insulating film 114 and a low carbon concentration insulating film 116 containing no carbon or having a low carbon concentration, the groove is formed in the low carbon concentration insulating film 116 under a first etching condition using a first etching gas to which a CHF-based gas is added, and then a high carbon concentration insulating film 114 is exposed from a wiring groove bottom part.例文帳に追加

高炭素濃度絶縁膜114と、炭素を含まないまたは炭素濃度が低い低炭素濃度絶縁膜116との積層構造にドライエッチングで配線溝を形成する際、CHF系ガスを添加した第1のエッチングガスを用いた第1のエッチング条件で低炭素濃度絶縁膜116に配線溝を形成し、当該配線溝底部に高炭素濃度絶縁膜114を露出させる。 - 特許庁

By virtue of such a structure, as the accumulation of the stored substance proceeds, the air supply port in the lower part of the air supply duct is buried, and air is supplied from the air supply port in the upper part thereof to the surface of the stored substance, so that dry air can be supplied from the air supply port near the surface of the stored substance even when the gradually accumulated stored substance is in any state.例文帳に追加

このような構造を有することにより、貯留物の堆積の進行に伴って給気ダクトの下方の給気口が埋没し、上方の給気口から貯留物表面に送気がなされるため、徐々に堆積する貯留物がいずれの状態であっても、貯留物表面近傍の給気口から乾燥空気を供給することができる。 - 特許庁

例文

A bathroom drying machine 1 and the bath mat device 10 are constituted into such a structure as using machines in common as a system, so that air is sent from a bathroom drying machine 1 to dry the bath mat 11; and exhaust heat is exhausted outdoors from an exhaust duct 9 of the bathroom drying machine 1 so as to improve the environment of the dressing room.例文帳に追加

浴室乾燥機1と足拭きマット装置10をシステムとして、機器の共有構造で構築することで、浴室乾燥機1から送風を取り込み、足拭きマット11を乾燥させることを可能としたものであり、排気熱を、浴室乾燥機1の排気ダクト9から屋外に排出することで、脱衣室の環境を改善する。 - 特許庁


例文

The method for manufacturing an antireflection film includes the steps of applying a coating composition made by mixing the following (A)-(D) components onto a base material to form a coating film; vaporizing a solvent from the coating film to dry the coating film; curing the coating film to form a cured layer, in this order, and forms a multilayer structure with different refractive indexes from the coating composition.例文帳に追加

下記(A)〜(D)成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

The solid acid catalyst comprising the porous ion exchanger is characterized in that an open-cell structure having mesopores with a mean diameter of 1-1,000 m is provided in walls of macropores and micropores connected to each other, a total pore volume is 1-50 ml/g, a cation exchange group is uniformly distributed and cation exchange capacity is 0.5 mg equivalent/g dry porous body or more.例文帳に追加

互いにつながっているマクロポアとマクロポアの壁内に平均径が1 〜1,000 μm のメソポアを有する連続気泡構造を有し、全細孔容積が1 〜50ml/gであり、陽イオン交換基が均一に分布され、陽イオン交換容量が0.5mg 等量/g乾燥多孔質体以上の多孔質イオン交換体からなる固体酸触媒。 - 特許庁

To provide a coke dry quenching facility without requiring a bucket for charging red-heat coke into a coke-cooling apparatus, a crane for winding up the bucket and a structure therefor, capable of reducing an amount of coke accompanied by a cooling gas, saving dust catcher on rear flow side and reducing countermeasure for wear of circulation gas duct and boiler.例文帳に追加

赤熱コークスをコークス冷却装置に投入するためのバケット、バケットを巻き上げるクレーン及びそのための架構を必要とせず、また、冷却ガスに随伴されるコークス量も低減でき、後流側のダストキャッチャーの省略、循環ガスダクトおよびボイラの摩耗対策の削減が可能となるコークス乾式消火設備の提供。 - 特許庁

The method for producing the alkaline earth metal aluminophosphate having an AFI structure comprises keeping a dry gel comprising a mixture of (i) an alkaline earth metal source, (ii) an aluminum source, and (iii) a phosphorous source in a powdery state at a temperature of 90-200°C in the presence of steam and triethylamine vapor.例文帳に追加

(i)アルカリ土類金属源と、(ii)アルミニウム源と、(iii)リン源との混合物からなるドライゲルを、粉末状態において、水蒸気及びトリエチルアミン蒸気の存在下で90〜200℃の温度に保持することを特徴とするAFI構造を有するアルカリ土類金属アルミノホスフェートの製造方法。 - 特許庁

