「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes: a step of forming a thin film transistor and a connecting pattern connecting the drain electrode of the thin film transistor and a data line on a substrate of a liquid crystal display device; and a step of forming a pixel electrode connected to the drain electrode.例文帳に追加

液晶表示装置の基板上に薄膜トランジスタ及びそのドレイン電極とデータラインとを接続する接続パターンを形成するステップと、該ドレイン電極と接続される画素電極を形成するステップを有する。 - 特許庁

To surely improve the sharpness of characters and line drawings on a white ground using a simple constitution and to distinctly reproduce edges of a continuous tone image such as a photograph, while suppressing the occur rence of moire of a print dot document in the case of a pattern.例文帳に追加

簡単な構成でかつ確実に白地上の文字・線画の鮮鋭性を向上させ、絵柄では印刷網点原稿のモアレの発生を抑制しつつ写真などの連続調画像のエッジもくっきりと再現する。 - 特許庁

To provide a method for preparing CAM data for an electronic circuit board in which the CAD data of a line conductor or a surface conductor can be converted appropriately and efficiently into the CAM data consisting of the plating widow of the exposure mask for pattern plating.例文帳に追加

線路導体や面導体のＣＡＤデータを、パターンメッキ用露光マスクのメッキウィンドウからなるＣＡＭデータに適正かつ効率的に変換することができる電子回路基板用ＣＡＭデータ作成方法を提供する。 - 特許庁

A printed circuit board has first solder lands for soldering of an electronic component, second solder lands for accumulation of solder located close to the first lands, and a signal line pattern provided between the first and second lands.例文帳に追加

電子部品を半田付けするための第１半田ランドと第１半田ランドに近接して配置される半田を溜めるための第２半田ランドと第１半田ランドと第２半田ランドとの間に信号線パターンを有するプリント基板。 - 特許庁

To provide an order management system, capable of exhibiting assembling specifications displayed with a machine type derived component combination pattern, ordered by a customer to a line side at production time and prior to that, without previously preparing and storing the specifications.例文帳に追加

顧客が発注した機種派生の部品組合せパターンを表示した組立仕様書を、予め用意して保管することなく、生産時及びそれ以前にラインサイドに提示することができるオーダ管理システムを提供する。 - 特許庁

After strings 1, which are formed by drying vine stalks 11 collected in the neighborhood, are arranged and fixed in a contour-line pattern at proper intervals on the slope S subjected to leveling, a borrow material 3 for planting is sprayed widely enough to conceal the strings.例文帳に追加

整地施工した法面Ｓに、近隣で採取した葛茎１１を乾燥させて形成した紐体１を等高線状に適宜間隔で配設固定した後、紐体が隠れる程度に緑化用の客土材３を吹き付ける。 - 特許庁

This non-contact data carrier 120 has an insulation base material 29, an antenna coil 25 composed of a circulating line pattern 26 formed on the surface of the material 29, and an IC chip 28 connected to both ends 22A the 22B of the coil 25.例文帳に追加

非接触式データキャリア１２０は、絶縁基材２９と、絶縁基材２９の表面に形成された周回する線パターン２６からなるアンテナコイル２５と、アンテナコイル２５の両端２２Ａ，２２Ｂに接続されたＩＣチップ２８とを有する。 - 特許庁

When the binary-coding data are coincident with the matching pattern, an image visualizing read level correction section (1060a) applies high frequency component level correction to original read information and an image output signal output section (1070) applies visualized image level correction to the original read information to reproduce a sharp white image without any black line.例文帳に追加

２値化データがマッチングパターンと一致したときは、原稿読み取り情報の高周波成分レベル補正（１０６０ａ）と顕画化レベル補正（１０７０）を行うことにより、黒線の無い鮮明な白画像の再現する。 - 特許庁

The first detection patch 101 is a solid patch with a halftone density of almost 100%, the second and the third detection patches 102 and 103 are line pattern patches with a halftone density of (k×100)%, and the number of lines of each patch is different.例文帳に追加

前記第１の検出パッチ１０１は網点濃度がほぼ１００％のベタパッチ、第２および第３の検出パッチ１０２〜１０３は網点濃度が（ｋ×１００）％の万線パッチであって、各々線数が異なる。 - 特許庁

Then candidates having an enough width D for the dimension measurement are selected from the candidates [1] to [5], and further, a candidate closest as possible to the dimension measurement part (center line) designated in the pattern before the OPC process is selected.例文帳に追加

