| 例文 |
form patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4548件
To form a wiring pattern in high density by improving a method forming an electrical insulating layer and enhancing the adhesive properties of the electrical insulating layer and the wiring pattern.例文帳に追加
電気的絶縁層を形成する方法を改良し、電気的絶縁層と配線パターンとの密着性を良好にして、高密度に配線パターンを形成可能とする。 - 特許庁
A coating film of the resist compsn. is disposed on a substrate with a disposed thin film, exposed through a mask pattern, heated and developed to form the objective resist pattern.例文帳に追加
また、薄膜を設けた基板上に、この組成物の塗膜を設け、マスクパターンを介して該塗膜を露光したのち加熱し、次いで現像処理して、レジストパターンを形成する。 - 特許庁
The film thickness of the ultra-thin film 2 is determined to be as thin as possible necessary to form the phase shift pattern in the quartz substrate 1 by using the ultra-thin film pattern 2P as a mask.例文帳に追加
極薄膜2の膜厚は、極薄膜パターン2Pをマスクにして石英基板1に位相シフトパターンを形成するために必要最小限の厚さに設定する。 - 特許庁
To provide a detection pattern most suitable for a particular head in a connection head and propose the form of a nondischarge detection pattern of a portion of each head where printing overlaps.例文帳に追加
つなぎヘッドにおいて各々の個別ヘッドに最適な検出パターンを提供し、各ヘッドの印刷重複部分の不吐検出パターン構成を提案するものである。 - 特許庁
To provide a water-in-water type multi-colored pattern paint composition which can form a constant and smooth multi-colored pattern regardless of a painting condition such as a painting tool and a painting temperature.例文帳に追加
塗装器具、塗装温度等の塗装条件が変動しても一定の平滑な多彩模様が形成可能な水中水型多彩模様塗料を提供する。 - 特許庁
In addition, the rugged pattern can also be defined as a second pattern to become fine as a pitch to form the projected part is set apart from the center side by defining height of the project part as fixed.例文帳に追加
なお、凹凸パターンを、凸部の高さを一定として凸部を形成するピッチが中心側から離れるにつれて細かくなる第2のパターンとしてもよい。 - 特許庁
According to the image data, a gradation generating means comprising printing equipment 5 prints the gradation pattern on a filmy transparent substrate to form a gradation pattern sheet 7 (step S2).例文帳に追加
この画像データに基づき、印刷機器5から成るグラデーション形成手段で、フィルム状の透明基板にグラデーションパターンを印刷してグラデーションパターンシート7を形成する(ステップS2)。 - 特許庁
To provide a method which can form a conductive joining material for joining a wiring pattern and an electronic component together on a base body as a fine joining pattern.例文帳に追加
配線パターンと電子部品とを接合するための導電性接合材料を基体上に微細な接合パターンとして形成することができる方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a good pattern shape when a resist film is patternwise exposed with light of 1 nm band to 180 nm band to form a resist pattern.例文帳に追加
露光光として1nm帯〜180nm帯の光を用いてパターン露光を行なってレジストパターンを形成する場合に、良好なパターン形状が得られるようにする。 - 特許庁
A conductor (Cu) thin film 6 is further deposited on the dielectric thin film 5 under normal temperature at the substrate temperature of 150°C or below and then the conductor thin films 4, 6 and the dielectric thin film 5 are stripped along with the resist pattern 2 to form a wiring pattern 7 lift-off method.例文帳に追加
この後、レジストパターン2と共にその上の導体薄膜4,6と誘電体薄膜5を剥離させ、リフトオフによって配線パターン7を形成する。 - 特許庁
To provide a projector type headlight can prevent dazzle to an opposite lane and form an auxiliary light distribution pattern at a suitable height against a main light distribution pattern.例文帳に追加
対向車線での眩惑を防止しつつ主配光パターンに対する適切な高さ位置に補助配光パターンを形成することができるプロジェクタ型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition having excellent surface smoothness, high resolution to form a fine pattern, and a superior recovery rate and giving a pattern such as a photospacer.例文帳に追加
表面平滑性に優れ、微細なパターンまで解像可能で、更に、回復率に優れ、フォトスペーサーのようなパターンを形成しうる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁
An auxiliary film is formed on a side wall of the pattern and etched to form a second etching mask pattern 121a between first etching mask patterns in an automatic alignment manner.例文帳に追加
このパターンの側壁に補助膜を形成し、これをエッチングすることにより、第1のエッチングマスクパターン間に第2のエッチングマスクパターン121aを自動整列方式で形成する。 - 特許庁
To form a desired pattern by preventing discharged ink from spreading on a substrate in a printing and drying process in forming a conductor pattern by an ink jet method.例文帳に追加
インクジェット法により導体パターンを形成する際、印刷および乾燥工程において、吐出されたインクが基板上で広がることを抑制し、所望のパターンを形成する。 - 特許庁
Then, the resist film 102 after the pattern exposure is heated and development is performed to the heated resist film 102 to form a resist pattern 102a from the resist film 102.例文帳に追加
続いて、パターン露光が行われたレジスト膜102を加熱し、加熱されたレジスト膜102に対して現像を行って、レジスト膜102からレジストパターン102aを形成する。 - 特許庁
To obtain a pattern in a desired form without varying thickness of a silicon layer in an optical plane circuit type optical element having an oxidation process of a silicon pattern when manufacturing.例文帳に追加
製造時にシリコンパターンの酸化工程を有する光平面回路型光学素子において、シリコン層の厚さを変化させずに所望の形状のパターンを得る。 - 特許庁
Then, a basic film of the second silicon nitride film pattern 11 is removed by wet etching to form a hollow portion between the second silicon nitride film pattern 11 and a silicon substrate 1.例文帳に追加
そして、第2のシリコン窒化膜パターン11の下地膜をウェットエッチングによって除去し、第2のシリコン窒化膜パターン11とシリコン基板1との間に中空部を形成する。 - 特許庁
To uniformly form a coating liquid layer on the entire main surface of a semiconductor wafer, where a large step or an uneven pattern having a large pattern is formed.例文帳に追加
段差が大きく或るいは大パターン部を有する凹凸パターンが形成された半導体ウェハに対して、主面全体に均一な厚みの塗布液層を形成する。 - 特許庁
In the formation of the mask pattern, a coating composition including the proton donor polymer, proton acceptor polymer, and a base is prepared to form the gel layer on the resist pattern.例文帳に追加
マスクパターンの形成において、レジストパターン上にゲル層を形成するために、陽子供与ポリマー、陽子受容ポリマー、及び塩基を含むコーティング組成物を準備する。 - 特許庁
The 2nd photoresist film is exposed by using a photomask having a trench pattern and the 2nd photoresist film and 1st photoresist film are developed at the same time to form the trench resist pattern.例文帳に追加
次に、トレンチパターンのフォトマスクを用いて第2のフォトレジスト膜を露光し、第2のフォトレジスト膜および第1のフォトレジスト膜を同時に現像してトレンチレジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition which can form a resist pattern good in shape and is preferable for use in manufacturing a system LCD, and provide a method for forming the resist pattern.例文帳に追加
形状の良好なレジストパターンを形成でき、システムLCD製造用として好適なポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an X-ray mask and an X-ray exposure method using this mask which can satisfactorily form from both a fine pattern and a large pattern.例文帳に追加
微細パタン及び大パタンの両者を良好に形成することができるX線マスク及びこれを用いたX線露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the resin film 102, the resin is coagulated on a portion on which the electric field acts to form a pattern that is grown in a direction of the mold 104 into the resin pattern 105.例文帳に追加
樹脂膜102においては、電界の作用した部分に凝集してパターンが形成されてモールド104の方向に成長して樹脂パターン105となる。 - 特許庁
To provide a salt for use as an acid generating agent to give a chemical amplification type resist composition that can make up a pattern having a good pattern form and shows a high resolution.例文帳に追加
良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a wiring pattern which can finely and accurately form a wiring pattern, and to provide a method of manufacturing a wiring substrate using the same.例文帳に追加
