「line widths」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In this event, from among reference gages having a plurality of line segments of different lengths although the ratio of widths to lengths is constant, line segment having suitable line widths are applied to lines found by digitizing an imaged image plane.例文帳に追加

その際、撮像画面を２値化して求めた線に、幅と長さの比が一定で異なる長さの線分を複数有する基準ゲージの中から適合する線幅の線分を当てはめる。 - 特許庁

The image processing apparatus detects densities or line widths of the detected components and the explanatory note of the graph (S9, S11), and detects differences between the detected densities or line widths of the components of the graph and the density or line width of the explanatory note based upon the detected densities or line widths (S13).例文帳に追加

画像処理装置は、検出したグラフの成分と凡例との濃度または線幅を検出し（Ｓ９、Ｓ１１）、検出した濃度または線幅に基づいて、グラフの成分の濃度または線幅と、凡例の濃度または線幅との差を算出する（Ｓ１３）。 - 特許庁

The test pattern comprises straight line groups with line intervals and line widths varying, where the straight line groups are a lengthwise pattern group in the lengthwise line direction, and a broadwise pattern group in the broadwise line direction.例文帳に追加

ライン間隔及びライン幅を変化させた直線群により構成され、ライン方向を縦とした縦パターン群、及び、ライン方向を横とした横パターン群を有したテストパターン。 - 特許庁

In a 2nd step S2, the edge roughnesses and line widths of the respective resist patterns are measured.例文帳に追加

第２ステップにおいて、各レジストパターンのエッジラフネスと線幅とを測定する。 - 特許庁

In this manner, the uniformity of line widths at the center and peripheral edge of the wafer can be improved.例文帳に追加

こうして、ウエハ中央部と周縁部での線幅の均一性が高められる。 - 特許庁

To realize a narrow picture frame without narrowing line widths of wiring routed between electrodes.例文帳に追加

電極引回し配線の線幅を狭くすることなく、狭額縁化を実現する。 - 特許庁

The lands L3a, L3b have line widths which match with the characteristic impedances of the loads.例文帳に追加

ランドＬ３ａ，Ｌ３ｂは、負荷の特性インピーダンスと一致する線路幅を有する。 - 特許庁

If, for example, the gates of the dense patterns are connected, the dependence of the line widths on the crude density is corrected.例文帳に追加

例えば、密パターンのゲートをつなげると、線幅の疎密依存性が是正される。 - 特許庁

The widths of the ground layers are set so as to become sufficiently enough to the signal line.例文帳に追加

また、グランド層の幅は、信号線に対して十分幅広となるように設定される。 - 特許庁

To produce a molded article having a circuit having narrow line widths inserted therein with high production efficiency.例文帳に追加

線幅の狭い回路がインサートされた成型品を高い生産効率で生産する。 - 特許庁

As a result, the transfer of the pattern wherein the line widths of the pattern are unified can be performed.例文帳に追加

この結果、転写線幅の均一化が図られたパターン転写を行うことができる。 - 特許庁

Crossing widths b11, b12 formed by the straight line parts are formed to have the same length.例文帳に追加

これらの直線部が形成する交差幅ｂ１１、ｂ１２は、同じ長さに形成してある。 - 特許庁

To make uniform the line widths of circuit patterns formed at a center and an outer edge of a wafer.例文帳に追加

ウェハの中心部と外縁部に形成される回路パターンの線幅を均一にする。 - 特許庁

The segmentalized graphic data 1 is scanned with scanning lines and the line widths and space widths for correction are extracted by a plane scanning method.例文帳に追加

線分化された図形データ１に対し走査線を走査し、平面走査法により補正対象となる線幅およびスペース幅を抽出する。 - 特許庁

The memory cell is defined, at an intersecting point between the bit line and the word line and is provided with a size defined by the widths of the bit line and the word line in a self-aligned process.例文帳に追加

メモリセルは、ビットラインとワードラインとの交差点に画定され、自己整列プロセスにおけるビットライン及びワードラインの幅によって画定された寸法を有する。 - 特許庁

To accurately verify whether L/S (line and space widths) of each line pattern on a mask data agrees with the specification of a mask layout design.例文帳に追加

マスクデータ上の各線パターンのＬ／Ｓがマスクレイアウト設計仕様と合致するかどうかを正確に検証する。 - 特許庁

The total value of the widths of the first printed elements constituting each of the first printed line parts 1 is almost equal to that of the widths of the second printed elements constituting each of the second printed line parts 2.例文帳に追加

各第１印刷線部１を構成する第１印刷要素の幅の合計値は、各第２印刷線部２を構成する第２印刷要素の幅の合計値に略等しい。 - 特許庁

Thereafter, the measurement of line widths at the points Q_1-Q_6 of measurement for each wafer W_1-W_6 is compounded to finally detect the line widths at 36 points Q of measurement on the surface of the wafer.例文帳に追加