次いで、候補［１］〜［５］の中から寸法測定を行うのに十分な幅Ｄを備えた候補を選別し、更にＯＰＣ処理前のパターンで指定した寸法測定箇所（中心線）からなるべく近い位置の候補を選別する。 - 特許庁

The sliding contact includes a contact 14A which is made of a carbon fiber bundle and a side 14a of which is formed as a sliding part brought freely into line contact or surface contact with tracks 30, 31 of a conductive pattern 32.例文帳に追加

本発明は、カーボンファイバ集束体からなり、その側部１４ａを導電パターン３２のトラック３０、３１に対する線接触自在または面接触自在の摺動部とした接点部１４Ａを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an intermediate layer material composition for a three- layer resist process soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free of a problem in trailing shape and line edge roughness in patterning of an upper layer resist and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The front sleeve parts have sleeve center line parts 4a which pre positioned and cut on extension lines of shoulder lines at which a front body part 2 and a rear body part 1 are sewed and one paper pattern is used for taking a cloth for sleeve attachment parts of the front body part to sleeve bottom parts.例文帳に追加

前袖部分は、袖中心線部４ａが前身頃２と後身頃１の縫い合わされる肩線の延長線上に取られて裁断され、且つ前身頃への袖付け部から袖口部まで１枚の型で生地取りされる。 - 特許庁

A straight line groove 2a, having a U-shaped transverse section is formed along each of the four sides of an upper face of a laminated sheet 1, and a dicing mark 3a is constituted of an array of a plurality of mark pattern ends exposed to an inner face of the groove 2a.例文帳に追加

積層シート１の上面の４辺それぞれに沿って横断面Ｕ字形の直線溝２ａを形成して、この溝２ａの内面に露出した複数のマークパターン端の列によりダイシングマーク３ａを構成している。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

A control device 24 brings about a special game state advantageous to a player under a necessary condition that the pattern of the display device 13 is put into a specific stop mode on an effective line and finally and deterministically displayed.例文帳に追加

制御装置２４は、表示装置１３における図柄が有効ラインにおいて特定の停止態様となって最終的に確定表示されることを必要条件に、遊技者に有利な特別遊技状態を発生させる。 - 特許庁

Also, an electrode pad 14 of a pattern for process monitoring or for evaluation of the reliability of the wiring and contacts is pulled out to the outside of the chip 11, by a lead wiring 15 for arranging it on a dicing line 12.例文帳に追加

また、前記ダミー配線１３によるプロセスモニタ用または配線及びコンタクトの信頼性評価用のパターンの電極パッド１４は、前記チップ１１外に引き出し配線１５を用いて引き出され、ダイシングライン１２上に配置されている。 - 特許庁

To make it possible to suppress the breaking of the pattern C constituted by the coating liquid A3 by sufficiently flowing the coating liquid A3 coated in a line shape straddling a plurality of patterns F formed on the substrate W surface between the respective patterns F.例文帳に追加

基板Ｗ表面に形成された複数のパターンＦを跨いでライン状に塗布される塗布液Ａ3を各パターンＦ間に十分に流動させて、この塗布液Ａ3で構成されるパターンＣの断線を抑制可能とする。 - 特許庁

As a result, the prism pattern 320 changes the advance path of side-face light emitted from each discharge space 230, minimizes the dark line generated corresponding to the region between the discharge spaces 230, and improves uniformity in luminance.例文帳に追加

従って、プリズムパターン３２０は各放電空間２３０から出射される側面光の進行経路を変更して放電空間２３０の間の領域に対応して発生する暗線を最小化して、輝度均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide an ink-jet head drive device and method capable of maintaining high-precision image recording for a long time by preventing defective discharge of ink even when the same image pattern is continuously formed by a full-line type ink-jet head.例文帳に追加

フルライン型のインクジェットヘッドにより同一の画像パターンを連続形成する場合でも、インクの吐出不良を防止して、高精度な画像記録を長期に渡って維持できるインクジェットヘッド駆動装置及び方法を提供する。 - 特許庁

During the high beam irradiation, a part of the light from the reflector R1 which is irradiated to the lower half of the low beam light distribution pattern during the low beam irradiation is reflected by a reflecting plate E2 to irradiate the light to the upper side above a horizontal line.例文帳に追加