例文

The sensor part of the infrared detection device of thermal-type forms the micro air bridge structure 11 on the SOI substrate 27 by the ICP dry etching process, the semiconductor diode part 18 comprising a plurality of p-n junction diodes in its active region 12 is formed, and the metal reflecting film 15 and the infrared-absorbing layer 14 are provided there, in this order.例文帳に追加

熱型赤外線検出装置のセンサ部は、SOI基板27上にICPドライエッチングプロセスによってマイクロエアブリッジ構造体11を形成し、その活性領域12に複数のpn接合ダイオードからなる半導体ダイオード部18を形成し、その上面に金属反射膜15および赤外線吸収層14を順に設ける。 - 特許庁

例文

The silver salt photothermographic dry imaging material has on a support a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains, a non-photosensitive silver salt of an aliphatic carboxylic acid, a silver ion reducing agent, and a binder resin, wherein the photosensitive layer contains a silver ion reducing agent of a specific structure.例文帳に追加

支持体上に、感光性ハロゲン化銀粒子、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩、銀イオン還元剤及びバインダー樹脂を含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層が、特定の構造の銀イオン還元剤を含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 - 特許庁

This ink storage member A for a writing utensil stores the ink for a writing utensil and is of a multilayered structure including at least the organic polymer whose oxygen permeability coefficient is not more than 10^-10(cc cm/cm^2 sec cmHg) at 25°C in a dry condition.例文帳に追加

筆記具用インキを収容する有機高分子から構成される筆記具用インキ収容部材Aであって、該筆記具用インキ収容部材が少なくとも酸素透過係数が25℃Dryで10^−10(cc・cm/cm^2・sec・cmHg)以下の有機高分子を含む多層構造からなることを特徴とする筆記具用インキ収容部材。 - 特許庁

The method for manufacturing a three-dimensional structure includes: a step of preparing the substrate 200; a mask forming step of forming the etching mask 204 to the surface of the substrate 200 by using the method for forming the etching mask; and an etching step of dry-etching the substrate from a diagonal direction using the etching mask 204 and of forming a plurality of holes.例文帳に追加

また、3次元構造体を製造するに際して、基板200を準備する工程と、前記基板200表面に、上記したエッチングマスクの形成方法を用い、エッチングマスク204を形成するマスク形成工程と、前記エッチングマスク204を用い、前記基板を斜め方向からドライエッチングして複数の開孔を形成するエッチング工程と、を有する製造方法を用いる。 - 特許庁

Furthermore, after forming a resist pattern on the piezoelectric substrate, the lower layer electrode film, the upper layer electrode film, and the coating electrode film are sequentially formed and an anisotropic dry etching is applied to the element 1 to etch only the upper side of the coating electrode film and then the resist is exfoliated to obtain an electrode structure where the coated electrode film is formed on the side faces only.例文帳に追加

また、圧電基板にレジストパターンを形成した後、下層電極膜、上層電極膜、被覆電極膜を順に形成し、次いで、異方性ドライエッチングによって、被覆電極膜の上面のみをエッチングし、その後、レジストを剥離して、側面部のみに被覆電極膜が形成された電極構造を得る。 - 特許庁

To provide a method by which an atmosphere of a gas layer between a discharge surface of a spinneret and a liquid surface of a coagulation bath is kept uniform without using a device for spinning of a complicated structure when spinning is carried out by a dry-jet wet spinning method and acrylonitrile-based precursor fibers having a dense surface and high homogeneity can be produced even when a spinning environment fluctuates.例文帳に追加

乾湿式紡糸法にて紡糸するに際して、複雑な構造の紡糸装置を用いることなく、紡糸口金の吐出面と凝固浴の液面の間の気体層の雰囲気を均一に保ち、紡糸環境が変動しても表面が緻密で均質性の高いアクリロニトリル系前駆体繊維を製造できる方法の提供。 - 特許庁

In a solid polymer electrolyte type fuel cell 10, the composition and the structure of the catalyst layers i2 and 15 of the electrodes 14 and 17 are made to differ a reaction gas flow direction upstream side from the downstream side so as to improve the dry-up resistance in the upstream side of the reaction gas flow direction and the flooding resistance in the downstream side.例文帳に追加

固体高分子電解質型燃料電池10において、電極14、17の触媒層12、15の組成、構造を、反応ガス流れ方向上流側で耐ドライアップ性向上、下流側で耐フラッディング性向上となるように、反応ガス流れ方向上流側と下流側で異ならせた燃料電池10。 - 特許庁

