「etchant」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes a filtering step wherein oxalic acid containing etchant used for etching ITO is filtered by an NF membrane 25 into permeate and non-permeate.例文帳に追加

本発明では、ＩＴＯのエッチングに使用した蓚酸含有エッチング液をＮＦ膜２５によりろ過して透過液と非透過液とに分離するろ過工程を備える。 - 特許庁

With this silicon oxide film 12 used as a mask, the silicon 14 of the groove working region and the silicon substrate 11 are etched to process the groove 15 by using an etchant 16 to the silicon.例文帳に追加

このシリコン酸化膜１２をマスクとして溝加工領域のシリコン１４及びシリコン基板１１をシリコンに対するエッチャント１６を用いてエッチングして溝１５を加工する。 - 特許庁

A wiring circuit board 1 comprises: a conductor pattern 6; and a covering part 34 for covering a restricting section which restricts entry of an etchant into the conductor pattern 6.例文帳に追加

配線回路基板１は、導体パターン６と、エッチング液が導体パターン６に浸入することを規制する規制部分を被覆するための被覆部３４とを備える。 - 特許庁

Subsequently a simple matrix substrate 20 is obtained by etching and removing the glass substrate 201 with an etchant (acid), for example a mixture of HF and HNO3 in 1:20 ratio.例文帳に追加

その後、ガラス基板２０１を、たとえば、ＨＦとＨＮＯ_3とを１：２０の割合で混合したエッチャント（酸）でエッチングして除去することで、単純マトリクス基板２０を得る。 - 特許庁

To prevent the reverse surface of a substrate from being stained due to local corrosion when the substrate which corrodes with liquid chemicals such as an etchant and peeling liquid is used.例文帳に追加

エッチング液や剥離液等の薬液によって浸食を受ける基板を使用した場合に、その基板の裏面に局部浸食によってシミが発生するのを防止する。 - 特許庁

A release etchant is introduced from the back side of the substrate via the second portion of the cavity to remove from the first portion of the cavity the sacrificial material underlying the device structure.例文帳に追加

リリースエッチャントを、基板の背面から空洞の第２の部分を介して導入し、デバイス構造の下に位置する犠牲材料を空洞の第１の部分から除去する。 - 特許庁

To provide a method for patterning thin film by which the degree of freedom of etchant selection can be improved and a thin film can be etched evenly over a large area.例文帳に追加

本発明では、エッチングにおける液の選定の自由度が高く、大面積にわたり均一にエッチングできる薄膜のパターン形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an etchant for a transparent conductive film such as an indium tin oxide (ITO) film to be used in a display device such as a liquid crystal display (LCD) and an electro-luminescence display.例文帳に追加

液晶ディスプレ−（ＬＣＤ）やエレクトロルミネッセンスディスプレーなどの表示装置に使用される酸化インジウム錫（ITO）膜等の透明導電膜のエッチング液を提供する。 - 特許庁

The vacuum etching system has structure in which an opening 7 of the suction tube 4 is formed as a partial aperture, and the etchant sprayed from a nozzle onto the substrate forms a spiral flow 10.例文帳に追加

吸引管４の開口部７を部分的な開口とし、ノズルから基板上に吹き付けられたエッチング液がバイアス状の流れ１０を形成する構造とした。 - 特許庁

The etchant in use contains: at least one kind of compound selected from the group of oxalic acid, ammonium sulfate, ammonium amidosulfate and ammonium thiosulfate; and water.例文帳に追加

シュウ酸と、硫酸アンモニウム、アミド硫酸アンモニウムおよびチオ硫酸アンモニウムからなる群の少なくとも１種の化合物と、水を含有するエッチング液を使用する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step of forming the source electrode and the drain electrode using a mixed acid aqueous solution containing phosphate, acetic acid, and nitric acid as an etchant.例文帳に追加

本発明の製造方法は、エッチング液として、りん酸、酢酸および硝酸を含む混酸水溶液を用いて、ソース電極およびドレイン電極を形成する工程を有する。 - 特許庁

The wiring board 11 is manufactured by first softly etching the copper marks 24 by using an etchant consisting of an aqueous solution consisting essentially of hydrogen peroxide and sulfuric acid.例文帳に追加

この配線基板１１を製造する場合には、まず、過酸化水素と硫酸とを主成分とする水溶液からなるエッチング液を用いて銅マーク２４をソフトエッチングする。 - 特許庁

The aqueous alkali solution contains potassium hydroxide or sodium hydroxide and the concentration of an alkali component in the etchant is in the range of 1 to 60 mass%.例文帳に追加

アルカリ水溶液は、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムを含み、エッチング液中のアルカリ成分の濃度が１質量％〜６０質量％の範囲内とする。 - 特許庁

