| 例文 |
form patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4548件
After the pattern exposure, the barrier film 103 is removed, and the resist film 102 subjected to the pattern exposure is developed to form a resist pattern 102a having a preferable profile.例文帳に追加
続いて、パターン露光を行なった後に、バリア膜103を除去し、さらに、パターン露光が行なわれたレジスト膜102に対して現像を行なって、形状が良好なレジストパターン102aを形成する。 - 特許庁
Since the pattern parts 4 of the other surface 3 are more uneven than the fine uneveness 21 of one side of the light pervious resin plate, the pattern parts 4 are visually confirmed in the fine unevenness 21 in a foated state to form the pattern parts 4 having a three-dimensional feeling.例文帳に追加
他面の模様部4が片面の微細凹凸21より大きな凹凸であるため、微細凹凸21の中に模様部4が浮かび上がって視認され、立体感のある模様部4となる。 - 特許庁
Although the comparison of pattern is usually effected employing a secondary electron image, the profile of pattern is extracted employing a reflective electron image which is said that it is suitable for the observation and inspection of the solid form of the pattern.例文帳に追加
パターン比較は通常2次電子像を用いて行うが、パターンの立体形状の観察及び検査に適すると言われている反射電子像を用いて、パターンの輪郭を抽出する。 - 特許庁
A graphic pattern to be included in a divided region 72 is transferred to a resist layer 74 via a mask 73 by using a pattern transfer method of an optical contact-less system to form a latent image 75b of the graphic pattern.例文帳に追加
光学的非接触方式のパタン転写方法を用いて、分割領域72に含まれる図形パタンをマスク73を介してレジスト層74に転写し、図形パタンの潜像75bを形成する。 - 特許庁
To form a resist pattern with a small variation of resist pattern size per unit temperature suitable for a thermal flow process, high intrasurface uniformity in the resulting resist hole pattern size and excellent section shape.例文帳に追加
サーマルフロープロセスに適合した単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量が小さく、得られるレジストホールパターンサイズの面内均一性が高く、かつ断面形状の優れたレジストパターンを形成させる。 - 特許庁
The pattern forming process 20 comprises the steps of removing the primary coating film on the part where the liquid-repellent film is not formed, coating the liquid pattern material and annealing it to form a pattern of a specified shape.例文帳に追加
パターン形成工程20は、撥液膜の形成されていない部分の下地膜を除去し、液体パターン材料を塗布してアニールすることにより、液体パターン材料を所定形状のパターンにする。 - 特許庁
To provide a patterning process in which a closely packed dot pattern and an isolated dot pattern are formed in one exposure using a positive resist film and which patterns are used to form a hole pattern by positive/negative reversal.例文帳に追加
ポジ型レジスト膜を用い、1回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A photo resist pattern formation process of forming the photo resist pattern by exposing the photo resist film 18 in a pattern form and further developing the photo resist film 18 is performed separately two or more times.例文帳に追加
そして、フォトレジスト膜18をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜18を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、2回以上に分けて行う。 - 特許庁
Therefor, an insulating film is formed on the inductor pattern, and after the insulating film is removed to form a groove so that the inductor pattern may appear, the conductive pattern is conformaly formed on the groove and the insulating film.例文帳に追加
このため、インダクターパターン上に絶縁膜を形成し、インダクターパターンが現れるように絶縁膜を除去してグルーブを形成した後、グルーブと絶縁膜上にコンフォーマルに導電パターンを形成する。 - 特許庁
The inside parts of the profile lines 19, 21 become a pattern forming part 24 for forming a pattern, By the passage of the short fibers through the holes 17a, the article is flocked to form the pattern.例文帳に追加
輪郭線19,21の内側部分が前記柄を形成する柄形成部24となり、短繊維が柄形成部24の孔17aを通過することで被加飾品に植毛され柄が形成される。 - 特許庁
To provide an apparatus for forming a functional film pattern which can form a film pattern uniform in the depth direction without being made large-sized, and to provide a method for forming the functional film pattern and electronic equipment.例文帳に追加
装置を大型化せずに、深さ方向に均一な膜質のパターンを形成することのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a rotary type pattern variable display device provided with a detection means for facilitating the mounting of a pattern display member in the pattern variable display device of a rotary form, its assembly, and adjustment method.例文帳に追加
回転形式の図柄可変表示装置における図柄表示部材の装着を容易にする検出手段を備えた回転式図柄可変表示装置とその組立、調整方法を提供する。 - 特許庁