The fiber structure compounded with the functional farm product wastes is obtained by the process such that vegetable fibers, thermofusible thermoplastic fibers and the functional farm product wastes are subjected to blending/heat treatment by dry fiber accumulation technique to effect mutual fiber fusing into a sheet, which is then formed by hot-press working.例文帳に追加

植物繊維と熱融着可能な熱可塑性繊維および機能性を有する農産廃棄物とを乾式積繊法にて混合・熱処理を施すことにより繊維同士を融着させてシート状となし、熱プレス加工により該シートを成形してなる機能性を有する農産廃棄物を複合化したことを特徴とする繊維構造体である。 - 特許庁

After an n-type AlInP clad layer 11, an active layer 12 having a multiple quantum well structure, a p-type AlInP clad layer 13, and a p-type GaAs layer 14 are grown in sequence on an n-type GaAs substrate via an n-type GaAs etching stop layer, those layers are patterned through dry etching using a resist pattern 19 having a rectangular plane shape as a mask.例文帳に追加

n型GaAs基板上にn型GaAsエッチングストップ層を介してn型AlInPクラッド層11、多重量子井戸構造を有する活性層12、p型AlInPクラッド層13およびp型GaAs層14を順次成長させた後、長方形の平面形状を有するレジストパターン19をマスクとしてこれらの層をドライエッチングによりパターニングする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor light emitting element comprises the steps of dry etching a group III-V nitride-based semiconductor layer 10 of a laminated structure of an n type semiconductor layer 3, a luminous layer 4, and a p type semiconductor layer 5 at a relatively low first rate, and thereafter etching the group III-V nitride-based semiconductor layer 10 at a final rate faster than the first rate.例文帳に追加

本実施形態に係る半導体発光素子の製造方法では、n型半導体層3と、発光層4と、p型半導体層5の積層構造からなるIII−V族窒化物系半導体層10を相対的に遅い第1速度でドライエッチングした後に、最終的に第1速度よりも速い第2速度でIII−V族窒化物系半導体層10をエッチングする。 - 特許庁

The ink ejection mechanism 3 for black ink, ink ejection mechanism 5 for cyan ink, ink ejection mechanism 7 for magenta ink, and ink ejection mechanism 9 for yellow ink have the same structure, and each of the ink ejection mechanisms 3, 5, 7, 9 is equipped with an ink cartridge 13 having a dry battery 11 mounted thereon, a driving circuit 15 and an actuator 17 forming the print head.例文帳に追加

黒インクのインク吐出機構3、シアンインクのインク吐出機構5、マゼンタインクのインク吐出機構7、及びイェローインクのインク吐出機構9は、いずれも構成が同一であり、いずれのインク吐出機構(3、5、7、9)も、夫々乾電池11を搭載したインクカートリッジ13と、駆動回路15と、印刷ヘッドを構成するアクチュエータ17とを備える。 - 特許庁

To prevent electrical disconnection caused by furthering side etching in a Ti layer due to the exposure of a W layer when removal is performed by dry etching in the case of forming, on a contact provided with a W plug, an interconnection layer with a structure of Ti/TiN/Al alloy/TiN and with approximately the same width as the contact.例文帳に追加

Wプラグを有するコンタクト上にTi/TiN/Al合金/TiN構造でコンタクトとほぼ同じ幅の配線層を形成する場合において、ドライエッチで除去を行うときに、W層が露出しTi層のサイドエッチが促進されて電気的な接続ができなくなることを、防止できるようにする。 - 特許庁

The silver salt photothermographic dry imaging material obtained by disposing a photosensitive layer comprising non-photosensitive silver aliphatic-carboxylate grains, photosensitive silver halide grains, a silver ion reducing agent and a binder on a support, is characterized in that a cyan-developing leuco dye and an inhibitor having a specified structure are contained and the photosensitive silver halide grains have been chemically sensitized.例文帳に追加

支持体上に非感光性脂肪族カルボン酸銀塩粒子、感光性ハロゲン化銀粒子、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する感光性層を設けてなる銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、シアン発色性ロイコ染料及び特定構造の抑制剤を含有し、該感光性ハロゲン化銀粒子が化学増感を施されていることを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 - 特許庁

That is, a precoat film comprising a silicon nitride film containing boron is deposited on the inner wall of the reaction tank (step S11), and a silicon nitride film not containing boron is formed as a structure film on the substrate in the reaction tank (step S12), and the inner wall of the reaction tank is dry-etched to perform cleaning (step S13).例文帳に追加