To provide an etching method and an etchant for etching a material in which gold and nickel coexist with one liquid and controlling the etching rate of the gold and the nickel.例文帳に追加

金とニッケルとが共存する材料の１液でのエッチングを可能にし、さらに金およびニッケルのエッチングレートを制御できるエッチング方法およびエッチング液を提供する。 - 特許庁

As an etchant composed of hydrogen peroxide and inorganic acid, as a stabilizer for hydrogen peroxide, an imidazole compound in which an aryl group or an aralkyl group is substituted for an imidazole ring is used.例文帳に追加

過酸化水素および無機酸からなるエッチング液に過酸化水素の安定剤として、イミダゾール環にアリール基またはアラルキル基が置換しているイミダゾール化合物を用いる。 - 特許庁

Upon heating ammonium water of 5.7% at 70 degrees in a quartz tub with a flow-back pipe, a high purity aluminum foil of 0.1 to 2 mg is dissolved to prepare an etchant.例文帳に追加

エッチング液は、５．７％のアンモニア水を還流管付き石英槽中で７０度に加熱した上で、０．１〜２ｍｇの高純度アルミニウム箔を溶解させて調製する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method, in which a semiconductor wafer after etching by using a halogen-containing etchant is subjected to treatment of passivation and stripping in a short time.例文帳に追加

ハロゲン含有エッチャントを用いたエッチング後の半導体ウェハに短時間でパシベーション及びストリッピングの処理を行なうことが出来る基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new etchant that can be used to remove a titanium nitride film difficult to be removed from a surface coated with a silicon dioxide and a silicon nitride.例文帳に追加

剥離するのが困難な窒化チタン膜を二酸化ケイ素および窒化ケイ素被覆された表面から除去するのに用いることができる新規なエッチング剤を提供する。 - 特許庁

The gas supply means supplies bulk gas to the plasma source electrode side and etching gas containing a gas which acts as etchant to the side of the wafer being processed.例文帳に追加

このとき、ガス供給手段からは、プラズマソース電極側にバルクガスを導入するとともに、被処理基板側にエッチャントとして作用するガスを含むエッチングガスを導入する。 - 特許庁

This etching method of an acceleration cavity includes processes of: (I) immersing the acceleration cavity in an etchant in a vessel; and (II) etching the acceleration cavity in a state where the pressure in the vessel is increased.例文帳に追加

（I）容器内のエッチング液に加速空胴を浸漬する工程、及び、（II）前記容器内を加圧した状態で前記加速空胴をエッチングする工程を包含する。 - 特許庁

To provide an etchant and an etching method which help prevent metal contamination of a semiconductor silicon wafer and a semiconductor silicon wafer which is least contaminated with metal.例文帳に追加

半導体シリコンウェーハの金属汚染防止に資するエッチング液及びエッチング方法並びに金属汚染を大幅に低減した半導体シリコンウェーハを提供する。 - 特許庁

An analyzer 302 measures the amounts of the etchant and the by- products in the plasma from infrared laser beams passing the plasma by an infrared laser absorption analyzing method.例文帳に追加

分析器３０２は，プラズマ中を通過した赤外レーザ光から赤外レーザ吸収分析法によりプラズマ中のエッチャントと副生成物の各含有量を測定する。 - 特許庁

Further, a plurality of holding devices 10 each holding a pair of semiconductor wafers 1 are dipped in the etchant to etch many semiconductor wafers 1 simultaneously.例文帳に追加

さらに、１組の半導体ウエハ１を保持した保持装置１０の複数をエッチング液に浸漬することにより、同時に多くの半導体ウエハ１をエッチングすることができる。 - 特許庁

The method comprises a step S20 of etching a surface of a crystal with an etchant containing ammonium fluoride, and a step S30 of annealing the crystal in an inert gas.例文帳に追加

結晶の表面を、フッ化アンモニウムを含有するエッチング液でエッチングする工程Ｓ２０と、結晶を不活性ガス中でアニール処理する工程Ｓ３０とを備える。 - 特許庁

Accordingly, the silicon substrate 31 can be etched from both sides of the front and rear surface sides, by also supplying the etchant to the rear surface of the silicon substrate 31.例文帳に追加

したがって、シリコン基板３１の裏面にもエッチング液を供給して、シリコン基板３１を表面側および裏面側の両側からエッチングすることも可能である。 - 特許庁

Thereby, since the etchant composition contains no hydrogen peroxide, stability and a margin on a process can be secured, and an excellent taper etching profile can be obtained.例文帳に追加

これにより、該エッチング液組成物は、過酸化水素を含有しないので、安定性と工程上マージンとを確保することができ、優秀なテーパエッチングプロファイルを得ることができる。 - 特許庁

The oscillator 112 is formed on a substrate 111 in etchant 102 by wet etching, and when the oscillator 112 having target oscillation characteristics is completely formed, the wet etching is stopped.例文帳に追加