The template is separated from the mask material to form a mask material pattern 20' on the substrate, radiation-sensitive resist is formed on the mask material pattern, and after the radiation-sensitive resist is irradiated selectively with radiation, the radiation-sensitive resist is developed to form a radiation-sensitive resist pattern 30' covering part of the mask material pattern.例文帳に追加
テンプレートをマスク材料から離して基板上にマスク材パターン20’を形成し、マスク材パターン上に感放射線レジストを形成し、感放射線レジストに選択的に放射線を照射した後、感放射線レジストを現像することにより、マスク材パターンの一部を覆うように感放射線レジストパターン30’を形成する。 - 特許庁
The initial resist pattern 22 in the lattice shape is anisotropically etched by using a method for plasma etching etc., to form a lattice-shaped resist pattern 23 which is reduced in line width and further the plasma etching is carried on to form a resist pattern 24 in a pillar shape and a pillar-shaped resist pattern 25 of desired shape at an intersection part.例文帳に追加
プラズマエッチングなどの手法を用いて、格子状の初期レジストパターン22を等方的にエッチングし、線幅が縮小された格子状レジストパターン23を、さらに、プラズマエッチングをさらに進め、交点部にピラー形状のレジストパターン24及び所望の寸法のピラー形状レジストパターン25を形成する。 - 特許庁
When a prescribed stop form indicating that the result of winning/losing drawing is a losing is determined as the stop form of special patterns, the variation pattern determination means 115 sets a special pattern selection table wherein the selection frequency of a prescribed variation pattern is higher than the other tables as a pattern selection table to be referred to.例文帳に追加
変動パターン決定手段115は、特別図柄の停止態様として当否抽選の結果が外れであったことを示す所定の停止態様が決定された場合、参照すべきパターン選択テーブルとして、所定の変動パターンの選択頻度が他のテーブルより高い特殊パターン選択テーブルを設定する。 - 特許庁
To provide a forming method for a flow pattern in a plastic bathtub which can form the flow pattern in an arbitrary shape and moreover can always form a pattern in an individual bathtub uniformly and with excellent reproducibility, and which can prevent the pattern from being discolored by hot water and further can bring about a profound feel of depth like marble.例文帳に追加
流れ模様を任意の形で形成でき、しかも個々の浴槽における柄を常に均一にしかも再現性よく形成できるうえ、模様が熱水によって変色するのを防止でき、さらに大理石に似た奥行きのある深み感を発現できる、プラスチック浴槽における流れ模様の形成方法を提供する。 - 特許庁
An input layout data is sorted to rectangular shapes of different pattern widths, a boundary for dividing peripheral part or internal part is generated for each sorted figure, an input pattern is formed into a fine pattern at the boundary and a complementary mask, shared to form fine patterns in both sides of the boundary is used as different layers, in order to form a pattern.例文帳に追加
入力レイアウトデータをパターン幅別矩形などに分類し、分類した図形毎に周辺もしくは内部を分割する境界を作成し、入力パターンを境界で細分パターン化し、境界の両隣の細分パターンが互いに異なる層になるように振り分けた相補マスクを用いてパターン形成を行う。 - 特許庁
A method for manufacturing a conductive pattern-formed substrate of the present invention includes: a conductive pattern formation step of irradiating a transparent conductive layer provided on an insulation substrate with a pulse-form laser beam in a predetermined pattern to form an insulation portion and forming at least a conductive pattern; and a re-irradiation step of re-irradiating a part of the insulation portion with the pulse-form laser beam.例文帳に追加
本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、絶縁基板上に設けられた透明導電層にパルス状レーザ光を所定パターンで照射することにより絶縁部を形成して、少なくとも導電パターンを形成する導電パターン形成工程と、前記絶縁部の一部にパルス状レーザ光を再照射する再照射工程とを有する。 - 特許庁
The disclosure relates to a polymorphic form D of bazedoxifene acetate having a specific powder X-ray diffraction pattern, a pharmaceutical composition and treating method to use the polymorphic form D, and a method for producing the polymorphic form D of bazedoxifene acetate.例文帳に追加
本開示は、特定の粉末X線回折パターンを有する酢酸バゼドキシフェンの多形フォームD、それを用いた医薬組成物及び治療方法、並びにその製造方法に関する。 - 特許庁
The exposed part of the first insulation film is so etched with the second etching stopper film pattern and the spacer as a mask as to form a node contact hole to expose the conductive region to form a first insulation film pattern.例文帳に追加
導電領域を露出させるノードコンタクトホールが形成されるように第2エッチング阻止膜パターン及びスペーサをマスクとして露出された第1絶縁膜をエッチングして第1絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁
To provide a composition for forming a silicon-containing film which has high anti-reflection effect, can form a silicon-containing film excellent in oxygen-proof ashing, and can stably form a resist pattern without a trailing pattern at the bottom.例文帳に追加
反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a pattern form by which a fine pattern form can be manufactured without using a photolithography method even in the case where a micro-contact printing is not appropriate.例文帳に追加
マイクロ・コンタクトプリンティングに適さないような場合であっても、フォトリソグラフィ法を用いることなく精細なパターン形成体を製造することが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A first image forming apparatus 11 is configured to form a first pattern image 50 for tone correction on recording paper, a second image forming apparatus 21 is configured to form a second pattern image 51 for tone correction on the recording paper.例文帳に追加
第1の画像形成装置11は、階調補正用の第1のパターン画像50を記録紙に形成し、第2の画像形成装置21は、階調補正用の第2のパターン画像51を記録紙に形成する。 - 特許庁
Also, in the case of losing in the shift drawing using a random number put on hold, first stop pattern drawing for deciding whether or not to turn a stop display form to be displayed at the pattern display device to a ready-to-win form is performed.例文帳に追加
また、保留にされた乱数を用いた移行抽選でハズレとなる場合に、図柄表示装置に表示させる停止表示態様をリーチ目にするか否かの第1停止図柄抽選が行われる。 - 特許庁
Hot press work is applied to the rubber base material 10 by a hot press to form a hot press pattern on the bottom layer 12 by plastic deformation and the rubber layer 11 is drawn by the bottom layer 12 to form the pattern on the surface of the rubber layer 11.例文帳に追加
ホットプレス装置でゴム基材10にホットプレス作業を施すことで、底層12に可塑性変形によるホットプレスパターンを形成し、ゴム層11が底層12に引っ張られ、その表面にパターンが形成される。 - 特許庁
To provide a method of efficiently manufacturing a developing roller which does not form or hardly forms a speckled pattern on an image, and the developing roller which does not form or hardly forms the speckled pattern on the image.例文帳に追加
画像上にまだら模様が発生しない或いは発生しにくい現像ローラを効率よく製造する方法、および画像上にまだら模様の発生しない或いは発生しにくい現像ローラを提供する。 - 特許庁
To provide a pattern form which can form patterns in a simple step and can form patterns even if the form is not irradiated with energy in the form of the patterns by a method using a photomask, a method using electron beam lithography, etc.例文帳に追加
本発明は、簡便な工程での形成が可能であり、フォトマスクを介する方法や電子線描画を用いる方法等によりエネルギーをパターン状に照射しなくとも、パターン形成が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁
The forming method of wiring pattern comprises a step (A) wherein the drop of liquid conductive material is discharged to a predetermined section in a pattern forming region rimmed by a bank pattern to form a conductive material layer covering the pattern forming region.例文帳に追加
配線パターン形成方法は、バンクパターンに縁取られたパターン形成領域における所定のセクションへ液状の導電性材料の液滴を吐出して、パターン形成領域を覆う導電性材料層を形成するステップ(A)を含んでいる。 - 特許庁
To suppress pattern noise generated during the rolling of a tire with a tread pattern in which a plurality of kinds of pattern elements are arranged adjacent to each other along the whole periphery in the peripheral direction of the tire in at least a partial tire tread part to form a pattern design row.例文帳に追加
少なくとも一部分のタイヤトレッド部に、タイヤ周方向の全周に沿って複数の種類のパターン要素が隣接して配置されてパターンデザイン列が形成されたトレッドパターン付タイヤにおいて、転動中に発生するパターンノイズを抑制する。 - 特許庁
The spider web pattern coating method is embodied by one wherein the spider web pattern is prepared by coating a substrate with the coating composition to form continuous threads and is composed of a thread-like pattern part and a pattern part comprising mixed and collected thread-like patterns.例文帳に追加
また、前記乱糸模様が、前記塗料組成物を連続した糸状で被塗物上に塗着させてなり、糸状の模様部分と、糸状の模様が混じりあい溜まった模様部分とを含む乱糸模様である乱糸模様塗装方法。 - 特許庁
The method for forming an imprint pattern includes: contacting a template having a pattern with a resist on a substrate to be treated; releasing the template from the resist after curing the resist to form a resist pattern such that the resist pattern is transferred to the substrate to be treated.例文帳に追加
パターンを有するテンプレートを被処理基板上のレジストに対して接触させ、前記レジストを硬化したのち前記テンプレートを前記レジストから離型してレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを前記被処理基板に転写形成する。 - 特許庁
To provide a method of forming a conductive pattern which can form a fine pattern having a high resolution and conductivity, and to provide a conductive pattern material, from which the fine pattern having a high resolution and conductivity can be formed and which has a wide range of applications.例文帳に追加
