「form pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The opening-restricting filter is arranged so as to form the film pattern on a transparent substrate, the opening restricting film pattern is formed on a surface of the transparent substrate and the rim strength correcting film pattern is formed on the rear side of the transparent substrate.例文帳に追加

開口制限フィルタは、膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、透明基板の表面に開口制限用膜パターンが形成されており、透明基板の裏面にリム強度補正用膜パターンが形成されている。 - 特許庁

To form a metallic gloss pattern on an in-mold transfer film or a hot stamping transfer film by a heat transfer printer and to make decoration without the secession of the metallic gloss pattern possible when a metal pattern is transferred from a transfer film to a molding.例文帳に追加

インモールド転写フィルムやホットスタンピング転写フィルムへ熱転写プリンターにて金属光沢パターンを形成し、転写フィルムから成型物へ金属パターンを転写した際の金属光沢パターンの離脱が無い加飾を可能とする。 - 特許庁

And, at inspection, a shadow of the fixed form pattern in photographed on the optical disk to be inspected 1, and compared with the reference image by an image recognition means 8, and the presence or absence of 'coat irregularity' is judged by a discrimination means 9 by recognizing deformed conditions of the fixed form pattern.例文帳に追加

そして検査時は、被検査光学ディスク１で定型模様の陰影を撮像し、画像認識手段８で基準画像と比較し、定型模様の変形具合を認識することにより、判別手段９で「コートむら」の有無を判定する。 - 特許庁

The aluminum alloy layer is then coated with a photoresist which is exposed to light using a photomask having a wiring pattern and is subjected to a development process to form a wiring pattern, and the aluminum alloy layer is then etched, by using the photoresist to form aluminum wiring 5.例文帳に追加

そして、アルミニウム合金層上にフォトレジストを塗布し、フォトレジストを配線パターンを有するフォトマスクを用いて露光し、現像して配線パターンを形成し、フォトレジストをマスクにして、アルミニウム合金層をエッチングしアルミニウム配線５を形成する。 - 特許庁

A foam glaze layer 2 is provided on the surface of a building material base 1 formed of ceramics, and non-foam glaze layers 3 are partially provided to form a dotted, linear or mesh pattern or to form a pattern combining them.例文帳に追加

セラミックスよりなる建材素地１の表面に発泡釉薬層２を設けるとともに非発泡釉薬層３を点状又は線状又は網目状の模様或いはこれらを組み合わせたものによる模様を形成するように部分的に設ける。 - 特許庁

In a stage (1), a photosensitive composition (ferroelectric forming composition layer) 3 which can form a ferroelectric thin film on a substrate 2 is applied to form a photosensitive layer, which is exposed to a specific pattern and developed to pattern the ferroelectric forming composition layer 3.例文帳に追加

（ａ）工程：基板２上に強誘電体薄膜を形成可能な感光性組成物３を塗布し、感光層を形成し、所定のパターンの露光を行い、現像することにより、強誘電体形成性組成物層３をパターニングする。 - 特許庁

To provide a dispenser for a liquid crystal display panel which can rapidly form a seal pattern on a substrate where a plurality of image display parts are formed and form a seal pattern on a small-size liquid crystal display panel, and to provide a dispensing method by using the dispenser.例文帳に追加

複数の画像表示部が形成された基板上に迅速にシールパターンを形成し、小さなサイズの液晶表示パネルにシールパターンを形成し得る液晶表示パネルのディスペンサ及びこれを利用したディスペンシング方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the circuit comprises the steps of irradiating a first conductive material layer formed on the surface of the insulating material with a laser beam, removing the conductive material at the irradiated position to form a circuit pattern, and forming a second conductive material layer on the circuit pattern to form the circuit.例文帳に追加

絶縁材表面に形成された第１の導電材層にレーザ光を照射し、照射箇所の導電材を除去することにより回路パターンを形成し、回路パターン上に第２の導電材層を形成して回路を形成する。 - 特許庁

The pachinko game machine 10 variably displays mini character patterns and derives and displays the variably displayed mini character pattern as the specific display form after the decorative pattern is temporarily stopped and displayed as the display form of the losing.例文帳に追加