ウェットエッチングによりエッチング液102中で基板111に振動子112を形成して、目標の振動特性を持つ振動子112を達成できたところで、ウェットエッチングを停止する。 - 特許庁

To prepare an aqueous solution for oxidation which permits highly efficient exhibition of oxidation actions of hydrogen peroxide and is effective for regeneration of a used ferric chloride etchant.例文帳に追加

過酸化水素の酸化作用を高効率で発揮させることができ、使用済みの塩化第２鉄エッチャントを再生することに使用して有効な酸化用水溶液を提供する。 - 特許庁

An etchant includes a solution containing nitric acid, hydorchloric acid and phosphoric acid, and has a small difference in etching speed in etching films different in the content of a copper oxide.例文帳に追加

エッチング液は、硝酸と、塩酸と、燐酸とを含有する水溶液で構成されており、銅酸化物の含有量の異なる膜をエッチングする際の、エッチング速度の差が小さい。 - 特許庁

The satin finish surface is formed by exposing the above substrate to an etchant containing hydrohalic acid and/or oxyacid, chlorine-contained compound and an oxidizing agent.例文帳に追加

梨地状表面は、ハロゲン化水素酸および／またはオキシ酸と、塩素含有化合物と、酸化剤を含むエッチング液に上記基体を曝すことによって形成される。 - 特許庁

To provide a substrate transfer apparatus that prevents a substrate from hanging down to allow an etchant to flow easily on both sides of the substrate without being accumulated in an etching process.例文帳に追加

基板の垂れることを防止してエッチング工程中エッチング液が溜まることなく、基板の両側に容易に流れることができる基板移送装置を提供する。 - 特許庁

The etchant is formed of an acidic solution containing halogen oxygen acid ion and preferably a complexing agent to form at least a kind of the III group structure elements and a water-soluble complex ion.例文帳に追加

ハロゲン酸素酸イオンを含有し、好ましくはIII族構成元素の少なくとも一種と水溶性錯イオンを形成する錯化剤を含有する酸性溶液からなる。 - 特許庁

At this time, the etchant contacts with the work 100' in the part of groove 202 to perform etching, for forming the dynamic pressure groove 102 into the shape along the groove 202.例文帳に追加

このとき、前記エッチャントは、溝２０２部分において被加工物１００’と接触してエッチングをおこない、溝２０２に沿った形状に動圧発生溝１０２を形成する。 - 特許庁

To provide an etchant capable of etching a molybdenum-based conductive thin film formed on a substrate or a laminated conductive thin film in which molybdenum-based conductive thin films and aluminum-based conductive thin films are laminated to form side surfaces having favorable forward tapered shape effectively, and an etching method by using the etchant.例文帳に追加

基板上に形成されたモリブデン系導電性薄膜、または、モリブデン系導電性薄膜とアルミニウム系導電性薄膜とが積層された積層導電性薄膜を、効率よく、側面が良好な順テーパー形状となるようなエッチングを行うことが可能なエッチング液、および、該エッチング液を用いたエッチング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

After a linear or columnar protection wall pattern 5 is formed by using a material of color layers etc., of a photospacer and a color filter and a seal pattern 3 is formed by applying a sealing material along the protection wall pattern 5, a couple of substrates are stuck together and an etchant sealing material 6 is made to penetrate from a substrate end 1 to prevent an etchant from entering.例文帳に追加

フォトスペーサやカラーフィルタの色層などの材料を用いて線状または柱状の保護壁パターン５を形成し、その保護壁パターン５に沿ってシール材を塗布してシールパターン３を形成した後、これらの一対の基板を貼り合わせ、エッチング液の侵入を防ぐためにエッチング液封止材６を基板端１から浸透させる。 - 特許庁

To obtain a superior semiconductor laser element which is free from edge corrosion when the light output of the semiconductor laser element is increased as to a semiconductor laser element which securely has a current uninjected structure, a semiconductor etchant used to etch compound semiconductor crystal, and a manufacturing method for the semiconductor element using the etchant.例文帳に追加

電流非注入構造を確実に有する半導体レーザ素子、化合物半導体結晶のエッチングに使用する半導体エッチング液およびこれを用いた半導体レーザ素子の製造方法に関するものであり、半導体レーザ素子の光出力を増大させた際、端面腐食が発生しない優れた半導体レーザ素子を得ること。 - 特許庁

This method for regenerating the etchant includes adding a deposition agent such as ammonium chloride, to a fatigued liquid which is discharged when etching a metal (ST2) including at least copper, with an etchant including at least ferric chloride and further hydrochloric acid, ammonium chloride, and the like, of predetermined concentration, and further concentrating and cooling it, to deposit a copper component dissolving in the fatigued liquid (ST3).例文帳に追加