配線パターンを微細かつ高精度に形成することを可能にする配線パターンの形成方法およびこれを用いた配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The pattern is formed in the form of stripe by measured color, and the pattern of the measured color is arranged so that the characters embossed by the amount of the color shift with respect to the measured color are changed.例文帳に追加
測定色により縞状にパターンを形成し、測定色に対する色ずれの量によって浮き出てくる文字が変わるように、測定色のパターンを配置する。 - 特許庁
The pattern exposure plane of the electrode pad PAD is configured, while having a rugged form by being reflected with a rugged pattern 101 formed on a layer insulating film 10 of the lower layer.例文帳に追加
電極パッドPADのパターン露出面が、下層の層間絶縁膜10に形成された凹凸パターン101を反映して凹凸形状を有して構成されている。 - 特許庁
The surface treating agent for resist pattern formation contains: a chemical species which reacts with a functional group contained in a resist pattern upon heating to form a bond; and a solvent.例文帳に追加
加熱により、レジストパターンに含まれる官能基と反応し、結合を形成する化学種と、溶媒を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁
A conductor mat is formed at an area overlapping with the conductor pattern of the coil, and the conductor pattern of the coil is printed and laminated on the conductor mat, thus improving the print precision of the conductor pattern to form the coil.例文帳に追加
コイルの導体パターンに重なる領域に導体マットを形成し、この導体マットの上に上記コイルの導体パターンを印刷積層することにより、上記コイルを形成する導体パターンの印刷精度を高める。 - 特許庁
This resist pattern forming method is characterized to form a resist pattern on a wafer, and to irradiate residue generated between resist side walls forming the resist pattern with an electronic ray under decompression.例文帳に追加
本発明にかかるレジストパターン成形方法は、ウエハ上にレジストパターンを形成した後に、該レジストパターンを形成するレジスト側壁間に発生した残さに、減圧下において電子線を照射することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a pattern forming method which can bring an insolubilization layer with higher etching resistance than before as a mask material when polysilazane is coated on a resist pattern to form the insolubilization layer as a pattern.例文帳に追加
レジストパターンにポリシラザンを塗布し、不溶化層を形成してパターンを形成する場合に、従来に比して不溶化層にマスク材としてのエッチング耐性を持たせることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
Then the resist film 21 is developed to form a resist pattern 21A having an isolated hole pattern 23 corresponding to the isolated shading part 11 and a massed hole pattern 24 corresponding to the massed shading part 12.例文帳に追加
その後、レジスト膜21を現像することにより、孤立遮光部11と対応する孤立ホールパターン23と、密集遮光部12と対応する密集ホールパターン24とを有するレジストパターン21Aを形成する。 - 特許庁
This pattern layer 9 is etched to form a pre-mask pattern 10 made fine and the PMGI layer 3 is dissolved and removed with an aqueous alkali solution to obtain the objective mask pattern 11 made fine.例文帳に追加
この金属パターン層9にエッチング処理を施すことにより、狭小化されたプレマスクパターン10を形成し、PMGI層3をアルカリ水溶液で溶解除去することにより、狭小化されたマスクパターン11を得る。 - 特許庁
A gate electrode formation metal is vapor-deposited on the resist pattern 19 comprising the opening part 18, and the gate electrode formation metal on the resist pattern 19 and the resist pattern and removed to form a gate electrode 20.例文帳に追加
開口部18を含むレジストパターン19上にゲート電極形成用金属を蒸着するとともに、レジストパターン19上のゲート電極形成用金属およびレジストパターンを除去して、ゲート電極20を形成する。 - 特許庁
To form a resist pattern which allows a projection part of a resist pattern after a process of etching a remaining film to have a desired width equal to or larger than a width of the projection part of the resist pattern before the process of etching the remaining film.例文帳に追加
レジストパターンの形成において、残膜をエッチングする工程後のレジストパターンの凸部の幅が、残膜をエッチングする工程前におけるレジストパターンの凸部の幅以上の所望の幅となることを可能とする。 - 特許庁
A pattern 8a connected to an electrode 6 and a pattern 8b connected to GND form a noise protection gap G in the circuit pattern on a board 7 on which an oscillation circuit and a chip component 10 or the like are mounted.例文帳に追加