すなわち、反応槽の内壁にホウ素を含有したシリコン窒化膜からなるプレコート膜を堆積させ(ステップS11)、反応槽内において基板上に構造膜としてホウ素を含まないシリコン窒化膜を形成し(ステップS12)、反応槽の内壁をドライエッチングしてクリーニングする(ステップS13)。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon nano-crystal structure by which silicon nano-crystal grains each having an insulation layer having less defects and high stability on the surface, and having excellent crystallinity can be formed, and further, the grain diameter controllability and packing density of the crystals are excellent, and the formation thereof can be performed with high productivity only by a dry process.例文帳に追加

本発明は、表面に欠陥が少なく安定性の高い絶縁層を有するとともに、結晶性に優れたシリコンナノ結晶粒を形成することができ、しかも結晶の粒径制御性、充填密度に優れ、かつドライプロセスのみで生産性よく形成可能なシリコンナノ結晶構造体の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a fish dryer having a hygiene characteristic allowing completely no fly or insect to come near in fish drying outside and inside, shortening of a dry time, simple operability and a simple structure, enabling customers to directly look a production process in a sightseeing area and a shop, and having display effectiveness stimulating buying intention and interest because of hygiene.例文帳に追加

屋外、屋内での魚乾燥において、蝿、虫などを全く寄せ付けない衛生生、乾燥時間の短縮、簡便な操作性、簡単な構造をもち、観光地、商店の店頭において客が製造過程が直視でき、衛生的であるため購買意欲、興味をそそるディスプレイ効果性をもつ魚乾燥機を提供する。 - 特許庁

To provide a hydrogen gas sensor having an extremely simple structure, not influenced by existence of moisture, operating normally and promptly especially in the dry state, usable in a wide temperature region, and capable of realizing lower power consumption and more excellent gas selectivity than hitherto, and a hydrogen gas sensing method using the sensor.例文帳に追加

極めてシンプルな構造であり、水分の有無に左右されず、特に乾燥状態においても敏速に正常作動し、かつ幅広い温度領域において使用可能で、従来にない低消費電力とガス選択性を実現することができる、水素ガスセンサー及びそれを用いた水素ガスセンシング方法を提供すること。 - 特許庁

Processes for forming the ridge stripe structure (9) includes a first etching process for dry-etching a second conductive type second clad layer 7 leaving a prescribed thickness, and a second etching process for wet-etching and removing the second conductive type second clad layer 7 having the prescribed thickness to a second conductive type etching stop layer 6.例文帳に追加

リッジストライプ構造(9)を形成する工程は、ドライエッチングにより、第2導電型の第2クラッド層7を所定の厚さ残してエッチングする第1のエッチング工程と、ウエットエッチングにより、所定の厚さ残した第2導電型の第2クラッド層7を第2導電型のエッチングストップ層6までエッチングして除去する第2のエッチング工程とを有する。 - 特許庁

To prevent leakage or dry-up of ink by using a shutter for sealing the joint of an ink receiving means and an ink supply means through a simple structure without requiring a new power source in a device for supplying ink to the ink receiving means through joint of the ink receiving means and the ink supply means.例文帳に追加

インク受容手段とインク供給手段の接合によりインクを受容手段へ供給する装置において、簡単な構造でインク受容手段およびインク供給手段の接合部を密閉し、新たな動力源も必要としないシャッター装置によりインク漏れや乾燥を防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide a panel and a mounting structure of thereof capable of carrying out dry execution enabling the incursion of wind and rail to prevent without filling a joint section between both panels with a sealing compound or the like, constituting a vent layer without using furring strips and omitting the furring strips to reduce the number of components and working manhours.例文帳に追加

パネル同士の目地部にシーリング材等を充填することなく風雨の侵入を防止出来る乾式施工とすることが出来、胴縁を用いることなく通気層を構成することが可能であり、胴縁を省略して部品点数及び施工工数を削減出来るパネル及びその取付構造を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

This activated calcium porous body 11x obtained by dry distilling the shell 11 has a structure having a multilayer structural part 15 consisting of a layer mainly consisting of calcium oxide and secondarily consisting of carbon, and many fine pores 21 formed in the inter-layer and intra-layer of the multilayer structural part 15.例文帳に追加

貝殻を乾留することにより得られる活性カルシウム多孔体であって、酸化カルシウムを主成分とし炭素を副成分とする層からなる多層構造部と、該多層構造部の層間および層中に形成された多数の細孔とを有する構造体であることを特徴とする活性カルシウム多孔体。 - 特許庁