微細で解像度及び導電性の高いパターンを形成しうる導電性パターン形成方法、及び、微細で解像度及び導電性の高いパターンが形成されてなる応用範囲の広い導電性パターン材料を提供する。 - 特許庁
When an oxide film pattern is used as an etching mask to form a metal film pattern, the oxide film pattern is formed and then, the cleaning liquid is used to remove the etching by-product layers around the oxide film pattern before dry-etching the metal film.例文帳に追加
金属膜パターンを形成するために、酸化膜パターンをエッチングマスクとして利用する場合には、酸化膜パターンを形成した後、金属膜を乾式エッチングする前に該洗浄液を使用して酸化膜パターン周囲のエッチング副産物層を除去できる。 - 特許庁
To provide a substrate processing method capable of preventing the occurrence of a pattern defect by suppressing deformation of a resist pattern due to substitution of a solvent atmosphere in a chamber, in reflow processing for dissolving the resist pattern in the chamber to form a desired resist pattern.例文帳に追加
チャンバ内でフォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、チャンバ内の溶剤雰囲気置換に伴うレジストパターンの変形を抑制し、パターン不良の発生を防止することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁
Thus, the pattern variation time is selected by taking a variation history into consideration, the biased extraction of only the pattern variation patterns of the long pattern variation time or the extraction of only the pattern variation patterns of the short pattern variation time inversely is not performed, a balanced pattern variation form is realized and the bias of the pattern variation time is suppressed.例文帳に追加
このため、変動履歴を考慮して図柄変動時間が選定され、図柄変動時間の長い図柄変動パターンばかりが偏って抽出されたり、またはその逆に図柄変動時間の短い図柄変動パターンばかりが抽出されるようなことはなく、均衡のとれた図柄変動態様を実現することができ、図柄変動時間の偏りを抑止することができる。 - 特許庁
To provide a pattern forming material having a good resist surface profile and capable of forming a higher-definition pattern by using a highly transparent substance as a support so as to form a permanent pattern such as a solder resist, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a permanent pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
ソルダーレジストのような永久パターンの形成を目的として、高透明な物質を支持体として使用することにより、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁
To form a buried pattern which maintains high CMP rate and is excellent in reliability by reducing an etching rate sufficiently.例文帳に追加
エッチング速度を十分に低下させ、高いCMP速度を維持し信頼性の高い埋め込みパターンを形成する。 - 特許庁
A plurality of ceramic green sheets 11 forming a printed pattern 17 are laminated to form a green sheet laminate 21.例文帳に追加
印刷パターン17を形成したセラミックグリーンシート11を複数積層してグリーンシート積層体21を形成した。 - 特許庁
Particularly, this substrate has pattern forming regions (10) each of which is patterned in a prescribed shape to form the film.例文帳に追加
特にこの基板は、膜を形成するために特定形状にパターン化されたパターン形成領域(10)を備える。 - 特許庁
To form an excellent trench resist pattern on a via hole in a method for forming a trench by a dual-damascene method.例文帳に追加
デュアルダマシン法によるトレンチの形成方法において、ビアホール上に良好なトレンチレジストパターンを形成する。 - 特許庁
In a measuring step S20, the resist pattern form of basic patterns which are formed after exposure and development steps is measured.例文帳に追加
測定工程S20では、露光、現像工程後に形成された基本パターンのレジストパターン形状を測定する。 - 特許庁
The secondary area of the covering layer 3 is partially etched via the second etching mask to form a salient pattern.例文帳に追加
カバリング層3の副領域は、第2のエッチングマスクを介して部分的にエッチングされ、突出パターンが形成される。 - 特許庁
To form a decoration pattern under constant light in radiation without being affected with the color and the thickness of a substrate.例文帳に追加
塗料の色や厚さの影響を受けずに一定の光照射条件で装飾パターンを形成すること - 特許庁
Then the exposed resist film 102 is developed to form a first resist pattern 102b from the resist film 102.例文帳に追加
次に、露光されたレジスト膜102を現像して、レジスト膜102から第1レジストパターン102bを形成する。 - 特許庁
WSiN is formed into a film (step S12), and this film is etched (step S14) to form a dummy pattern.例文帳に追加
WSiNを成膜し(工程S12)、このWSiN膜をエッチングし(工程S14)、ダミーパターンを形成する。 - 特許庁
To form a stable recessed pattern in manufacturing a magnet roll.例文帳に追加
本発明はマグネットロールの製造方法に関するものであって、安定した凹状パターンを形成することを目的とする。 - 特許庁
The player pays great attention to the fluctuation form, and consequently, significance of the pattern fluctuation is increased.例文帳に追加
さらには遊技者は、その変動態様に大きな注意を払うこととなり、図柄変動の意義が向上する。 - 特許庁
When the created pattern image is combined with the document image data (S810), a document form is created.例文帳に追加
生成されたパターンイメージを当該文書画像データに合成する(S810)ことにより、文書フォームを生成する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|