「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(99ページ目) - Weblio英語例文検索

On the multilayer substrate, a conductive pattern 3b on an intermediate layer, located nearer to the circuit board 4 from the conductive pattern 3a, is electrically connected to the conductor 4a of the circuit board 4 through conductive wires 5, such as gold wires.例文帳に追加

そして、多層基板において、導電性パターン３ａよりも回路基板４側に位置する中間層の導電性パターン３ｂと回路基板４の導体部４ａとを金ワイヤー等の導電性線材５で電気的に接続する。 - 特許庁

To obtain icon displays, display pattern parts 171, 172, and 173 of an optical modulation layer 17 are formed and control areas 114, 115, and 116 overlapping with those display pattern parts 171 to 173 in plane are formed on a liquid crystal panel 11.例文帳に追加

アイコン表示を得るために、光変調層１７の表示パターン部１７１，１７２，１７３を形成し、これらの表示パターン部に平面的に重なる制御領域１１４，１１５，１１６を液晶パネル１１に形成している。 - 特許庁

The upper electrodes of the capacitance elements C3, C4 are formed of a conductor pattern Me2b in the same layer as the conductor pattern Me2a and made to be at a floating potential, but are not connected with the upper electrodes of the capacitance elements C1, C2.例文帳に追加

容量素子Ｃ３，Ｃ４の上部電極は、導体パターンＭｅ２ａと同層の導体パターンＭｅ２ｂにより形成されて浮遊電位とされているが、容量素子Ｃ１，Ｃ２の上部電極とは導体では接続されていない。 - 特許庁

In this ceramic green sheet, on the surface of which a circuit pattern is formed, a surface layer part of a surface on which the circuit pattern is formed is humidified until its water content reaches 1.5-10 wt.%, and the sheet resistivity thereof is made not to exceed 9×1012 (Ω/(square)).例文帳に追加

表面に回路パターンが形成されるセラミックグリーンシートにおいて、その回路パターンを形成する面の表層部を含水率１．５〜１０重量％に加湿し、その表面抵坑率を９×１０^12（Ω／□）以下とする。 - 特許庁

Following deposition of a first interlayer insulation film on a semiconductor substrate on which a first conductive pattern has been formed, an etching block layer pattern having an etching selection ratio to the first interlayer insulation film is formed partially only in a specified region.例文帳に追加

第１導電パターンが形成された半導体基板に第１層間絶縁膜を蒸着した後、第１層間絶縁膜とエッチング選択比を持つエッチング阻止層パターンを特定の領域に限って部分的に形成する。 - 特許庁

Then, after a magnetic film 17a' for formation of an upper pole chip is formed so as to cover the photoresist pattern 31 and the recording gap layer 9, the film is applied to anisotropic etching to form a side wall on the side end face of the photoresist pattern 31.例文帳に追加

次に、フォトレジストパターン３１および記録ギャップ層９を覆うようにして上部ポールチップ形成用磁性膜１７ａ′を形成したのち、異方性エッチングを施し、フォトレジストパターン３１の側端面にサイドウォールを形成する。 - 特許庁

To provide a resin duplication plate for duplicating a fine rugged pattern such as a hologram, the plate having both satisfactory adhesiveness between a base material and a rugged pattern resin layer and release property of the surface of the duplication plate.例文帳に追加

ホログラム等の微細凹凸パターンを複製するための樹脂製複製版において、基材と凹凸パターン樹脂層との密着性、並びに複製版表面の離型性を同時に満足させる樹脂製複製版を提供する。 - 特許庁

A liquid channel pattern is formed on a plane including the end face of the plurality of piezoelectric vibrators 11, a coating resin layer 1 is provided thereon, and then the liquid channel pattern is removed to form a plurality of pressure chambers 4, and the like.例文帳に追加

ついで、複数の圧電振動子１１の端面を含む平面上に液流路パターンを形成し、その上に被覆樹脂層１を設けたのち前記液流路パターンを除去することによって複数の圧力室４等を形成する。 - 特許庁

Insulating paste is applied onto the ceramic board 11 covering the lower conductor pattern 1a and then rinsed out with a solvent, until the upside of the lower conductor pattern 1a is exposed, and an inter-line insulating layer 23 is formed.例文帳に追加

下部導体パターン層１ａを覆ってセラミック基板１１の上に絶縁ペーストを付与し、該絶縁ペーストを少なくとも下部導体パターン層１ａの上面が露出するまで溶剤で洗い流し、ライン間絶縁層２３を形成する。 - 特許庁

To provide a ceramic package type optical module in which an FG electrode pattern and an SG electrode pattern provided on a multi-layer ceramic substrate configuring side walls of the ceramic package module, are electrically and effectively isolated each other and which can be made small-sized.例文帳に追加

セラミックパッケージの側壁を構成する多層セラミック基板に設けられたＦＧ電極パターンとＳＧ電極パターンとが電気的に効果的に絶縁された、小型化が可能なセラミックパッケージ型の光モジュールを提供する。 - 特許庁

The pattern forming layers 17, 18 are located not to interfere with each other in a plan view, and one of the pattern forming layers 17, 18 is superposed on the intermediate layer 19 to secure the concealing property of the door face material 12.例文帳に追加

各模様形成層１７，１８は、平面視で相互に非干渉となる位置に設けられており、各模様形成層１７，１８の何れか一方が中間層１９に重なり合うことで扉面材１２の隠蔽性が確保されている。 - 特許庁

Since the intensity of light being projected to the lower layer photosensitive material decreases only at the outline position of the phase shifter, a fine pattern is formed, and the pattern density is doubled because the patterns are formed on the opposite sides of the phase shifter.例文帳に追加

位相シフタの輪郭位置でだけ下層感光性材料に照射される光の強度が低くなるため、微細パターンを形成することができ、位相シフタの両側にパターンができるのでパターン密度を倍加することができる。 - 特許庁

The electrocasting master having a concave and convex pattern comprises a substrate having a conductive area on at least one main surface, and a convex pattern layer which is formed on the conductive area of the one main surface and consists of microcrystal, polycrystal, amorphous, or the oxide thereof.例文帳に追加

凹凸パターンは、少なくとも一方の主面に導電性領域をもつ基板と、一方の主面の導電性領域上に形成された、微結晶、多結晶、アモルファスまたはその酸化物からなる凸パターン層とを有する。 - 特許庁

This pattern forming device has an intaglio 1 which forms a pattern to a transfer medium with a bank 86 for compartmenting a recessed part 84 formed on a conducting layer 81 arranged on the surface of a sheet glass 5 by transferring a toner particle 55.例文帳に追加

パターン形成装置は、ガラス板５の表面にある導電層８１の上に凹部８４を区画するバンク８６を形成した被転写媒体に対し、トナー粒子５５を転写してパターンを形成する凹版１を有する。 - 特許庁

Consequently, in the same layer of a multilayer wiring board, a first wiring pattern 100 interposed connectively between the power-supply terminals 110, 120 and a second wiring pattern 200 interposed connectively between the ground terminals 210, 220 can be so disposed in parallel with each other that they do not intersect each other.例文帳に追加

これにより、多層配線基板の同一層において、電源端子間を結ぶ第１配線パターン１００と接地端子間を結ぶ第２配線パターン２００とを交差しないように平行に設けることが可能となる。 - 特許庁

In the method of the invention, the arranged design is formed into a "durable image material" forming at least a part of the design layer within the print pattern, and the arranged design is not formed into a durable image material outside the print pattern.例文帳に追加

本方法においては、印刷パターン内において、配置されたデザインはデザイン層の少なくとも一部を形成する「耐久性イメージ材」に成され、印刷パターン外において、配置されたデザインは耐久性イメージ形成材に成されない。 - 特許庁

The inductor uses a stacked inductor connected so that the inductor pattern of a spiral shape and the inductor pattern formed in the other layer that the directions of the spiral shape are symmetrical in reverse and superimposed become equal in the flowing directions of currents.例文帳に追加

インダクタは、スパイラル形状のインダクタパターンと、スパイラルの向きが逆で対称であり重畳されるように他の層に形成したインダクタパターンを、流れる電流の向きが等しくなるように接続したスタック型インダクタを用いる。 - 特許庁

To provide a method for forming a diffraction grating and a method for manufacturing a semiconductor laser, which can suppress shift of a diffraction grating pattern from a design value even when a pattern dimension of a mask layer is shifted from the design value.例文帳に追加

マスク層のパターン寸法がその設計値からずれた場合においても、回折格子のパターンがその設計値からずれることを抑制可能な回折格子を形成する方法及び半導体レーザを作製する方法を提供する。 - 特許庁

The print structure 10 includes a pattern layer 26 that selectively actuates one or more of a plurality of actuators to selectively form one or more wells 16 in a print surface to create a defined pattern on the print surface.例文帳に追加

印刷構造１０は、複数のアクチュエータの１ないし複数を選択的に作動して１ないしは複数のウェル１６を印刷表面内に形成し、当該印刷表面上に所定パターンを作り出すパターン層２６を含む。 - 特許庁

In the antenna module 20, a grounding plate 22 is accommodated in a case 25, an antenna pattern 21 is formed on the internal surface 33 of the case 25 facing the grounding plate 22, and an air layer 37 is provided between the grounding plate 22 and the antenna pattern 21.例文帳に追加

アンテナモジュール２０は、接地板２２がケース２５内に収納されるとともに、接地板２２と対向するケース２５の内面３３にアンテナパターン２１が形成されて、接地板２２とアンテナパターン２１との間に空気層３７が介在する。 - 特許庁

While the amorphous silicon film 18 is remained on the inner surface of the core pattern 17a, the amorphous silicon film 18 on the cylinder core layer 17 is removed, and a lower electrode consisting of the amorphous silicon film 18 is formed on the inner surface of the core pattern 17a.例文帳に追加

コアパターン１７ａの内壁に非晶質シリコン膜１８を残す状態で、シリンダコア層１７上の非晶質シリコン膜１８を除去し、コアパターン１７ａの内壁に非晶質シリコン膜１８からなる下部電極を形成する。 - 特許庁

Further, the method for forming a conductor pattern is characterized in that the part which has not been coated with an etching resist (3) in a copper layer on an electrical insulating material (3) is etched using the etching liquid, so as to form a conductor pattern (2).例文帳に追加

また、本発明の導体パターンの形成方法は、電気絶縁材(1)上の銅層のエッチングレジスト(3)で被覆されていない部分を、上記本発明のエッチング液を用いてエッチングし、導体パターン(2)を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To achieve a method of forming a pattern by which a reactive portion of a photosensitive resin is finely controlled upon forming a fine pattern on a substrate and the thickness of the photosensitive resin layer is easily controlled.例文帳に追加

基板上への微細パターン形成時に、感光性樹脂が反応する部位をより微小に制御するとともに、感光性樹脂層の厚み管理をより簡易化することを可能とするパターン形成方法の実現を目的とする。 - 特許庁

To provide a master carrier for magnetic transfer, which has a soft magnetic layer free from bridging even in a minute pattern and enables magnetic transfer of high transfer quality with a structure which lessens damage of a pattern edge part and secures the durability.例文帳に追加

微細パターンであってもブリッジングのない軟磁性層を有すると共に、パターンエッジ部の破損が少なく耐久性を確保した構造で、かつ転写品質の高い磁気転写が行える磁気転写用マスター担体を提供する。 - 特許庁

In this ceramic green sheet on the surface of which a circuit pattern is formed, a surface resistivity adjustment layer 2 is provided on a surface, on which the circuit pattern is formed, of the ceramic green sheet 1, and the sheet resistivity is made not to exceed 9×1012 (Ω/(square)).例文帳に追加

表面に回路パターンが形成されるセラミックグリーンシートにおいて、セラミックグリーンシート１の回路パターンを形成する表面に表面抵抗率調整層２を設け、表面抵坑率を９×１０^12（Ω／□）以下とした。 - 特許庁

A white LED of small dispersion in color and uniform light emitting pattern can be obtained because the pattern shape of a fluorescent material layer corresponds to that of the electrode 2a and the far field image and the near field image.例文帳に追加

蛍光体層のパターン形状が電極２ａのパターン形状に対応しており、上記遠視野像や近視野像に対応するため、色ばらつきが小さく、かつ発光パターンも均一な白色ＬＥＤを得ることが可能となる。 - 特許庁

A protecting film made from alumina and the power feeding metal film are successively deposited on the substrate, afterwards, a resist pattern is formed on the power feeding metal film, and a metal plating layer is deposited on the power feeding metal film in the opening of the resist pattern.例文帳に追加

基板上にアルミナから成る保護膜と給電用金属膜を順次形成した後、給電用金属膜上にレジストパタ−ンを形成し、レジストパタ−ンの開口部の給電用金属膜上に金属めっき層を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing a ceramic substrate includes the steps of: forming a coating layer consisting of a coating material on a surface of a baked ceramic substrate; forming a conductor pattern consisting of conductive paste on the coating layer; and thermally decomposing the coating layer at a baking temperature of the conductive paste and combining the conductor pattern with the surface of the baked ceramic substrate.例文帳に追加

焼成済みセラミック基板の表面にコーティング材料からなるコーティング層を形成する工程と、前記コーティング層上に導電ペーストからなる導体パターンを形成する工程と、前記導電ペーストの焼成温度で前記コーティング層を熱分解するとともに前記導体パターンを前記焼成済みセラミック基板の表面に結合させる工程と、からなるセラミック基板の製造方法。 - 特許庁

An imprint apparatus includes: a detector 172 that detects a marking formed on a substrate; and a control unit CNT that makes the detector detect the marking between imprint cycles, and that calculates an overlay to obtain an overlay error that is a shift between a pattern formed on a top layer of the substrate and a new pattern formed on a layer upper than the top layer based on a detection result.例文帳に追加

基板に形成されたマークを検出する検出器１７２と、インプリントサイクルとインプリントサイクルとの間において、前記検出器にマークを検出させて、その検出結果に基づいて、基板の上の層に形成されたパターンと当該層よりも上の層に新たに形成されたパターンとのずれであるオーバーレイ誤差を求めるオーバーレイ計測を実行する制御部ＣＮＴとを備える。 - 特許庁

The array substrate for the lateral type liquid crystal display device is manufactured through four-mask steps: in a structure wherein a semiconductor layer is exposed at both sides of a data line, a first blocking pattern which blocks light is formed under the semiconductor layer, and second blocking pattern which blocks influence of the semiconductor layer is formed over the data line, while being brought into contact with the data line.例文帳に追加

横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板は、４マスク工程によって製作されデータ配線の両側に半導体層が露出する構造において、半導体層の下部に光を遮断する第１遮断パターンを構成して、データ配線の上部に、これと接触しながら半導体層による影響を遮断する第２遮断パターンを構成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the pattern electrode formed of a conductive layer formed on a support body and containing metal fine particles, includes a step of forming the conductive layer by coating a liquid containing metal fine particles on the support body, a step of pattern-printing metal fine particle-removing liquid on the conductive layer, and a cleaning step.例文帳に追加

支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。 - 特許庁

The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加

本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁

In this electromagnetic shielding filter 10, a plate having a rough surface fcp on the inside of the recessed groove 32 of a printing surface is used as an intaglio 31 for printing and forming a conductive composition layer 3 by a conductive composition containing conductive particles and a resin binder, and a rough face fc is formed on the surface of the conductor pattern layer simultaneously with printing as the conductor pattern layer 2 on a transparent substrate 1.例文帳に追加

電磁波遮蔽フィルタ１０は、透明基材１上の導電体パターン層２として、導電性粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物で導電性組成物層３を印刷形成する為の凹版３１に、版面の凹状溝３２の内面を粗面ｆｃｐとした版を用い、印刷と同時に導電体パターン層の表面に粗面ｆｃを賦形する。 - 特許庁

This OVD medium 22 is equipped with a light transmitting concave-convex pattern forming layer (11), the surface of which keeps the image displayed through the interference and/or diffraction of light, and an optical controlling layer (14), which overlies the image observation side of the concave-convex pattern forming layer and has a region having a light transmittance smaller that its light reflectivity or its light absorptance.例文帳に追加

ＯＶＤ媒体２２は、表面に光の干渉および／または回折により画像を表示する凹凸パターンが形成された光透過性の凹凸パターン形成層（１１）と、前記凹凸パターン形成層の、前記画像の観察側に設けられた、光透過率が光反射率または光吸収率より小さい領域を有する光制御層（１４）を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The EMI shielding film and the plasma display device include a transparent substrate 31, an adhesive layer 32 formed on the transparent substrate 31, a metal pattern 33 formed on the adhesive layer 32, and a transparent selective light absorbing layer 34 containing a transparent material and a tetraazaphorpyrin compound, which is a selective light absorbing material, and filling the space in the metal pattern 33.例文帳に追加

透明基材３１と，透明基材３１の上部に形成された接着層３２と，接着層３２の上部に形成された金属パターン３３と，金属パターン３３の間に形成され，透明物質と選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン系化合物とを含有する透明選択的吸光層３４とを備える電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置。 - 特許庁

To provide a highly refined and reliable printed wiring board and a palladium inactivating treatment liquid therefor, by inactivating a palladium remaining on the surface of an insulation layer as a catalyst so as to improve the insulation property of a circuit pattern, in a method for manufacturing a printed wiring board using an additive method to form the circuit pattern by a copper plated layer formed on the surface of the insulation layer.例文帳に追加

絶縁層の表面に形成した銅めっき層により回路パターンを形成するアディティブ法によるプリント配線板の製造方法において、絶縁層の表面に残留する触媒たるパラジウムを不活性化して回路パターンの絶縁性を向上させ、高精細かつ高信頼性のプリント配線板を得ると共に、そのパラジウム不活性化処理液を提供する。 - 特許庁

The pattern forming material includes a photosensitive layer formed by using a photosensitive composition at least including a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator, wherein absorption at 810 cm^-1 per 1 μm thickness of the pattern formed by at least exposing the photosensitive layer after the photosensitive layer is stacked on the surface of the board is <0.02.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤、を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を、基板の表面に積層した後、該感光層に対して露光を少なくとも行うことにより形成されたパターンの膜厚１μｍ当たりの８１０ｃｍ^−１の吸収が、０．０２未満であるパターン形成材料である。 - 特許庁

The reference grid manufacturing device 10 is constituted such that the photo-curing resin layer 18 is cured by irradiation with ultraviolet rays from below it with the photo-curing resin layer 18 interlaid between the microirregularity pattern 12 of the tabular transfer master 14 and the flat surface 16 of the replica base 20 to press the microirregularity pattern to the photo-curing resin layer 18.例文帳に追加

基準格子製造装置１０では、平板状転写マスタ１４と微細凹凸形状パターン１２とレプリカベース２０の成型用平面１６との間に光硬化性樹脂層１８を介在し、光硬化性樹脂層１８に微細凹凸形状パターン１２を押圧させた状態で、光硬化性樹脂層１８の下方から紫外線を照射して光硬化性樹脂層１８を硬化させる。 - 特許庁

In a release layer disposed on a mold for transferring a prescribed rugged pattern to a material to be transferred by imprinting, surface free energy is optimized by changing the surface free energy of the release layer due to processing by energy for the purpose of charging the material to be transferred via the release layer into a recess of the rugged pattern on the mold.例文帳に追加

インプリントにより所定の凹凸パターンを被転写物に転写するためのモールドに設けられる離型層において、前記モールドにおける前記凹凸パターンの凹部に前記離型層越しで前記被転写物を充填するため、エネルギーによる処理によって前記離型層の表面自由エネルギーを変動させることによる表面自由エネルギーの最適化がなされている。 - 特許庁

The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁

A substrate opening 11 is formed in the metal substrate 2 to expose its surrounding base insulating layer 4, power is fed from the conductor pattern 7 to form electrolytic plated layers 12 on both surfaces of the conductor pattern 7 in the cover opening 8, and a metal filled layer 14 is formed in the substrate opening 11 to make the electrolytic plated layer 12 and the metal substrate 2 conductive to each other.例文帳に追加

金属基板２に、ベース開口部３およびその周囲のベース絶縁層４が露出する基板開口部１１を形成し、導体パターン７から給電して、カバー開口部８内の導体パターン７の両面に、電解めっき層１２を形成し、電解めっき層１２と金属基板２とが導通するように、基板開口部１１内に金属充填層１４を形成する。 - 特許庁

After an organic material layer 2 such as an organic silane is applied on a substrate 1 having conductivity, a mask 14 made of a conductive material and having a predetermined pattern is mounted on the organic material layer 2 and a voltage is applied between the substrate 1 and the mask 14 in a water-containing atmosphere to form a pattern in the organic material layer 2 corresponding to the mask 14.例文帳に追加

導電性を有する基体１上に、有機シラン等の有機材料層２を被着した後、この有機材料層２上に、導電性材料より成りかつ所定のパターンを有するマスク１４を載置して、水分含有雰囲気下において、基体１及びマスク１４の間に電圧を印加することにより、有機材料層２にマスク１４に対応するパターンを形成する。 - 特許庁

After a metallic film or a semiconductor film on a semiconductor substrate is dry-etched to form a wiring layer having a prescribed pattern or after an insulating layer is formed on a semiconductor substrate with a formed wiring layer and dry-etched in a prescribed pattern, chemical treatment is carried out with a resist removing composition prepared by adding a sugar alcohol to a composition comprising a fluorine compound, an organic solvent and water.例文帳に追加

半導体基板上の金属膜又は半導体膜をドライエッチングし、所定のパターンを有する配線層を形成した後、あるいは、配線層が形成された半導体基板上に絶縁層を形成し、これを所定のパターンにドライエッチングした後、フッ素化合物、有機溶媒及び水を含有し、糖アルコールを添加したレジスト剥離用組成物により薬液処理する。 - 特許庁

In the substrate for a display device provided with the reflective layer in a display region and comprising a pattern film that is disposed outside the display region except a terminal region and on the same side as a side of the reflective layer, the pattern film includes either one of a material that has the same ionizability as a material of the reflective layer and a material that has higher ionizability than the material of the reflective layer.例文帳に追加

表示領域に反射層が設けられた表示装置用基板であって、上記表示装置用基板は、端子領域を除いて上記表示領域よりも外側の領域で、かつ上記反射層と同じ面側に配置されるパターン膜を有し、上記パターン膜は、上記反射層の材料とイオン化のしやすさが同じ材料、又は、上記反射層の材料よりもイオン化しやすい材料を含む表示装置用基板である。 - 特許庁

The manufacturing method of the pattern forming body has a plasma irradiation process in which a patterning substrate having: a base material; an intermediate layer formed on the substrate and including a silane coupling agent or a polymer of the silane coupling agent ; and the resin layer formed in a pattern shape on the intermediate layer, is irradiated with plasma from the side of a resin layer by using fluorine gas as an introduction gas.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、シランカップリング剤または前記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、前記中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するパターニング用基板に、前記樹脂層側からフッ素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射するプラズマ照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