「layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(990ページ目) - Weblio英語例文検索

In the GaN layer growing method using a CVD method to grow a GaN layer just above the Si substrate, the GaN layer is grown in ≤100 Torr growing pressure.例文帳に追加

ＣＶＤ法を用いてＳｉ基板直上にＧａＮ層を成長させるＧａＮ層成長方法において、１００Ｔｏｒｒ以下の成長圧力においてＧａＮ層を成長させることを特徴とする。 - 特許庁

They are so formed that the position of the front end of the non-magnetic layer pattern 12 retreats from the position of the front end of the non-magnetic layer pattern 10 and a step is formed between the non-magnetic layer patterns 10 and 12.例文帳に追加

非磁性層パターン１２の前端の位置は非磁性パターン１０の前端の位置よりも後退するようにし、非磁性層パターン１０と非磁性層パターン１２との間に段差が形成されるようにする。 - 特許庁

Then an inhibiting layer 11 is formed by directional deposition on the side walls of the via and on the insulating material layer 5, leaving only the part of the catalyst layer 9 that is located in the bottom of the via deposition-free.例文帳に追加

さらに抑止層１１を、前記ビアの前記底部における前記触媒層９の部分を除く、前記ビアの前記ビアの側壁の上と、前記絶縁材料層５の上に方向性堆積によって形成する。 - 特許庁

This porous carrier is prepared by forming an electroconductive layer on the upper surface of an insulating substrate and using the electroconductive layer forming insulating substrate as a support to fix and form the porous film to the upper surface of the electroconductive layer.例文帳に追加

絶縁性基板の上面に電気伝導性層を形成し、電気伝導性層形成絶縁性基板を支持体として、電気伝導性層上面に多孔質膜を固着して形成し多孔質担体を調製する。 - 特許庁

Light from a back light passes through a coloring layer once in a transmission mode and external light made incident on a display device is made to pass through the coloring layer twice by a reflector arranged in a lower layer in a reflection mode.例文帳に追加

透過モードにおいて、バックライトからの光は着色層を１回通過し、反射モード時、表示装置に入射した外光は、下層に配置された反射板によって、着色層を２回通過することになる。 - 特許庁

A carbon-based active material layer densified through a strong roll-pressing process, for instance, is formed on the surface of the copper-coated layer 7, and the negative electrode collector is formed by the copper-coated steel foil 10 and the carbon-based active material layer.例文帳に追加

銅被覆層７の表面上には例えば強いロールプレスで高密度化した炭素系活物質層が形成され、銅被覆鋼箔１０と前記炭素系活物質層によって負極集電体が構成される。 - 特許庁

In the CPP type magnetic detecting element, the upper and lower portions of the fixed magnetic layer 23 having an artificial ferristructure are sandwiched by non-magnetic metal magnetostriction enhancement layer 22 and a non-magnetic material layer 24 having a lattice constant that is larger than that of Cu.例文帳に追加

ＣＰＰ型磁気検出素子において、人工フェリ構造の固定磁性層２３の上下を非磁性金属製の磁歪増強層２２と、Ｃｕよりも格子定数の大きい非磁性材料層２４で挟む。 - 特許庁

The sound absorber 1a according to the present invention has a laminated body 2, which has a sound absorbing layer 21 made of an inorganic porous material and a porous layer 22 laminated on the back side of the sound absorbing layer 21.例文帳に追加

本発明の吸音体１ａは、積層体２を備えており、この積層体２は、無機系多孔質材料から成る吸音層２１と、吸音層２１の背面側に積層された多孔質体層２２とを備えている。 - 特許庁

In a waterproof sheet 1 wherein a silicone rubber is reinforced with a fiber, a reinforcing material 2 is impregnated with a resin layer 3 and a part where a part of the reinforcing material 2 is projected from the resin layer 3 is impregnated and coated with a silicone rubber layer 4.例文帳に追加

シリコーンゴムを繊維で補強した防水シート１において、補強材２に樹脂層３を含浸し、前記補強材２の一部が樹脂層３から突出した部分にシリコーンゴム層４を含浸コーティングしている。 - 特許庁

To provide a method for correcting a letterpress plate for printing an alignment layer solution, with which a defective pattern section of a printing plate for printing the alignment layer solution is corrected for the purpose of uniformly printing an alignment layer on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板に配向膜を均一に印刷することができるように配向膜溶液印刷用版のパターン欠陥部を修正する配向膜溶液印刷用凸版の修正方法を提供する。 - 特許庁

To improve a high frequency welding processability by providing a polypropylene composition layer made of a specific crystalline propylene-α- olefin copolymer to vertically sandwich a layer made of a specific ethylene copolymer therebetween to form it in a three-layer structure.例文帳に追加

電気的特性である誘電正接（ｔａｎδ）が大きく、高周波ウエルド加工性に優れるとともに、透明性，柔軟性，耐受傷性のバランスに優れたオレフィン系多層プラスチックシ−トを提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method consists of a process where a metal layer 2 is processed by a photoetching method, a process where the wiring part 8 is formed on the insulation layer 5 by a semi-additive method and a process where the insulation layer 5 is processed by a plasma etching method.例文帳に追加

金属層２をフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層５上にセミアディティブ法により配線部８を形成する工程と、絶縁層５をプラズマエッチングにより加工する工程とからなる。 - 特許庁

A layer package comprising a first layer having a refractive index in the range from 1.20 to 1.37 and a smooth second layer having a refractive index in the range from 1.40 to 1.48 is located on at least one surface of a transparent planar substrate.例文帳に追加

屈折率が１．２０〜１．３７の範囲にある第１層と、屈折率が１．４０〜１．４８の範囲にある平滑な第２層とを備えた層パッケージを、透明平坦基板の少なくとも一方の面に配置する。 - 特許庁

A first protective layer 20 is installed so as to cover the surface of an insulating board 11 and surfaces of strain resistance elements 17, and a second protective layer 30 is installed so as to cover the surface of the layer 20.例文帳に追加

絶縁基板１１、歪抵抗素子１７の上面を覆うように第１の保護層２０を設けるとともに、この第１の保護層２９の上面を覆うように第２の保護層３０を設けたものである。 - 特許庁

A second abrasive grain layer area 24 in the outside of the first abrasive grains layer portion 23 is structured by a ring-shaped circumferential abrasive grain layer portion 26 wherein super-abrasive grains are adhered on a ring-shaped circumferential protuberance portion by the alloy plating phase.例文帳に追加

第一砥粒層領域２３の外周側の第二砥粒層領域２４は、リング状の円周隆起部に超砥粒を金属めっき相で固着したリング状の円周砥粒層部２６で構成する。 - 特許庁

To suppress the medium noise originated in a magnetic wall by making a magnetic wall not to be introduced into the soft magnetic layer in a magnetic layer in a magnetic recording medium and making the structure of a magnetic domain of a soft magnetic layer a stable single magnetic domain.例文帳に追加

磁気記録媒体内の軟磁性層内に極力磁壁が導入されないようにし、軟磁性層の磁区構造を安定した単磁区構造とすることにより、磁壁由来の媒体ノイズを抑えることにある。 - 特許庁

A laminated ferrimagnetic thin film is composed of two ferromagnetic layers 308 and 309, and a nonmagnetic intermediate layer 304 interposed therebetween, and each ferromagnetic layer is anti-ferromagnetically coupled through the nonmagnetic intermediate layer.例文帳に追加

積層フェリ型磁性薄膜は、２つの強磁性層３０８，３０９と、それらに挟まれた非磁性中間層３０４よりなり、各強磁性層が非磁性中間層を介して反強磁性的に磁気結合する。 - 特許庁

At least one undercoat layer, a silver halide emulsion layer and a physical developing nucleus layer are successively disposed on a substrate by coating to obtain the objective planographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer process.例文帳に追加

又、本発明の別の目的は明室下で取り扱い可能な銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版で、印刷諸特性（インキ受理性、耐刷性、耐汚れ性）に優れた平版印刷版を提供することである。 - 特許庁

This method is such that an electron beam (63), emitted from an electron gun, is narrowed down to be made to pass through the SiO_2 layer of the sample, and the electron beam is made incident on the copper plated layer at the bottom of the trench portions in the SiO_2 layer to be scanned.例文帳に追加

この方法は、電子銃から放出された電子線（６３）を細く絞り、試料のＳｉＯ_２層を通過させ、ＳｉＯ_２層の溝部の底部の銅メッキ層に電子線を入射させて走査する。 - 特許庁

The formation method includes: projecting a rectangular grid-like light-dark pattern 502 on a photosensitive layer 501; after that, displacing the light-dark pattern 502 in a direction of a side of the rectangle to project it on the photosensitive layer 501; and after that, developing the photosensitive layer 501.例文帳に追加

方形格子状の明暗パターン５０２を感光層５０１に投影し、その後、明暗パターン５０２をその方形の辺方向にずらして感光層５０１に投影し、その後、感光層５０１を現像する。 - 特許庁

An average thickness of the Ni layer 2 is ≥0.1 μm and ≤1.0 μm, an average thickness of a Cu-Sn alloy layer is >0.55 μm and ≤1.0 μm, and an average thickness of the Sn layer 5 is ≥0.2 μm and ≤1.0 μm.例文帳に追加

Ｎｉ層２の平均厚さが０．１μｍ以上１．０μｍ以下、Ｃｕ−Ｓｎ合金層の平均厚さが０．５５μｍを超え１．０μｍ以下、Ｓｎ層５の平均厚さが０．２μｍ以上１．０μｍ以下である。 - 特許庁

Consequently, the low-refractive-index layer 21 serves to confine light emitted from the light emission region 16, and the contact layer 19 becomes harder to operate as an absorbing layer for the light emitted from the light emission region 16.例文帳に追加

このため、低屈折率層２１が発光領域１６から発生した光を閉じ込める役割を果たすこととなり、コンタクト層１９は発光領域１６から発生した光の吸収層として働きにくくなる。 - 特許庁

When the thickness of the intermediate layer 120 of the transfer belt 10 is defined as t [μm], the maximum height Rz [μm] of the roughness of the surface on the intermediate layer side of the base layer 130 is preferably in a range of 3≤Rz<(t/2).例文帳に追加

この転写ベルト１０中間層１２０の厚さをｔ［μｍ］としたとき、基層１３０の中間層側の表面の粗さの最大高さＲｚ［μｍ］は、３≦Ｒｚ＜（ｔ／２）の範囲にあるのが好ましい。 - 特許庁

To solve such a problem that when a phosphor layer is formed on a wafer in order to provide a phosphor layer along the contour of an LED element by machining, the number of LED elements to be taken out decreases or the binder material of the phosphor layer is limited.例文帳に追加

機械加工でＬＥＤ素子外形に沿って蛍光体層を備えさせるのに、ウェハーに蛍光体層を形成するとＬＥＤ素子の取り個数減や蛍光体層のバインダ材料制限が課題となる。 - 特許庁

In a substrate 1B for carrying the semiconductor device 2, a conducting layer 4 for attaching the semiconductor device 2 is formed on one surface side of an insulating layer 3, and a heat dissipating device 5 is connected directly to the other surface side of the insulating layer 3.例文帳に追加

半導体素子２を搭載するための基板１Ｂであって、絶縁層３の一面側に半導体素子２を取り付ける通電層４が形成され、他面側に放熱デバイス５が直接接合されてなる。 - 特許庁

The coated material for a vehicle is manufactured by forming one coating material layer or a plurality of coating material layers 2, 3 and 4 on a base material 1 and at least one layer of the coating material layers 2, 3 and 4 is a layer formed by the irradiation with electron beam.例文帳に追加

基材１に１層または複数層の塗料層２，３，４を形成してなる車両用塗装物であって、塗料層２，３，４の少なくとも１層が電子線照射により形成された層である。 - 特許庁

An adhesive layer (22) which has resistance of ≥10^14 Ωcm is formed on a substrate (12), and a surface insulating layer (14) in which an electrode is embedded and which has the resistance of ≥10^14 Ωcm is formed on the adhesive layer.例文帳に追加

基板（１２）上に１０^14Ωcm以上の抵抗を有する接着剤層（２２）を形成し、接着剤層上に、電極が埋設されるとともに１０^14Ωcm以上の抵抗を有する表面絶縁層（１４）を形成する。 - 特許庁

The liquid crystal display element is manufactured by forming a projecting and recessing layer through corrosion of the reflection layer side surface of the rear side transparent electrode with a hydrogen fluoride solution and subsequently by film forming a metal film such as aluminum on the projecting and recessing layer.例文帳に追加

本発明の液晶表示素子は、背面側透明基板の反射層側表面をフッ化水素溶液により腐食し凹凸層を形成した後、アルミ等の金属膜を凹凸層上に成膜する。 - 特許庁

To increase luminous efficiency in a semiconductor light-emitting element where at least an n-type nitride semiconductor layer, a luminous layer, and a p-type nitride semiconductor layer are laminated on a substrate, and an irregular structure is provided on an upper surface.例文帳に追加

基板上に、少なくともｎ型窒化物半導体層、発光層およびｐ型窒化物半導体層を積層し、上面に凹凸構造を有する半導体発光素子において、発光効率を高くする。 - 特許庁

In a pyramidal burden group after completing loading, the area restricted by the outer periphery of the burden group on each layer becomes narrow in order toward the top layer from the bottom layer based on the deformation of a part of burden.例文帳に追加

この積付け後のピラミッド型荷物群は、各段の段荷物群の外周で規定される面積が一部の荷物の変形に基づいて最下位の段から最上位の段に向って順次狭い状態となっている。 - 特許庁

When a layer to be polished 16 in a wafer 1 is chemically and mechanically polished, the layer to be polished 16 is polished by using polishing cloth 4 and a film is generated on the layer to be polished 16 by electrolytic plating.例文帳に追加

ウエハ１の被研磨層１６に対しての化学機械研磨の際に、被研磨層１６に対しての研磨布４を用いての研磨と同時に、被研磨層１６に対して電解めっきにより膜生成をおこなう。 - 特許庁

The second lamination portion 120 includes: a block insulating layer 123B provided in contact with sidewalls of the first conductive layers 121 and the interlayer insulating layers 122; a charge storage layer 123C; and a tunnel insulating layer 123T.例文帳に追加

第２積層部１２０は、層間絶縁層１２２及び第１導電層１２１の側壁に接して設けられたブロック絶縁層１２３Ｂと、電荷蓄積層１２３Ｃと、トンネル絶縁層１２３Ｔとを備える。 - 特許庁

A memory cell structure, without the need for a capacitor is formed of a laminated structure, composed of a metal 1/an insulation film 2/n-type silicon 3/an n-type delta doped layer 4/a non-doped buffer layer 5/a p-type delta doped layer 6/p-type silicon 7.例文帳に追加

キャパシタの不要なメモリセル構造を、金属１／絶縁膜２／ｎ型シリコン３／ｎ型デルタドープ層４／ノンドープバッファ層５／ｐ型デルタドープ層６／ｐ型シリコン７からなる積層構造によって形成する。 - 特許庁

The pigments out of the coloring layers 17R, 17G, 17B and the frame shaped light shielding layer turn out to be hard to dissolve in the liquid crystal layer without increasing processes such as disposing coating layers or the like on the coloring layers 17R, 17G, 17B and the frame shaped light shielding layer.例文帳に追加

着色層17R，17G，17Bおよび額縁状遮光層にコーティング層などを設けてプロセスを増加させることなく、着色層17R，17G，17Bおよび額縁状遮光層からの顔料が液晶層に溶出しにくくなる。 - 特許庁

A bottom refractory material layer 10 is formed in the inner bottom of a steel shell 9 having a bottomed cylindrical shape, and a sidewall refractory material layer 20 is stacked along the inner peripheral surface of the steel shell 9 on the bottom refractory material layer 10.例文帳に追加

有底筒状の鉄皮９の内底に底部耐火材層１０が形成されていると共に、底部耐火材層１０の上に、鉄皮９の内周面に沿って側壁部耐火材層２０が積層されている。 - 特許庁

Although the first insulating layer 14a is normally made of a material which is easily damaged by rubbing, the first insulating layer 14a is completely covered with the second insulating layer 14b, so that the production of scratch chips can be prevented.例文帳に追加

第１絶縁層１４ａはラビング処理によって損傷を受けやすい材料である場合が多いが、第２絶縁層１４ｂによってその全部が完全に被覆されているので損傷屑の発生を防止できる。 - 特許庁

In order to use an MR effect, the lower magnetic layer is formed on the entire surface of the substrate, and the cavities formed in the alumina layer on the lower magnetic layer are filled with an upper magnetic material to form a nano-sized contact.例文帳に追加

本発明は、ＭＲ効果を利用するために、基板の全面に下部磁性層を形成し、の上のアルミナに形成された空孔部に上部磁性体を充填させることによって、微小サイズのコンタクトを形成する。 - 特許庁

An outer edge 32a of the insulating layer through hole 32 is arranged at a position corresponding to an outer edge 31a of the metal support layer through hole 31, or at a position outer than the outer edge 31a of the metal support layer through hole 31.例文帳に追加

絶縁層貫通孔３２の外縁３２ａは、金属支持層貫通孔３１の外縁３１ａに対応する位置、または、金属支持層貫通孔３１の外縁３１ａより外方の位置に配置されている。 - 特許庁

To provide an electric double layer capacitor in which a current collecting resistance is reduced and which has a large capacitance even when the electrode active-substance layer containing more activated carbon is formed, and to provide its manufacturing method and the electric double layer capacitor.例文帳に追加

活性炭をより多く含む電極活物質層を設けても集電抵抗が少なく高容量を有する電気二重層キャパシタ電極及びその製造方法、並びに電気二重層キャパシタを提供する。 - 特許庁

The secondary battery 1 is provided with a cell structure body with a positive electrode layer 35, a solid electrolyte layer 40 and a negative electrode layer 65 laminated in this order or in a reverse order on at least one surface side of the substrate 10.例文帳に追加

二次電池１は、基板１０の少なくとも一方面側に、正極層３５、固体電解質層４０および負極層６５がこの順もしくは逆順に積層された電池構造体を有する。 - 特許庁

Each of the R-liquid crystal layer 11R, the G-liquid crystal layer 11G and the B-liquid crystal layer 11B is formed by mixing a dichroic pigment for mainly absorbing red light, green light or blue light in a liquid crystal.例文帳に追加

Ｒ−液晶層１１Ｒ、Ｇ−液晶層１１Ｇ、Ｂ−液晶層１１Ｂは、赤色光、緑色光、または青色光を主体的に吸収する２色性色素を液晶に混合して形成した。 - 特許庁

The reflection plate 10 is composed of a substrate 2, a ruggedness layer which is located on the substrate and is made of a resin film 11 having repeatedly formed ruggedness, and a light reflecting layer made of a metal film 13 with which the ruggedness layer is covered.例文帳に追加

反射板１０は、基材２と、その上に配され起伏が繰返し形成された樹脂膜１１からなる起伏層と、起伏層を被覆する金属膜１３からなる光反射層とで構成されている。 - 特許庁

The tread rubber Tg1 has thickness of the bottom of the main channel 9 of 4.0 to 6.0 mm, thickness of the cap rubber layer 10 of 1.3 mm or more, and each thickness of the base rubber layer 12 and the middle layer 11 of 0.5 mm or more.例文帳に追加

またトレッドゴムＴｇ１は、主溝９の溝底での厚さが４．０〜６．０mm、かつそのうちキャップゴム層１０の厚さが１．３mm以上、前記ベースゴム層１２及びミドル層１１の各厚さが０．５mm以上である。 - 特許庁

The high refractive index coated film formed by using this coating composition is suitable for forming, among others, a high refractive index layer 19 which is one of the layers constituting a mono-layer type or a multi-layer type antireflecting film 17.例文帳に追加

このコーティング組成物を用いて形成した高屈折率塗膜は、単層型又は多層型の反射防止膜１７を構成する一層、特に高屈折率層１９を形成するのに好適である。 - 特許庁

To provide a method for bonding an organic molecular crystal layer, by which the organic molecular crystal layer can be bonded to an electrode by controlling orientation of the organic molecular crystal layer, and to provide a method for manufacturing an organic element using the bonding method.例文帳に追加

電極に対して有機分子結晶層を配向制御して接合することができる有機分子結晶層の接合方法およびこの接合方法を利用した有機素子の製造方法を提供する。 - 特許庁