その後、各ウェハＷ_１〜Ｗ_６の測定点Ｑ_１〜Ｑ_６の線幅測定結果が合成され、最終的にウェハ面の３６箇所の測定点Ｑの線幅が検出される。 - 特許庁

When the branch line intersects the main line different in the type of a power supply, a via hole for changing wiring layers is formed while considering widths of the main line and a terminal.例文帳に追加

支線が電源の種類が異なる幹線に交差する場合には、配線層を変更するためのビアホールを、幹線幅と端子幅を考慮して作成する。 - 特許庁

To provide an image evaluating device capable of solving the problem that precision becomes lower at the border portion of a join between read widths of a line sensor without the restriction of the read widths.例文帳に追加

ラインセンサの読取幅の制約を受けず、読取幅同士のつなぎ目の境界部で精度が落ちるという問題を改善できる画像評価装置。 - 特許庁

Etching state is inspected by inputting a plurality of line patterns 2 of different line widths to a copper foil pattern mask 1 in advance, and recognizing the presence or absence of a line pattern remaining in an etched printed substrate 3 by using the copper foil pattern mask 1 of a plurality of line patterns 2 of different line widths.例文帳に追加

銅箔パターンマスク１に予め線幅の異なる複数の線パターン２を入力し、前記線幅の異なる複数の線パターン２の内前記銅箔パターンマスク１を用いてエッチングが完了したプリント基板３に残った線パターンの有無を確認することによりエッチング状態を検査する。 - 特許庁

To efficiently assemble engines of various widths largely different from each other on one engine assembling line.例文帳に追加

大きさが大幅に異なるエンジンを、１つのエンジン組立ラインで効率良く組立てるできること。 - 特許庁

Quarter wavelength transformers 4 and 5 are set to different widths corresponding to the power distribution ratios, and a connecting step 9 caused by the different line widths is set in a state where the step 9 is shifted to the output-side strip line 2 side within the range of the one-side line width of the input-side strip line 1 from the center line 6 of the line 1.例文帳に追加

４分の１波長の変成器４、５は、電力分配比に見合った異なる幅に設定され、異なる線路幅による接続段差９が入力側ストリップ線路１の中心線６から入力側ストリップ線路１の片側線路幅の範囲で出力側ストリップ線路２側へずれて設定されている。 - 特許庁

The fine line widths Wa-We of the quantum fine lines 19A-19E in the light emission regions 17A-17E are the widths corresponding to the wavelengths of the laser light beams generated by the light emission regions, and the fine line widths in at least two counterpart light emission regions are mutually different.例文帳に追加

発光領域１７Ａ〜１７Ｅにおける量子細線１９Ａ〜１９Ｅの細線幅Ｗａ〜Ｗｅは、当該発光領域が発生するレーザ光の波長に対応する幅であり、少なくとも二つの発光領域同士で細線幅が互いに異なる。 - 特許庁

The method also includes a step of using the line buffers to process the vertical stripes of the second image defining widths that fit into the line buffers.例文帳に追加

この方法は、ラインバッファを用いて、ラインバッファ内に収まる幅を定める前記第２の画像の縦縞を処理することも含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor memory high in accuracy of widths of line and space.例文帳に追加

ラインとスペースともに幅寸法の精度の高い半導体記憶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide lines of high impedance and low impedance within one dielectric substrate which have narrow line widths.例文帳に追加

一枚の誘電体基板内で高いインピーダンスと低インピーダンスの線路を狭い線路幅で実現する。 - 特許庁

Then, based on an evaluation value of a frequency distribution of the plural line widths, a priority order of a T sequence is determined.例文帳に追加

また、複数の線幅の度数分布の評価値に基づき、Ｔシーケンスの優先順を決定する。 - 特許庁

A differential transmission line 8 is formed on an insulating substrate 2, and respective line widths increase at a part 8d where the line interval of the differential transmission line 8 widens in a wiring board 1.例文帳に追加

絶縁基板２上に差動伝送線路８が形成されており、差動伝送線路８の線路間隔が広がる部分８ｄにおいてそれぞれの線路幅が大きくなっている配線基板１である。 - 特許庁

An average of bright line widths of a lip edge 1d of the T-die is 50 μm or less, difference of the bright line widths is 2 μm/5 mm or less, and variance of straightness of a lip land 1c and a top face 1e is 0.5 μm/5 mm or less.例文帳に追加

リップエッジ１d輝線幅の平均が５０μm以下であり、輝線幅差が２μm／５ｍｍ以下であり、且つリップランド１c及び天面１eの真直度むらがいずれも０．５μｍ／５ｍｍ以下であるTダイを用いる。 - 特許庁