少なくとも塩化第二鉄を含み、さらに所定濃度の塩酸や塩化アンモニウムなどを含むエッチング液を用いて、少なくとも銅を含む金属をエッチング処理した（ＳＴ２）ときに出される疲労液に、塩化アンモニウムなどの析出剤を添加し、さらに濃縮や冷却などを行って、疲労液中に溶解している銅成分を析出させる（ＳＴ３）。 - 特許庁

The method for manufacturing a glass substrate includes arranging a plurality of conveying rollers along a transportation direction of the glass substrate for electronic devices, immersing a part of the conveying rollers in an etchant, and roughening a first surface of one surface of the glass substrate by adhering the etchant absorbed to the conveying roller to the first surface when the conveying rollers are driven, and when the glass substrate is transported.例文帳に追加

電子デバイス用のガラス基板の搬送方向に沿って複数の搬送ローラを配置し、搬送ローラの一部はエッチャントに浸漬し、搬送ローラを駆動してガラス基板を搬送する際、搬送ローラに吸収されたエッチャントがガラス基板の一方の面である第１面に付着することによって粗面化することを前提とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the piezoelectric vibrator includes: a first etching process of processing a surface of the piezoelectric vibration piece 2 using a first etchant consisting of a potassium hydroxide aqueous solution prior to a process of mounting the piezoelectric vibration piece 2; and a second etching process of processing the surface of the piezoelectric vibration piece 2 using a second etchant consisting of a solution of potassium ferricyanide and potassium hydroxide.例文帳に追加

圧電振動片２をマウントする工程の前に、水酸化カリウム水溶液からなる第１エッチャントを用いて圧電振動片２の表面を処理する第１エッチング工程と、フェリシアン化カリウム及び水酸化カリウムの水溶液からなる第２エッチャントを用いて圧電振動片２の表面を処理する第２エッチング工程とを有することを特徴とする - 特許庁

The manufacturing equipment 40 for the metal master is equipped with an immersion tank 44 for immersing an intermediate material 10 of the metal master for making the stamper masked except for an annular region 16 by housing the intermediate material 10 therein and storing an etchant capable of etching the intermediate material 10 and an air feeding means 46 for discharging bubbles and stirring the etchant of the immersion tank 44.例文帳に追加

メタルマスタの製造装置４０は、環状領域１６を除いてマスキングされたスタンパ作製用メタルマスタの中間材１０を収容し、且つ、中間材１０を腐食可能であるエッチング液を貯留して中間材１０を浸漬するための浸漬槽４４と、浸漬槽４４のエッチング液に気泡を吐出して攪拌するための給気手段４６と、を備える。 - 特許庁

Since parts of a data line 6a located on a side wall and an upper face are covered by a reflection film 44, a middle layer 62 is not eroded by an etchant in the case of patterning the reflection film 44.例文帳に追加

データ線６ａの側壁および上面の一部は反射膜４４で覆われているから、反射膜４４をパターニングする際に中央層６２がエッチャントにより侵食されない。 - 特許庁

Since the outer periphery 15b of each of the conveyer rollers 15 is constituted of a sponge material, each of the conveyer rollers 15 absorbs, holds the etchant, and supplies it to a lower surface of the substrate 9.例文帳に追加

各搬送ローラ１５の外周部１５ｂは、スポンジ材料により構成されているため、各搬送ローラ１５はエッチング液を吸収して保持し、基板９の下面に供給する。 - 特許庁

Further, as an etchant or a cleaning fluid flows in the groove 12a and overflows therefrom to flow on the back of the wafer 13, too, the etching residue is removed and the shortage of cleaning on the back of the wafer 13 is solved.例文帳に追加

また、エッチング液、洗浄液が溝１２ａを流れ、そこからあふれてウェハ１３の裏面も流れるので、ウェハ１３の裏面のエッチング残り、洗浄不足が解消される。 - 特許庁

The stirring fins 15a, 15b, and 15c are plate-like members arranged in parallel to the shafts 12b, 12d, and 12c, and rotate together with the jig to stir etchant in an etching tank.例文帳に追加

撹拌フィン１５ａ，１５ｂ，１５ｃは、シャフト１２ｂ，１２ｃ，１２ｄと平行に延設された板状部材であり、治具と共に回転してエッチング槽内のエッチング液を撹拌する。 - 特許庁

A defect concentration region 1b of a GaN substrate 1 is etched through wet etching using a hydrochloric-acid-based etchant to form a striped groove 10 having a projection 13 on its bottom surface 12.例文帳に追加

まず、塩酸系エッチャントを用いたウエットエッチングによりＧａＮ基板１の欠陥集中領域１ｂをエッチングし、底面１２に突起１３を有するストライプ状の溝１０を形成する。 - 特許庁