This reflectionproof film comprises the reflectionproof layer 3 which is formed of a dry cured film of a solution containing (A) a siloxane oligomer obtained by condensation-polymerizing a hydrolyzable alkoxysilane composed mainly of a tetraalkoxysilane represented by formula (1): Si(OR)_4 (wherein, R is a methyl group or an ethyl group) after partial hydrolysis and (B) a chemical compound having a fluoroalkyl structure and a polysiloxane structure.例文帳に追加

反射防止層3が、一般式(1):Si(OR)_4(式中Rは、メチル基またはエチル基を示す)で表されるテトラアルコキシシランを主成分する加水分解性アルコキシシランを部分的に加水分解後縮重合させたシロキサンオリゴマー(A)と、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する化合物(B)を含有する溶液の乾燥硬化膜により形成されたものであることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

To provide a respiration gas feeder constantly operating a humidifier in a normal state by adopting a humidifier structure, when humidifying dry oxygen enriched air, allowing an easy and simple attachment/detachment between a lid part of the humidifier and a vessel part storing water for a user with a declined strength or an elderly user and surely and simply attaching it to a predetermined position of the respiration gas feeder.例文帳に追加

乾燥した酸素富化空気を加湿する際に、体力の衰えたり高齢であったりする使用者を想定して、加湿器の蓋部と水を収容する容器部との間の脱着が容易かつ簡単な加湿器構造を採用し、更に呼吸用気体供給装置の所定位置に確実かつ簡単に取付けることができ、これによって、常に正常な状態で加湿器を作動させることができる呼吸用気体供給装置を提供する。 - 特許庁

This method includes the steps for: forming an etching mask extending in a predetermined direction on a second semiconductor region 30 of a substrate product 10A having first and second semiconductor regions 20, 30 including an InP based compound semiconductor; forming a stripe mesa structure 40 by performing dry etching using an etching mask, and then performing wet etching; forming an insulation film 42; and forming an electrode 50 by the lift-off method.例文帳に追加

この方法は、InP系化合物半導体を含む第1及び第2の半導体領域20,30を有する基板生産物10Aの第2の半導体領域30上に、所定方向に延びるエッチングマスクを形成する工程と、エッチングマスクを用いてドライエッチングを行い、その後にウェットエッチングを行うことによりストライプメサ構造40を形成する工程と、絶縁膜42を形成する工程と、リフトオフ法により電極50を形成する工程とを備える。 - 特許庁

This is a bipolar transistor having an epitaxial growth base layer, in which the penetration of etching through the silicon carbide layer is prevented by making the exogenous base layer into a laminated structure including a chemically extremely stable silicon carbide layer, even if there is an incomplete portion in silicide when forming a contact-hole through dry etching, thereby improving the contact-hole formation yield.例文帳に追加

エピタキシャル成長ベース層を有するバイポーラトランジスタであって、外因性ベース層を、化学的に極めて安定なシリコンカーバイド層を含む積層構造とすることにより、ドライエッチングによるコンタクトホール形成時にシリサイドの不完全な部分があったとしても、シリコンカーバイド層によってエッチングの突き抜けを防ぐことができるために、コンタクトホール形成の歩留まりを向上することが可能となる。 - 特許庁

To provide a hetero-junction field effect transistor by which plasma damage of a reactive ion or the like entering a crystal due to dry etching for selective removal of an insulation layer or a semiconductor layer above a barrier layer is suppressed in a crystal structure, where the barrier layer with a larger atomic weight than an electron supply layer is formed on the electron supply layer of the hetero-junction field effect transistor.例文帳に追加

ヘテロ接合電界効果トランジスタの電子供給層上に電子供給層よりも平均原子量の大きなバリア層を形成した結晶構造において、バリア層より上の絶縁膜もしくは半導体層を選択に除去する際のドライエッチングによって結晶内に侵入する反応性イオン等のプラズマ損傷を抑制することを目的したヘテロ接合電界効果トランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

The silver salt photothermographic dry imaging material has a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains, a non-photosensitive silver salt of an aliphatic carboxylic acid, a reducing agent for silver ions and a binder resin, wherein the photosensitive layer contains a compound having a specific structure as the reducing agent for silver ions and a resin having a polymerization degree of 700-3,000 as the binder.例文帳に追加

感光性ハロゲン化銀粒子、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩、銀イオン還元剤及びバインダー樹脂を含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層が、銀イオン還元剤として特定構造を有する化合物を含有し、かつバインダーとして重合度が700〜3000の樹脂を含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS