「form pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To stably form a highly precise photo-resist pattern on an organic reflection preventing film formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に設けられている有機反射防止膜上に高精度なフォトレジストパターンを安定的に形成する。 - 特許庁

When the pattern is formed on the back surface of the main substrate 1, the auxiliary substrate 9 is separated form the main substrate 1.例文帳に追加

そして、本体基板１の裏面側にパターンが形成されると、本体基板１から補助基板９を剥離する。 - 特許庁

The rotary shaving tool 4 is formed in a roll form having uneven pattern on the outer periphery of the roller in the circumferential direction.例文帳に追加

回転研削工具４は、その外周に周方向へ並んだ凹凸を有するロール状に形成されている。 - 特許庁

Keywords which are voice inputted are converted into text form and a database composed of several data files is searched by pattern matching.例文帳に追加

音声入力されたキーワードをテキスト化して、複数のデータファイルからなるデータベースをパターンマッチングにより検索する。 - 特許庁

To form a wiring pattern on the surface of a ceramic green sheet (ceramic crude board) before baking by photolithography method.例文帳に追加

焼成前のセラミックグリーンシート（セラミック生基板）の表面にフォトリソグラフィ法で配線パターンを形成できるようにする。 - 特許庁

Furthermore, the core material film 31 is slimmed, to form a line-and-space-like pattern of a second width smaller than the first width.例文帳に追加

さらに、芯材膜３１をスリミングして第１の幅より小さい第２の幅のラインアンドスペース状のパターンを形成する。 - 特許庁

This ring body 2a is fixed to the supporter body 1 with a track pattern of a race field to form the elastic body 2.例文帳に追加

このリング体２ａをサポータ本体１に対して、レース場のトラックパターン状に止め付けて弾性体２を構成する。 - 特許庁

To form a resist pattern with accuracy in dimension, without using an antireflection film as a factor of increase in the number of processes.例文帳に追加

工程数の増加原因である反射防止膜を使用することなしに、レジストパターンを寸法精度よく形成する。 - 特許庁

A separation groove 11 is formed by selectively etching the conductive foil 10 to form a conductive pattern 21.例文帳に追加

導電箔１０を選択的にエッチングすることにより分離溝１１を形成して導電パターン２１を形成する。 - 特許庁

Then the exposed upper layer resist film 5 is developed to form an upper layer resist pattern 5a from the upper layer resist film.例文帳に追加

続いて、露光された上層レジスト膜５を現像して、上層レジスト膜から上層レジストパターン５ａを形成する。 - 特許庁

The substrate 1 is etched so as to form the diffraction grating by using the resist layer 3 on which the diffraction grating pattern is formed as a mask.例文帳に追加

回折格子パターンが形成されたレジスト層３をマスクに基板１をエッチングして回折格子を形成する。 - 特許庁

To accurately form a stripe-shaped surface pattern in a multicolor cosmetic, and to finish the boundary clearly and beautifully.例文帳に追加

多色化粧料におけるストライプ状の表面模様を正確に形成し、その境界を鮮明かつ美しく仕上げる。 - 特許庁

To form a dimple pattern and to optimize dimple disposition and distribution on a golf ball by using an electromagnetic field theory.例文帳に追加

電磁界理論を使用して、ディンプルパターンを形成すると共に、ゴルフボール上のディンプル配置及び分布を最適化する。 - 特許庁

To provide a game machine capable of suggesting a special pattern corresponding to a won special symbol combination in a suitable form.例文帳に追加

好適な形で当選した特別役と対応する特別絵柄を示唆することが可能な遊技機を提供する。 - 特許庁

Spacers 2 projecting in the form of a ring pattern at certain intervals are formed integrally with the outer peripheral surface of an injection pipe 1.例文帳に追加

注入管１の外周面に、一定間隔でリング模様状に突出した間隔材２を一体に形成する。 - 特許庁

The moire fringes are always perpendicular to the line joining the pair of spots which combine to form the moire pattern. 例文帳に追加

モワレ縞は、モワレ図形を形成するように結合している一対の回折斑点を結ぶ線と、常に垂直である。 - 科学技術論文動詞集

The clothes have connections 18A, 18B and 18C where the first layer and the second layer are connected along external form lines 10 (=repeating pattern) of the clothes.例文帳に追加

衣類の外形線１０（＝繰り返しパターン）に沿って第１層及び第２層を接続する接結部18A, 18B, 18Cを有する。 - 特許庁

A controller 24 variably displays the pattern of the pattern column 40 to be stopped last in a form different from predecessor on condition that the patterns other than the last pattern column are in a prescribed stop form, and at least when the pattern is stopped finally, displays a mark not displayed up to the time when the patterns other than the pattern column 40 to be stopped last are variably displayed.例文帳に追加

制御装置２４は、最後に停止される図柄列４０以外の図柄が所定の停止態様であることを必要条件に、当該最後の図柄列の図柄をそれまでとは異なる態様で変動表示させるとともに、少なくとも最終的にその図柄が停止する際には、少なくとも最後に停止される図柄列４０以外の図柄が変動表示されていたときには表示されていない標識を表示させる。 - 特許庁

An organic film is formed on a negative type resist pattern using the resist pattern scaledown material comprising a resin, a base generating agent and a solvent and a base component is diffused from the organic film into the resist pattern by heat treatment or irradiation with light to form a solubilized layer on the surface of the resist pattern.例文帳に追加

ネガ型レジストパターン上に、樹脂と、塩基発生剤と、溶媒とからなるレジストパターン微細化材料を用い有機膜を形成し、熱処理又は光照射処理により、有機膜からレジストパターン中に塩基成分を拡散させ、レジストパタン表面に可溶化層を形成させる。 - 特許庁

By performing an etching process so that the insulating film is left only under the second auxiliary pattern, in the etching process using the silyrated first auxiliary pattern and the second auxiliary pattern as etching masks, the hard mask film is etched to form a hard mask pattern.例文帳に追加

上記絶縁膜が上記第2の補助パターンの下部にのみ残留するようにエッチング工程を行い、上記シリレーションされた第1の補助パターン及び第2の補助パターンをエッチングマスクとして用いるエッチング工程で上記ハードマスク膜をエッチングしてハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁

This method of forming a hole pattern includes: a step S1 of forming an exposure pattern on resist on a first substrate by an exposure device; a step S2 of developing the exposure pattern to form a pattern of a hole on the resist; a measurement step S3 of measuring the shape of the hole; a determination step S4; and an adjustment step.例文帳に追加

ホールパターンの形成方法は、露光装置で、第１の基板上のレジストに露光パターンを形成するステップＳ１と、露光パターンを現像し、レジストにホールのパターンを形成するステップＳ２と、ホールの形状を測定する測定ステップＳ３と、判定ステップＳ４と、調整ステップと、を有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of improving production efficiency by allowing the film thickness of pattern-formed photoresists to be uniform in a substrate plane and shortening a processing time required for pattern formation, in reflow processing for dissolving a photoresist pattern to form a desired resist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、パターン形成されたフォトレジストの膜厚を基板面内で均一とし、且つ、パターン形成にかかる処理時間を短縮し生産効率を向上することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The magnetic RAM using the Schottky diode includes a stacked structure of word lines, a resistance variation pattern, and bit lines and is characterized by that a resistance variation element pattern and the semiconductor layer pattern or the semiconductor layer pattern and bit lines form the Schottky diode.例文帳に追加

ワードライン、抵抗変化素子パターン、半導体層パターン及びビットラインの積層構造を含み、抵抗変化素子パターンと半導体層パターン又は半導体層パターンとビットラインはショットキーダイオードを形成することを特徴とするショットキーダイオードを用いたマグネチックＲＡＭである。 - 特許庁

A method of forming a servo synch mark pattern is disclosed including; a step to form a first servo synch mark pattern in even-numbered track; and a step which forms a second servo synch mark pattern distinguished from the first servo synch mark pattern in an odd-numbered track.例文帳に追加

偶数トラックに第１サーボ同期表示パターンを形成するステップと、奇数トラックに前記第１サーボ同期表示パターンと区別される第２サーボ同期表示パターンを形成するステップと、を含むことを特徴とする、サーボ同期表示パターンの形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide an insulator ink resin composition that can help form a resist pattern by simple printing method, wherein the resist pattern is excellent in storage stability, ionic migration resistance, visibility in a thin film, and insulation reliability; to provide the resist pattern formed by using the insulator ink resin composition; and to provide a method of forming the resist pattern.例文帳に追加

保存安定性、耐イオンマイグレーション、薄膜での視認性、及び絶縁信頼性に優れるレジストパターンを簡便な印刷法により形成することのできる絶縁体インク樹脂組成物と、この絶縁体インク樹脂組成物を用いたレジストパターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

In a method for treating a plastic substrate pattern-formed on a surface by laser in order to form a core pattern suitable for later metallization, after pattern formation by laser, a substrate is made to come into contact with a process liquid suitable for removing undesired deposition that has occurred during the period of pattern formation.例文帳に追加

後続の金属化に適した核パターンを形成するためにレーザで表面にパターン形成されたプラスチック基体を処理する方法において、レーザによるパターン形成後、パターン形成中に発生した所望されない沈殿物を除去するのに適したプロセス溶液に基体を接触させる。 - 特許庁

In the case that the operation of increasing the lighting number of the advance announcement lamps 40 is stopped at pattern corresponding parts 44-47 corresponding to a special pattern same as a pattern constituting the ready-to-win state, the ready-to-win state is shifted to a specified stop form and the pattern corresponding parts 44-47 are made to flicker.例文帳に追加

リーチ状態を構成する図柄と同一の特別図柄に対応付けられた図柄対応箇所４４〜４７で予告ランプ４０の点灯数増加動作が停止した場合には、リーチ状態を特定停止態様に遷移させるとともに、前記図柄対応箇所４４〜４７を点滅させる。 - 特許庁

The casting pattern formed in accordance with shape of the product to be casted is produced in such a way that the shape of the casting pattern is uniformly divided into a plurality of blocks in one suitable direction among longitudinal, transverse and vertical directions to form a plurality of pattern parts and the plurality of the pattern parts are assembled in sequence.例文帳に追加

鋳造される製品の形状を象って成形される鋳造模型であって、前記鋳造模型の形状を、横、縦、高さのいずれか最適の方向へ複数のブロックに等分割して複数個の模型パーツを形成し、前記複数個の模型パーツを順に連結してなる。 - 特許庁

When a predetermined needle traverse pattern is selected, the data of the selected needle traverse pattern and the base line standard and the base line position stored in relation to the selected needle traverse pattern are read to form the stitch of the needle traverse pattern according to the base line standard or the bas line position (B).例文帳に追加

所定の針振りパターンが選択されると、選択された針振りパターンのデータ並びに選択された針振りパターンに関連して記憶された基線基準と基線位置が読み出されて該基線基準又は基線位置に応じた針振りパターンの縫目が形成される（Ｂ）。 - 特許庁

The method includes: controlling an emission beam; imparting a pattern to the emission beam by a reticle having a pattern image area and a reticle mark so as to form an emission beam with the pattern; and projecting the emission beam with the pattern on a target part of a substrate through a projection system.例文帳に追加

方法は、放射ビームを調節すること、パターン付き放射ビームを形成するためにパターン像領域及びレチクルマークを有するレチクルによって放射ビームにパターンを与えること、及び、投影システムによってパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影することを含む。 - 特許庁

Next, contour extraction p5 is applied to the extracted pattern to acquire a pattern contour line, comparative measurement p6 is performed from data of the contour line to quantitatively measure a form difference of the pattern, and an acceptance/rejection decision p7 is performed to inspect the pattern appearance of the inspection target mask.例文帳に追加

次に抽出されたパターンに対して輪郭抽出処理ｐ５を行いパターン輪郭線を取得し、輪郭線のデータから比較計測ｐ６を行ってパターンの形状差を定量的に計測し、合否判定ｐ７することにより検査対象マスクのパターン外観検査を行う。 - 特許庁

A resist pattern is then formed on the surface side (the upper face in Fig. 2(b)) of the thermally oxidized SiO_2 film 22 using the usual photolithographic technique, and dry etching is carried out using the resist pattern as a protective film to form a SiO_2 pattern 22a.例文帳に追加

次に、熱酸化ＳｉＯ_2膜２２の表面側（図２（ｂ）の上面）に通常のフォトリソグラフィ技術を用いて、レジストパターンを形成し、このレジストパターンを保護膜にしてドライエッチングを行い、ＳｉＯ_2パターン２２ａを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste which can form a high-definition resistor pattern, has small variation of a resistance value of a resistor pattern after having been burned and has a long pot life, and to provide a resistor pattern which has high definition and has small variation of a resistance value.例文帳に追加

高精細な抵抗体パターンを形成でき、焼成後の抵抗体パターンの抵抗値のばらつきが小さく、かつポットライフが長い感光性ペーストならびに高精細かつ抵抗値のバラツキの少ない抵抗体パターンを得ること。 - 特許庁

A pattern shape of a transverse rectilinear form covering the extraction pattern 17Aa and a pattern shape indicating a character 'OFF' are formed within the display area (on the inner side of an alternate long and two short dashes line f) of the liquid crystal display device by the sealing material S'.例文帳に追加

このシール材Ｓ’により、液晶表示装置の表示エリア内（二点鎖線ｆの内側）に引き出しパターン１７Ａａを覆う横一直線状のパターン形状と「ＯＦＦ」の文字を表すパターン形状とが形成される。 - 特許庁

The printed body 100 is exposed to microwave surface wave plasma in a treatment chamber 11 of a pattern forming apparatus which generates the microwave surface wave plasma and the metal particulates of the pattern printed body are sintered to form the conductive pattern.例文帳に追加

そして、この印刷物１００は、マイクロ波表面波プラズマを発生させるパターン形成装置の処理室１１内でプラズマに晒し、パターン印刷物の金属微粒子を焼結させて導電性パターンを形成する構成としてある。 - 特許庁

Since the silicon oxynitride film pattern 16 widening a lower part can be formed on a forward taper shape, the wiring layer pattern 17 can be formed at a very narrow interval even when the interval does not form the resist pattern exceeding the resolution limit.例文帳に追加

順テーパー形状に下部が広がったシリコン酸窒化膜パターン１６を形成できるので、間隔が解像限界を超えるレジストパターンを形成しなくても非常に狭いパターン間隔で配線層パターン１７の形成ができる。 - 特許庁

subsequently, the resist film 11, from which the solvent is evaporated, is selectively irradiated in a vacuum by extreme ultraviolet rays 14 to effect pattern exposure, and, thereafter, the resist film 11 exposed through pattern exposure is developed to form a resist pattern 16.例文帳に追加

次に、溶媒が揮発したレジスト膜１１に対して真空中において極紫外線１４を選択的に照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１６を形成する。 - 特許庁

A white part of the mask pattern corresponds to the outline of the text which is made thicker, so the background image and mask pattern are ANDed and the text pattern is ORed, to form a void part around the text superposed on the background image.例文帳に追加

マスクパターンの白部分は、テキストの輪郭を太くしたものに対応しているので、背景画像とマスクパターンとをＡＮＤ合成し、テキストパターンをＯＲ合成すれば、背景画像に重ねられたテキストの周囲に白抜き部が形成される。 - 特許庁

Finally, a coupling part of the coil pattern is removed by end milling to form a hole 4, to have a spiral coil pattern, of which, a solder is poured into the holes 6, 7 to complete the Vane at the center part of the spiral of the double-side coil pattern.例文帳に追加

最後にコイルパターンの連結部をエンドミル加工で除去して孔４を形成し、渦巻き状のコイルパターンとし、孔６と７の中に半田を流し込むことにより、両面のコイルパターンを渦巻きの中心部分でVaneが完成する。 - 特許庁

To form a drawn pattern matching with a ground pattern section in a transfer foil area by transferring a diffraction grating pattern transfer foil on each of securities.例文帳に追加

本発明は、有価証券類に回折格子パターン転写箔を転写することにより、この転写箔の領域内に下地絵柄部とマツチした抜き絵柄の形成を可能とした偽造防止策が施された有価証券類を提供する。 - 特許庁

Joule heat generated in the electrode pattern 11 vaporizes the vapor deposition material 12, the vaporized material is deposited on the surface facing the substrate 30 to form a thin film 31 of the pattern shape corresponding to the electrode pattern 11.例文帳に追加

これにより、電極パターン１１において発生するジュール熱が蒸着材料１２を蒸発させ、これが基板３０の対向面に蒸着し、電極パターン１１に対応したパターン形状の薄膜３１が形成される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus including a pattern type selecting means for selecting a pattern type, effectively performing gradation correction in a short time by selecting the pattern type to be selected in consideration of a user's operating form.例文帳に追加

パターン種を選択するパターン種選択手段を備え、該選択するパターン種はユーザーの使用形態を考慮して選択することによって、短時間で効果的な階調補正を行うことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

While the second resist pattern and the hard mask pattern are used as an etching mask, the organic insulating film is etched until the organic insulating film is removed inside the via hole so as to form a wiring groove 110 on the via hole, and the second resist pattern is removed.例文帳に追加

第２レジストパターン及びハードマスクパターンをエッチングマスクとしてビアホール内の有機系絶縁膜が除去されるまで有機系絶縁膜をエッチングしてビアホール上に配線溝１１０を形成し、第２レジストパターンを除去する。 - 特許庁

The template is composed of pattern parts 21a and 22a having patterns which form the patterns in products, a boundary part 23a formed between the pattern parts 21a and 22a, and fringe parts 3a formed around the pattern parts 21a and 22a.例文帳に追加

複数の製品に模様を設ける複数の模様を有する模様部２１ａ、２２ａと、この複数の模様部２１ａ、２２ａの間に設けた境界部２３ａと模様部２１ａ、２２ａの周囲に設けられる縁部３ａとからなる。 - 特許庁

In a pattern-forming region 17, the light-absorbing film 14 is selectively removed to form a pattern 18, and the light-absorbing film 14 is removed in a frame-shaped region surrounding the pattern forming region 17.例文帳に追加

そして、パターン形成領域１７において光吸収膜１４を選択的に除去してパターン１８を形成すると共に、パターン形成領域１７を囲む枠状の領域において光吸収膜１４を除去する。 - 特許庁