| 意味 | 例文 |
line-patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3517件
To provide a chemically amplified positive resist composition which attains cost reduction without impairing basic performances such as sensitivity and resolution, ensures small ruggedness due to stationary waves and improves pattern profile, particularly line edge roughness.例文帳に追加
感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
Printing data other than auxiliary (reading KANA) printing data is stored in the editing buffer as printing data (one-line printing data) where pattern data of a reduction character size having 16×16 dot constitution in the character generator part is expanded.例文帳に追加
また、補助(ルビ)印字データ以外の印字データはキャラクタジェネレータ部の16×16ドット構成の縮小文字サイズのパターンデータが展開された印字データ(1行印字データ)として編集バッファに格納される。 - 特許庁
The same patterns on respective drums 24a-24c are tentatively stopped at display parts H3, H6 and H9 moved from the valid line LA formed at a visible display part H in a drum rotating direction for one pattern.例文帳に追加
各ドラム24a〜24cにおける同一の図柄を可視表示部Hに形成される有効ラインLAから1図柄分だけドラム回転方向に移動させた表示部H3,H6,H9に一旦停止させる。 - 特許庁
In the case of connecting the plane transmission lines formed on two dielectric materials with different dielectric constants, a dielectric material thin film is formed only in the vicinity of the connected part and a line pattern is formed on the thin film.例文帳に追加
誘電率の異なる2つの誘電材料上に形成された平面伝送線路を接続する際、一方の接続部分近傍のみに誘電材料薄膜を作成し、この上に線路パターンを形成する。 - 特許庁
The control part avoids the formation of the light distribution pattern having the irradiation area on the oncoming traffic lane side above the horizontal line, when the light shielding body 410 exists along the road between the one's own traffic lane and the oncoming traffic lane.例文帳に追加
制御部は、自車線と対向車線の間に道路に沿って遮光体410が存在する場合に、水平線から上方の対向車線側に照射領域を有する配光パターンの形成を回避する。 - 特許庁
To provide a gravure printing cylinder that can print an etching resist which can form a wiring pattern composed of a circuit line having an edge, having less unevenness by etching on a base material sheet.例文帳に追加
本発明は、本発明は、凹凸の少ない端縁を有する回路線からなる配線パターンをエッチングにより形成することができるエッチングレジストを基材シートに印刷することができるグラビア版胴を提供する。 - 特許庁
(2) An emission angle at which the intensity of 50% with respect to the emission intensity at emission angle 0° is obtained in a plane perpendicular to the sheet surface and parallel to the longitudinal direction of the rugged pattern of line shapes falls into the range of 0.5 to 5°.例文帳に追加
(2)シート面に垂直かつライン形状の凹凸パターンの長手方向に平行な面内で、出射角度0°の出射強度に対して50%の強度となる出射角度が0.5〜5°の範囲である。 - 特許庁
The printed wiring board manufacturing method includes: a photosensitive resin layer forming process, a process for forming a mask for exposure, a resist forming process, a plating process, a resist removal process, a line pattern forming process, and a land forming process.例文帳に追加
本発明のプリント配線基板の製造方法は、感光性樹脂層形成工程、露光用マスク作成工程、レジスト形成工程、めっき工程、レジスト除去工程、ラインパターン形成工程、ランド形成工程を含む。 - 特許庁
To provide a solid-state imaging device that can reduce occurrence of a fixed pattern noise by avoiding a potential of a read line at pixel reset from being affected by process dispersion in a component such as a threshold value of an amplifier transistor(TR).例文帳に追加
画素リセット時の読み出し線の電位が、増幅用トランジスタのしきい値等のプロセスばらつきに影響されることなく、固定パターンノイズの発生を低減させることができる固体撮像素子を得ること。 - 特許庁
An electrode short circuit inspection of the icon display section is conducted by successively or simultaneously displaying a display pattern, in which one or more line units are repeated, on the dot matrix display section that commonly utilizes data lines with the icon display section.例文帳に追加