発振回路やチップ部品10等を搭載した基板7上の回路パターンのうち、電極6に接続されるパターン8aとGNDに接続されるパターン8bとでノイズ保護用ギャップ部Gが形成されている。 - 特許庁
The mask for defect inspection is produced by forming the basic pattern on a photomask substrate, applying a resist on the basic pattern, and exposing and developing the resist to form a specified pattern defect.例文帳に追加
また、この欠陥検査用マスクは、フォトマスク基板に、基本パターンを形成し、この基本パターン上に、レジストを塗布した後、レジストに、露光及び現像処理を施し、所定のパターン欠陥を形成することにより形成される。 - 特許庁
In the circuit forming transfer material where metal foil formed into a circuit pattern is pasted on a base material, the land pattern of the circuit pattern has a polygonal form.例文帳に追加
基材上に回路パターン状の金属箔が貼着されている回路形成用転写材料において、上記回路パターンの内、ランドパターンの形状が多角形であることを特徴とする回路形成用転写材料。 - 特許庁
To provide a photosensitive paste causing neither pattern bottom thickening nor pattern meandering, free of lowering of the sensitivity and capable of reliably improving light exposure margin, in order to form a pattern having high definition and a high aspect ratio.例文帳に追加
高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成するために、パターンの底部太りやパターンの蛇行、感光性ペーストの感度低下がなく、露光量マージンを確実に向上できる感光性ペーストを提供する。 - 特許庁
Moreover, the image forming apparatus includes a generation part for generating third dot pattern data using the first dot pattern data and the shift amount to form a dot pattern canceled in shift amounts in the image forming part.例文帳に追加
さらに、本画像形成装置は、ズレ量の相殺されたドットパターンを画像形成部において形成すべく、第1のドットパターンデータおよびズレ量を用いて第3のドットパターンデータを生成する生成部を含む。 - 特許庁
To provide a photosensitive color composition which reduces a rise of a color pattern in an overlap portion when used to form a color pattern having the overlap portion on a pattern structure (for example, a resin black matrix).例文帳に追加
パターン構造物(例えば、樹脂ブラックマトリクス)上に重なり部を有する着色パターンの形成に用いたときに、該重なり部における着色パターンの盛り上がりを低減できる感光性着色組成物を提供する。 - 特許庁
When a pattern P is transferred to the transfer-target substrate 10 by the nano-imprint-pattern forming metal mold 1A, the notch forming projections 3A penetrates a transfer pattern forming layer to form the notches 13a in the substrate body 11.例文帳に追加
被転写基板10にナノインプリントパターン形成用金型1AによってパターンPが転写されると、ノッチ形成用凸部3Aが転写パターン形成層を貫通して、基板本体11にノッチ13aが形成される。 - 特許庁
To provide a reflow method and a pattern forming method for forming a pattern of a desired shape when resist portions adjacent to each other are integrated by a reflow process to form a resist layer of another pattern.例文帳に追加
互いに隣接するレジスト部をリフロー処理により一体化して別のパターンのレジスト層を形成する際に、所望の形状のパターンを形成することができるリフロー方法およびパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and enables to form a low-resistance and high-definition pattern having high adhesion strength to a substrate in the form of a thin film.例文帳に追加
安価で、低抵抗、高精細かつ基板に対して薄膜で密着強度が高いパターンを形成することが可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁
A mold 1 having fine suction holes in it and a tile-like irregular pattern is installed in a form 4, a plastic film 9 is laid on the surface of the form 4, and air is sucked.例文帳に追加
型内に微少吸引孔を設けタイル様凹凸模様を有する型を型枠に設置し、この型枠表面にプラスチックフィルムを敷設して空気を吸引する。 - 特許庁
To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive, has high adhesion strength to a glass substrate in the form of a thin film, and can form a high-definition pattern with a low resistance value.例文帳に追加
安価で、かつガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁
Meanwhile, the page data obtained in an image pickup element 7 are demodulated to a form of signal bit column from a form of block pattern by the modulation table 12 of the control section 2.例文帳に追加
一方、撮像素子7にて得られたページデータは制御部2の変調テーブル12により、ブロックパターンの形式から信号ビット列の形式に復調され、出力される。 - 特許庁
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