パチンコ遊技機１０は、ミニキャラクタ図柄を変動表示させるとともに、装飾図柄がはずれの表示態様として仮停止表示された後に、その変動表示されているミニキャラクタ図柄を特定の表示態様として導出表示させる。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

The forming method for conductive patterns includes a lipophilic-pattern forming process of forming a lipophilic pattern on the substrate which has on a base material an insulating layer containing inorganic particles and having a hydrophilic property, and includes a conductive-pattern forming process of so feeding a fluidic electrode material to the substrate, whereon the lipophilic pattern has been formed in the lipophilic-pattern forming process as to form a conductive pattern.例文帳に追加

基材上に、無機粒子を含有しかつ親水性を有する絶縁性層を有する基板上に、親油性パターンを形成する親油性パターン形成工程と、前記親油性パターン形成工程で親油性パターンが形成された基板に流動性電極材料を供給して導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程とを含む。 - 特許庁

A pachinko game machine 10 variably displays decorative patterns and executes the control of temporarily stopping and displaying the variably displayed decorative pattern as the display form of losing different from a specific display form and a ready-to-win display form constituting one part of the specific display form.例文帳に追加

パチンコ遊技機１０は、装飾図柄を変動表示させるとともに、その変動表示されている装飾図柄を、特定の表示態様、及び、特定の表示態様の一部を構成するリーチ表示態様とは異なるはずれの表示態様として仮停止表示させる制御を行う。 - 特許庁

RESIST FORM PATTERN, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS, AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS例文帳に追加

レジスト形状パターン、レジストパターン形成方法、マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法、および磁気記録再生装置 - 特許庁

The surface of the woody material 1 is brought into contact with heated steam 3 in a pattern, the woody material 1 of a contact portion with heated steam 3 is denaturingly colored to form the pattern 4.例文帳に追加

木質材１の表面に、パターン状に加熱水蒸気３を接触させ、加熱水蒸気３の接触部分の木質材１を変性着色して模様４を形成する。 - 特許庁

Thereafter, a first heating is made on the resist film 102 having been subjected to the pattern exposure, and first development is applied to the heated resist film 102 to form a first resist pattern 102a.例文帳に追加

続いて、パターン露光が行われたレジスト膜１０２に第１の加熱を行い、加熱されたレジスト膜１０２に第１の現像を行って、第１のレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁

The light shielding film is etched with the first resist pattern as an etching mask to form the mask pattern comprising a light shielding region where the light shielding film is left and a transmission region where the light shielding film is removed.例文帳に追加

第１のレジストパターンをエッチングマスクとして遮光膜をエッチングし、遮光膜が残された遮光領域と、遮光膜が除去された透過領域とからなるマスクパターンを形成する。 - 特許庁

Then, function liquid L is arranged in a pattern forming region AR defined by the bank B to form a film pattern F1 having a film thickness smaller than the height of the first bank B1.例文帳に追加

そして、バンクＢによって区画されたパターン形成領域ＡＲに、機能液Ｌを配置して、第１のバンクＢ１の高さ以下の膜厚を有した膜パターンＦ１を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern exposure method and an apparatus for forming a pattern periodical along a conveying direction in a flexible form with a high throughput in a simple equipment with suppressed equipment investment.例文帳に追加

フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To easily form a virtual solid figure pattern (quasi solid figure pattern) with a stereoscopic effect without complicate processing and without using a specific material and equipment.例文帳に追加

煩雑な工程によることなく、また特別の材料、装置を用いることなく、簡単に、且つ立体感の大きい仮想的な立体図形模様（擬似立体図形模様）を形成する。 - 特許庁

This photosensitive adhesive composition can form a pattern by development and the storage modulus at 100°C after pattern formation is 10 MPa or lower.例文帳に追加

現像によるパターン形成が可能な感光性接着剤組成物であって、パターン形成後の１００℃における貯蔵弾性率が１０ＭＰａ以下である感光性接着剤組成物。 - 特許庁

To form an intermediate conductive layer using a simple process, to prevent displacement of the pattern due to accumulated charge when a pattern, is made on a resist film with an electron beam.例文帳に追加

レジスト膜を電子ビームによりパターン描画する際に生じる電荷蓄積による描画の位置ずれを防止するための中間導電層の成形を、簡便な工程で実現する。 - 特許庁

In this image forming apparatus, a pattern image comprising a plurality of dots of almost the same form arranged at an almost uniform interval, is formed on an image carrier (S2) and this pattern image is photographed by an imaging apparatus (S3).例文帳に追加

略同一形状の複数のドットを略均一間隔で配列したパターン画像を像担持体上に形成し（Ｓ２）、このパターン画像を撮像装置で撮像する（Ｓ３）。 - 特許庁

An insulation film 1 of such as a ceramic or the like and a conductor pattern 2 are laminated in an appropriate order to form a chip body 3 incorporating a coil 20 wherein the conductor pattern 2 is connected spirally.例文帳に追加

セラミック等の絶縁膜１と導体パターン２を適宜な順に積層し、当該内部に導体パターン２が螺旋状に繋がったコイル２０を内蔵するチップ本体３を形成する。 - 特許庁

The outward form of the line segment pattern is, e.g. a quadrangle and the line segment pattern comprises the quadrangle and a plurality of line segments tying a point on one side of the quadrangle with a point of another side.例文帳に追加

線分パターンは、外形がたとえば四辺形であって、その四辺形と、四辺形の１辺の点と他の１辺の点とを結んだ複数の線分とから構成される。 - 特許庁

On the other hand, the pattern molded article Z is manufactured by a lamination shaping method using a heat-resistant thermoplastic resin composition to integrally form a pattern having an uneven shape or a groove shape.例文帳に追加

一方、パターン成形物Ｚは、積層造形法により、耐熱性の熱可塑性樹脂組成物を使用して凹凸形状や溝形状等のパターンを一体的に形成する。 - 特許庁

In such a case, the tracking pattern is selected to correct the form of the tracking pattern in advance not to loose identifiability and latency because of the gamma correction using the gamma correction apparatus 204.例文帳に追加

ここで、追跡用パターンの選択は、ガンマ補正装置２０４でのガンマ補正により識別性および潜在性を失わないように、追跡用パターンの形状を予め補正するものである。 - 特許庁

A first process includes a step of exposing a first resist film 4 to transfer a pattern corresponding to a main aperture 5 and an auxiliary aperture 6 and developing to form a first resist pattern 4a.例文帳に追加

第１工程が、第１のレジスト膜４に、主開口部５及び補助開口部６に対応するパターンを露光し、現像して第１のレジストパターン４ａを形成する工程を有する。 - 特許庁

The lower warps 33 push up, on the obverse side, only the colored yarns 10 necessary for pattern expression among the set of colored yarns 10, 11, 12 and 13 to form the obverse side in a satin weave-photograph-fashioned pattern.例文帳に追加

下経糸３３は、１組の色糸１０、１１、１２、１３のうち柄表現に必要な色糸１０のみを表面側に押し上げ表面を繻子織の写真風柄に形成している。 - 特許庁

After a test resist film consisting of a chemically amplifying resist material is formed, the test resist film is subjected to pattern exposure and developing to form a test resist pattern 14A.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるテスト用レジスト膜を形成した後、該テスト用レジスト膜に対してパターン露光及び現像を行なって、テスト用レジストパターン１４Ａを形成する。 - 特許庁

An address storage part 4 stores an address to be outputted form the address pattern generation part 2, and at the same time successively outputs the address corresponding to data to be outputted from the data pattern generation part 3.例文帳に追加

アドレス記憶部４は、アドレスパターン発生部２から出力されるアドレスを記憶すると共に、データパターン発生部３から出力されるデータに対応するアドレスを順次出力する。 - 特許庁

Then, a pattern is drawn by the step of discharging a functional liquid to the tape 80 from a liquid discharge head, and the step of drying the functional liquid to form a pattern on the tape 80.例文帳に追加

その後、液滴吐出ヘッドからテープ８０へ機能液を吐出するステップと、機能液を乾燥させてテープ８０上にパターンを形成するステップと、によってパターンを描画する。 - 特許庁

Further, a dry film etc., are laminated on the copper thin film 3, and exposed and developed to form a plating resist in the reverse pattern of a conductor pattern to be formed in postprocessing.例文帳に追加

続いて、銅薄膜３上にドライフィルム等をラミネートし、露光および現像することにより、後工程で形成される導体パターンとは逆パターンのめっきレジストを形成する。 - 特許庁

A detection resister connected to a detection electrode pattern in series and a stray capacity of the detection electrode pattern form a high-pass filter through which a common mode noise generated in an input operation body passes.例文帳に追加

検出電極パターンに検出抵抗を直列に接続し、検出電極パターンの浮遊容量とで、入力操作体に発生するコモンモードノイズが通過するハイパスフィルターを形成する。 - 特許庁

Then when respective plates in a lot are exposed in a step 220, the formation state of the pattern is corrected using a suitable offset to form the pattern on the plates.例文帳に追加

そして、ロット内のプレートのそれぞれに対して、ステップ２２０で露光を行う際に、適切なオフセットを用いてパターンの形成状態を補正して、そのパターンをプレート上に形成する。 - 特許庁

To efficiently form a fine magnetized pattern more accurately in the technology of forming a magnetized pattern on a magnetic disk by combining local heating and external magnetic field application.例文帳に追加

局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気ディスクに磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can easily form a wiring pattern of not more than a resolution limit of lithography and a wiring pattern of an optional dimension other than that.例文帳に追加

リソグラフィの解像限界以下の配線パターンと、それ以外の任意の寸法の配線パターン等を簡易に形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The lamp has a structure to form in superposition a light distribution pattern for lane mark irradiation PA to irradiate the lane mark LM1 on a road shoulder side on a low-beam light distribution pattern PL.例文帳に追加

路肩側のレーンマークＬＭ１を照射するレーンマーク照射用配光パターンＰＡを、ロービーム用配光パターンＰＬに対して重畳的に形成する灯具構成とする。 - 特許庁

To provide a coating apparatus which prevents the film thickness at the peripheral part of a prescribed pattern from becoming thicker than that at another part when a solution is applied onto a substrate to form the pattern.例文帳に追加

この発明は基板に溶液を所定のパターンで塗布したときに、そのパターンの周辺部の膜厚が他の部分よりも厚くなるのを防止する塗布装置を提供することにある。 - 特許庁

Thus, during the probability variation, the appearing rate of a variation form of tentatively stopping and displaying the normal pattern, then varying it again and deriving a losing pattern is increased.例文帳に追加

これにより、確率変動時には、通常図柄を一旦停止表示した後に再変動して外れ図柄を導出するという変動態様の出現率を高くすることができる。 - 特許庁

To provide an exposure device which can form a desired device pattern on a substrate by removing an unnecessary liquid, when exposing a pattern on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The internal form of a fixed area is estimated from the thickness data of the plant facility, and by finding a wall thinning speed caused by the pattern of thickness or pattern of thinning distribution, thinning of wall is predicted.例文帳に追加

プラント設備の肉厚データから一定領域の内部形状を推定し、その肉厚のパターンや減肉分布のパターンに起因する減肉速度を求めることで、減肉の予測を行う。 - 特許庁

Then the resist film 19 is exposed and developed to be divided into pixels, irradiated with UV rays to harden only the surface layer, and then heat treated to form a specified rugged pattern like wrinkles on the surface of the resist film 19, the pattern depending on the size of the resist film 19.例文帳に追加

その後、熱処理を施すと、レジスト膜１９の表面にはレジスト膜１９の大きさにより決まる一定のパターンのしわ状の凹凸が形成される。 - 特許庁

After a sylilation layer is formed on the resist pattern 13A through a sylilation process, the organic film 12 is etched with plasma through the sylilation layer as a mask to form an organic film pattern.例文帳に追加

レジストパターン１３Ａにシリル化処理を行なってシリル化層を形成した後、有機膜１２に対してシリル化層をマスクにしてプラズマエッチングを行なって、有機膜パターンを形成する。 - 特許庁

After the barrier film 103 is removed, the resist film 102 subjected to pattern exposure is developed to form a resist pattern 102a having a favorable profile.例文帳に追加

続いて、バリア膜１０２を除去した後、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して現像を行なうことにより、良好な形状を有するレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for dry development with which it is possible to form a high resolution pattern with low line edge roughness in a silylation process, and a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

シリル化プロセスにおいて、低ラインエッジラフネスで、高解像度なパターンの形成が可能となるドライ現像用の感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