アイコン表示部とデータラインを共有するドットマトリクス表示部に1以上のライン単位が繰り返す表示パターンを順次、もしくは同時に表示することでアイコン表示部の電極短絡検査を行う - 特許庁
Also, by having both a low resolution optical system and a high resolution optical system, both a circular or a rectangular pattern defect and a defect of fine line width such as an CD error can be detected simultaneously.例文帳に追加
さらに、低解像度光学系と高解像度光学系の両方を具えることにより、円形又は矩形のパターン欠陥とCDエラーのような微細線幅の欠陥の両方を同時に検出することができる。 - 特許庁
A voltage detecting pad 5' is provided on a printed wiring board 1' so as to adjoin a pad 4' which is electrically isolated from the pad 4' and is connected to a voltage detecting signal line pattern 6'.例文帳に追加
電圧検出用パッド5’は、パッド4’と電気的に分離された状態でパッド4’に隣接するようにプリント配線基板1’上に配設されており、電圧検出用信号線パターン6’に接続されている。 - 特許庁
The diffracted beam is also twisted by a pattern 1b in the clockwise direction to form a semicircular spot Sb of the converging light on the light detecting parts C, D, crossing the division line LX of the quadripartite light detecting part 60.例文帳に追加
パターン1bは同じく回折光束を時計回りにねじり、4分割光検出部60の分割線LXを跨ぐように光検出部C,D上に半円形上の集光スポットSbを形成する。 - 特許庁
To provide a packaging method which can prevent an electric interference without using electric shield wiring and effectively solve heavy density between respective gold wirings, difficulty of interconnect line, complication of a circuit pattern, and package difficulty.例文帳に追加
電気的シールド配線を使用せずに、電気的干渉を阻止でき、各金線間の過密な密度や、配線の難度、回路パターンの複雑化、およびパッケージ難度を効果的に解決できるパッケージ方法を提供する。 - 特許庁
The abradable coating has a pattern formed by a strip-like component element 5, the component element is positioned along in the direction of the rib on a line 45 joining the bending positions 41 to 42 in the reference grid 40.例文帳に追加
アブレイダブル被膜はストリップ状の構成要素5で構成されたパターンを形成し、その構成要素は基準格子40における屈曲位置41,42;の間を結ぶ線45上をリブ方向に沿って位置する。 - 特許庁
When a printing mode of printing data is, for example, not a CAD printing mode which regards the thin line reproducibility as important, or is the CAD printing mode and also full color, a normal PWM pattern table is set (S406).例文帳に追加
印刷データの印刷モードが、例えば細線再現性を重視するCAD印刷モードでないとき、または、CAD印刷モードでかつフルカラーのときは、通常PWMパターンテーブルを設定する(S406)。 - 特許庁
To provide a coating apparatus enhanced in electromagnetic wave shielding capacity and capable of forming the line image of a conductive pattern for mass-producing an electromagnetic shielding material high in light transmittance, and a coating method.例文帳に追加
電磁波遮蔽性能が高く、透光性の高い電磁波シールド材を大量に生産することが可能な導電性パターンの線画を形成することができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To conquer the difficulty of mask production while enhancing resolution in the exposure of a gate line, or the like, of a severe dimensional rule when a desired pattern is obtained by projection mapping using a phase shift mask.例文帳に追加
位相シフトマスクを用いた投影写像によって所望パターンを得る場合において、寸法ルールの厳しいゲート線等の露光における解像性を高めることを可能にしつつ、そのマスク製造の困難さを克服する。 - 特許庁
A reflection film 2, on which a slit pattern is integrally formed, is formed on a flat transparent substrate 1 using a mask member 4, and a substrate block 5 is obtained by cutting the transparent substrate 1 along a cutting line 2A.例文帳に追加
平板状の透明基板1にマスク部材4を使用してスリットパターンが一体的に形成されている反射膜2を成膜し、切断ライン2Aに沿って透明基板1を切断することにより基板ブロック5を得る。 - 特許庁
An alignment mark structure associated includes a ground layer 5 having a line-shaped pattern located below an alignment mark 8, and a metal diffusion preventing/etching stopper layer 6 between the ground layer 5 and the alignment mark 8.例文帳に追加
本発明に係るアライメントマーク構造は、アライメントマーク8の下方に、ライン状のパターンを有する下地層5を備え、さらに、下地層5とアライメントマーク8との間に、金属拡散防止兼エッチングストッパ層6を備える。 - 特許庁
The unit cells of the red and blue colored patterns 32, 36 are line-sequentially arranged and formed in an area surrounded with each unit cell 34A and bridging part 34B of the colored pattern 34.例文帳に追加
レッドとブルーの着色パターン32、36のユニットセル32A、36Aは、線順次に配列され、着色パターン34の各ユニットセル34A及び橋渡し部34Bによって包囲された領域に形成されている。 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern for the production of a semiconductor device, less liable to generate particles in a resist solution and excellent in line density dependency.例文帳に追加
半導体デバイス製造のコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The present invention includes a method for forming a word line pattern of the nonvolatile memory array including a step of producing the sub-F word lines using a mask producing device having a width of at least minimum characteristic size F through the use of spacer technology.例文帳に追加
少なくとも最小特徴サイズFの幅を有するマスク生成素子から、スペーサー技術を用いてサブFワード線を生成する段階を含む不揮発性メモリアレイのワード線パターン形成のための方法を含む。 - 特許庁
An analog signal processing section calculates the black level of a read line 13e in a photosensitive pixel region 13a from the average value of black level of each pixel of a TP pattern 13f in an OB pixel region 13b, and performs clamping.例文帳に追加
アナログ信号処理部は、感光画素領域13aの読み出しライン13eの黒レベルを、OB画素領域13bのTPパターン13fの各画素の黒レベルの平均値から算出し、クランプ処理する。 - 特許庁
This vehicular lighting fixture system includes a vehicular lighting fixture capable of forming the light distribution pattern having an irradiation area on the oncoming traffic lane side above a horizontal line, and a control part for controlling the vehicular lighting fixture.例文帳に追加
車両用灯具システムは、水平線から上方の対向車線側に照射領域を有する配光パターンを形成可能な車両用灯具と、車両用灯具を制御するための制御部と、を備える。 - 特許庁
To provide a chemical amplification resist composition to be used for the preparation of a mold, capable of forming a pattern excellent not only in sensitivity and resolution, but also in the line width roughness (LWR) performance, in preparation of a mold.例文帳に追加
モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス(LWR)性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a tension leveler capable of obtaining a rolled material with a flat surface and with high quality without making a vertical line pattern to the rolled material, and reducing an exchanging frequency of rolls by elongating their lifetime.例文帳に追加
被圧延材に縦筋模様等を付けることなく、表面が平坦で高品質の圧延材を得ることができ、また、ロールを長寿命化して交換頻度を低減することができるテンションレベラーを提供する。 - 特許庁
A comparison result generation part 110 generates comparison result between the time series pattern of utility demand and actual utility usage acquired from each type of a utility amount measurement sensor 107 of the production line of factory.例文帳に追加
比較結果生成部110は、この用役の需要の時系列パターンと、工場の生産ラインの各種用役量測定センサ107から取得した実際の用役の使用量との比較結果を生成する。 - 特許庁
The recorder forms one line pattern 71 extended along the paper sheet conveying direction, by arraying a plurality of dots 72 formed by ink droplets delivered from one of the delivery ports 108, along the paper sheet conveying direction.例文帳に追加
1つの吐出口108から吐出されたインク滴が形成する複数のドット72を用紙搬送方向に配列させることによって、用紙搬送方向に延在する1つのラインパターン71を形成する。 - 特許庁
The compound containing the phenol substituent expressed by formula 1 constitutes a resist composition together with a photo acid generator, and provides the resist composition excellent in sensitivity, resolution and line edge roughness while capable of drawing a super fine pattern.例文帳に追加
式1で表されるフェノール置換基を含む化合物は、光酸発生剤と共にレジスト組成物を構成し、超微細パターンの描画が可能でありながらも、感度、解像度、およびラインエッジラフネスに優れたレジスト組成物。 - 特許庁
To provide a composition for a topcoat which gives a highly fine and highly accurate pattern, especially in immersion lithography, by photolithography using a high-energy line or an electron beam which is an electromagnetic wave with a wavelength of 300 nm or less.例文帳に追加
波長300nm以下の電磁波である高エネルギー線または電子線を用いたフォトリソグラフィーにより、特に液浸リソグラフィーにて、極めて微細且つ高精度なパターンを与えるトップコート用組成物を提供する。 - 特許庁
A signal A flowing in a printed pattern is outputted to the plug of a signal line cable to a terminal board through a pin 904 and outputted to the pin 904 of another 2P connector 901 inserted into a hollow portion 904h.例文帳に追加
プリントパターンを流れる信号Aは、ピン904を介し末端基板への信号線ケーブルのプラグへ出力され、また、中空部904hに挿入された他の2Pコネクタ901のピン904へ出力される。 - 特許庁
The automatic transmission is in off-line, the learn mode is executed in which the range changeover is implemented automatically in accordance with the specified pattern, and when the range is to be changed over by the learn mode, the target angle for each range is learnt.例文帳に追加
自動変速機のオフライン時に、所定パターンに従ってレンジ切換えを自動的に行う学習モードを実行させ、該学習モードによりレンジが切換えられるときに、各レンジの目標角度を学習させる。 - 特許庁
The lower parts of the second reflectors 6L and 6R are provided with edges 16L and 16R for forming cut off lines LCL and RCL along the cut off line of first light distribution pattern LP on second light distribution patterns LSP and RSP.例文帳に追加
第2リフレクタ6L、6Rの下部には、第2配光パターンLSP、RSPに、第1配光パターンLPのカットオフラインに沿うカットオフラインLCL、RCLを形成するエッジ16L、16Rが設けられている。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition improved in exposure latitude, thinness-denseness dependency and line edge roughness and improved also in sensitivity to exposure with EUV light and in dissolution contrast, and to provide a pattern forming method and a specific organic acid.例文帳に追加
露光ラチチュード、疎密依存性、ラインエッジラフネスが改善され、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、パターン形成方法及び特定の有機酸を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a film pattern on a substrate in which a thin film of fine and thin line can be formed conveniently while preventing or suppressing aggregation of patterning material particles.例文帳に追加
基板上に膜パターンを形成するに際し、薄膜で、微細且つ細線な膜を簡便に形成することが可能で、パターン形成用の材料粒子の凝集を防止ないし抑制することが可能な方法を提供する。 - 特許庁
In a highly accurate high-resolution part in which a pixel, a black matrix or the like is narrow, a negative resist 41 is applied on the surface of the substrate 21 of printing plate and, by exposing and developing the applied resist, a fine line pattern is formed.例文帳に追加
画素、ブラックマトリクスなど幅が小さく高精細な高解像度部分においては、印刷版用基板21の表面上にネガレジスト41を塗布し、これを露光、現像することによって細線パターンを形成する。 - 特許庁
To provide a glass plate 1 for decoration which enables formation of a line pattern by a simple operation, quickly and advantageously in cost and is suitable for small-lot production of a wide variety of products, and a manufacturing method of the glass plate 1 for decoration.例文帳に追加
簡単な操作で迅速かつコスト的に有利に線模様を形成することができて多品種少量生産に好適な装飾用硝子板1および装飾用硝子板1の製造方法を提供する。 - 特許庁
An alignment pattern 10 is substantially formed in parallel to the scanning direction of the rays of light to scan in exposure in one scribe line 6 positioned at the rightmost end of the exposure region 4 of a semiconductor wafer 1.例文帳に追加
半導体ウェハ1の露光領域4の最右端に位置する1本のスクライブライン6に、露光時に走査される光の走査方向に対して実質的に平行にアライメントパターン10が形成されている。 - 特許庁
Since the amount of side etching is suppressed when wet type etching is performed with a ferric chloride solution to which the additive for suppressing side etching is added, a copper printed circuit board having a circuit pattern with a fine line width is realized.例文帳に追加
このサイドエッチング抑制用添加剤が添加された塩化第二鉄溶液で湿式エッチングするとき、サイドエッチング量が抑制されるので、微細な線幅の回路パターンを有する銅プリント配線板が実現される。 - 特許庁
A concentration degree estimating unit 44 estimates the concentration degree to the driving of the driver, by comparing the current eye distribution pattern of the driver with the visual line distribution patterns accumulated in a memory 20.例文帳に追加
また、集中度推定部44において、現在の運転者の視線分布パターンを記憶装置20に蓄積した運転者の視線分布パターンと比較することにより、運転者の運転への集中度合いを推定する。 - 特許庁
The electrodes 12, 12, ... have an expansion section 12a extended in the line width direction of the wiring pattern 12p forming the electrode 12, and the electrode 12 for bonding a semiconductor element is formed by including the expansion section 12a.例文帳に追加
電極12,12,…は、電極12を形成する配線パターン12pの線幅方向に拡がる拡張部12aを有し、この拡張部12aを含んで半導体素子接合用の電極12を形成している。 - 特許庁
To provide an automated wiring method for improving the space efficiency by generating a wiring pattern of a line width optimum for the input terminal connected to a single wire for connecting between a plurality of terminals.例文帳に追加
複数の端子間を接続する単一の配線に、接続される入力端子に対応した最適の配線幅の配線パターンを生成してスペース効率を改善することができる自動配線方法を提供する。 - 特許庁
On the occasion of forming the line pattern on the glass plate 1 for decoration, it is needed only to form groove portions 3 of a prescribed depth in the surface part of a glass plate 2 by a rotary type cutter 4, to color the back part and to apply heat for melting.例文帳に追加
装飾用硝子板1に線模様を形成する際、回転式カッター4により硝子板2の表面部に所定深さの溝部3を形成し、裏面部に色付けして加熱・溶融することで済む。 - 特許庁
To provide a missile guidance system capable of achieving a fitting error of approximately several tens of cm even when the visual line direction changes with time in a staircase pattern on the basis of the field angle resolution characteristic of an image sensor.例文帳に追加
目視線方向が画像センサの画角分解能特性により階段状に時間変化する場合でも、10数cm程度の命中誤差を達成することのできる飛翔体誘導装置を得る。 - 特許庁
The 90° phase adjusting circuit consisting of a closed conductor pattern, a port connected to the antenna drawn out to the inside and a port connected to a coaxial line are formed to the printed circuit board, and the 90° phase adjusting circuit is contained to the rear side of the antenna.例文帳に追加
配線基板には閉じた導体パターンによる90°ハイブリッドと内側に引き出したアンテナと接続するポートと同軸線に接続するポートをを形成し、アンテナの裏面に90°ハイブリッドが収まるようにする。 - 特許庁
To inscribe a position recognition pattern 1, indicating the position of a pellet region 6 of a wafer 5 on the pellet region 6 at the characteristic selection of the pellet regions of a wafer in a semiconductor device, without deteriorating the throughput of the production line.例文帳に追加
半導体装置において、ウェハ5に対するペレット領域6がどの位置にあるかを示す位置認識パタ−ン1をラインのスル−プットを落とさずにウェハの各ペレット領域特性選別時に作り込む。 - 特許庁
The first and second patterns 10a, 10b are mutually superposed, thereby forming one pattern, that is, the first and second resolved patterns 10a, 10b, wherein no adjacent dots exist in line and column directions.例文帳に追加
第1及び第2分解パターン10a,10bは、を互いに重ね合わせると、1つのパターンとなり、しかも、行又は列方向において隣接するドットが存在しない第1及び第2分解パターン10a,10bである。 - 特許庁
Terminal adaptors 11, 12 can connect analog terminals 21-24 to a digital leased line 5 and are provided with a means that transmits/receives pseudo call control information utilizing pattern data depending on a combination of PB signals.例文帳に追加
アナログ端末21〜24をデジタル専用線5に接続可能とするターミナルアダプタ11、12であって、PB信号の組合せによるパターンデータを利用した擬似的な呼制御情報を送受信する手段を有する。 - 特許庁
The frame ground line 12c is electrically connected to a casing 8 thorough the electrode 13c, a pin 3a electrically connected to the electrode 13c, a FG pattern 7, and a screw mounted in a mounting hole 9.例文帳に追加
フレームグラウンド線12cが、電極部13c、電極部13cと電気的に接続されたピン3a、FGパターン7および、取付け穴9に取り付けられたねじを介して筐体8と電気的に接続される。 - 特許庁
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