To provide an image processing device and a program for allowing a line image included in an input image to be the optimum state according to line widths.例文帳に追加

入力画像に含まれる線画像を線幅に応じて最適な状態にすることができる画像処理装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

In the boldface processing, patterns for thickening the line widths of the characters are selected according to the luminance contribution degree of the light emitting element.例文帳に追加

太字処理において、文字の線幅を太くするパターンを、発光素子の輝度貢献度に基づいて選択する。 - 特許庁

At the interface between any two segments, there is a change in the widths of the electrically conductive traces of the transmission line.例文帳に追加

いずれの２つのセグメント間のインターフェイスにおいても、伝送線の導電性トレースの幅が変化している。 - 特許庁

Further, based on the threshold value or the n-th order differential value, line widths of the bars and spaces of the stacked barcode are measured.例文帳に追加

さらに、閾値またはｎ次微分値に基づき、スタック型バーコードのバーおよびスペースの線幅を計測する。 - 特許庁

To embed even optical waveguides of different line widths at a uniform depth into a glass substrate.例文帳に追加

線幅の異なる光導波路であっても、ガラス基板中で均一な深さに埋め込むことができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device permitting to control line widths of resist patterns with accuracy.例文帳に追加

レジストパターンの線幅管理を精度良く行うことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To correct the dependence on the crude density of line widths depending upon the distances between the patterns of fine processing patterns using a phase shift.例文帳に追加

位相シフトを用いた微細加工パターンのパターン間距離に依存した線幅の疎密依存性を補正する。 - 特許庁

Specially, when the line widths of the characters are increased in the boldface processing, a pattern in which a light emitting element one element inside from the end of the line width becomes B (blue) is avoided.例文帳に追加

特に、太字処理において、文字の線幅を太くする際、線幅の端から１つ内側の発光素子がＢ（青色）となるパターンを避ける。 - 特許庁

To improve freedom of a line processing work by easily preparing a connected line based on combination of arbitrary patterns and line widths when the lines are displayed or outputted for printing.例文帳に追加

罫の表示または印刷出力に際して、任意の模様・罫幅の組み合わせによる接合罫を容易に作成できるようにし、罫処理作業の自由度を向上させる。 - 特許庁

A plurality of breast width or back width scale holes 5 corresponding to the bread widths or back widths are formed at the substantial center of an armhole curve 4 in the horizontal direction toward the central line 6.例文帳に追加

袖ぐり曲線４の中程に、胸幅又は背幅に応じた複数の目盛の胸幅又は背幅目盛孔５を袖ぐり曲線から中心線６に向って水平方向にあける。 - 特許庁

The segments sandwiched by the front and rear scanned with the scanning lines are subjected to the retrieval of a desired correction value from the correction table using a hash function in accordance with the values of the line widths and space widths.例文帳に追加

走査線が走査した前後で挟まれる線分に対し、線幅およびスペース幅の値に基づいて、ハッシュ関数を用い補正テーブルから所望とする補正値を検索する。 - 特許庁

To shorten the processing time for photo proximity effect correction and to suppress an increase of TATs in formation of pattern data even if the variations in the line widths and base widths of photomask patterns increase.例文帳に追加

光近接効果補正の処理時間の短縮を図り、フォトマスクパターンの線幅やスペース幅のバリエーションが増加しても、パターンデータの作成におけるＴＡＴの増加を抑制する。 - 特許庁

To realize a method of manufacturing photomasks which is capable of decreasing the variations of the line widths within the masks and decreasing the variations in the line widths among the respective masks by correcting the influence of a proximity effect and is capable of shortening the time required for mask manufacture.例文帳に追加

近接効果の影響を補正して、マスク内での線幅ばらつきおよび各マスク間の線幅ばらつきを低減させ、マスク製造に要する時間の短縮が可能なフォトマスクの製造方法の実現を課題とする。 - 特許庁

A contour line generating device (28) generates contour lines of reference line widths for the entire grid point data, and generates wider contour lines wider than the reference line widths and larger in the differential values for the grid point group extracted by the grid point extracting devices (22, 24, 26).例文帳に追加

等高線生成装置（２８）は、全格子点データに対して基準線幅の等高線を生成し、格子点抽出装置（２２，２４，２６）で抽出された格子点グロープに対し、基準線幅よりも太く、且つ、差分値が大きい程、線幅が太い等高線を生成する。 - 特許庁

To uniformize line widths of wiring patterns in a substrate surface by suppressing variations of heat treatment temperatures in the substrate surface.例文帳に追加

基板面内での熱処理温度のばらつきを抑制し、基板面内における配線パターンの線幅を均一化する。 - 特許庁