ハイビーム照射時には、ロービーム照射時にロービーム用配光パターンの下側半分に照射されるリフレクタＲ１からの光の一部を、反射板Ｅ２によって反射し、水平線よりも上側に照射する。 - 特許庁

Stress from a squeegee of a seal plate is relaxed and physical twisting of meshes constituting the seal plate becomes extremely small to suppress the variation in print precision, especially the line width of the seal pattern 2, in the liquid crystal panel to an extremely small value.例文帳に追加

シール版のスキージからの応力を緩和でき、シール版を構成するメッシュの物理的なねじれが極力少なくなり、液晶パネル内のシールパターン２の印刷精度、特に線幅のばらつきが非常に小さく抑えられる。 - 特許庁

An area of a region free from the feature points composed of a branch point of a ridge composing a fingerprint pattern and an point of the end of the ridge, on a predetermined remarked point, is extracted as core line stability to be used in matching.例文帳に追加

所定の注目点を中心とした、指紋模様を構成する隆線が分岐する点や終端する点からなる特徴点が存在しない領域の面積を芯線安定度として抽出し、照合に用いる。 - 特許庁

Seven kinds of cherries A-G are determined as combinations to be won by the derivation of the pattern of "cherry" on a left reel on a winning combinations, and when they are won, two tokens are put out per winning line.例文帳に追加

入賞ライン上において左のリールに「チェリー」の図柄が導出されることで入賞となる役としてチェリーＡ〜Ｇの７種類が定められ、これらの入賞時には、いずれも１入賞ライン当たり２枚のメダルが払い出される。 - 特許庁

The inclination of a horizontal stripe pattern 50 projected on a screen 1 is calculated by using sensor data obtained from outputs of horizontal line sensors 31c and 31d, and a correction amount for correcting the trapezoid distortion is calculated from the calculated inclination.例文帳に追加

スクリーン１に投影された横縞パターン５０の傾きを水平方向ラインセンサ３１ｃ，３１ｄの出力から得られるセンサデータを利用して求め、求めた傾きから台形歪みを補正する補正量を求めている。 - 特許庁

On the drawing lines in the neighborhood of the contact holes, a pattern 12 of a semiconductor film which shuts off ongoing to the drawing line surface of residual moisture in the anisotropic conductive resin via a first inter-layer insulator film is formed.例文帳に追加

該コンタクトホール近傍の引き出し配線上に第１の層間絶縁膜を介して異方導電性樹脂中の残存水分の引き出し配線表面への進行を遮断する半導体膜のパターン１２が形成される。 - 特許庁

In the flexible substrate 22, a wiring line 26 (an independent stripe pattern) which is not connected to an electrode of the panel is provided outside of wiring lines 23 and 24 and in the neighbor of the metal plate 21 to which at least the flexible substrate 22 is attached.例文帳に追加

フレキシブル基板２２において、配線（２３，２４）の外側に、パネルの電極と接続されない配線（独立した線状のパターン）２６を、少なくともフレキシブル基板２２を取り付ける金属板２１の端部近傍に設ける。 - 特許庁

This reduces the size of an image of the light source 18a formed by reflected light from the region 20a1 close to the lower-end edge, thus a sufficient amount of light is secured for a part close to the cutoff line in the low-beam light distribution pattern P.例文帳に追加

これにより下端縁近傍領域２０ａ１からの反射光により形成される光源１８ａの像のサイズを小さなものとし、ロービーム配光パターンＰにおけるカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保する。 - 特許庁

A printer provided with an automatic cutter cuts the cut position adjusting pattern 300, determines the quantity of slippage between a cut line as a base and the actually cut lines, and corrects the cut position slippage in the actual cutting operation.例文帳に追加

オートカッターを備えたプリンタは、カット位置調整用パターン３００を切断し、この結果によって基準となるカット用ラインと、実際にカットしたラインとのずれ量を求め、実際のカット動作時においてカット位置ずれを補正する。 - 特許庁

A silicon (110) substrate having the normal line to the substrate surface tilted by 0° to 20° angle from the {110} axis of the silicon is used to form an opening pattern by lithography, and then the substrate is subjected to anisotropic etching to form a groove.例文帳に追加

基板表面に対する法線軸がシリコン｛１１０｝軸に対して０°から２０°の範囲で傾いたシリコン（１１０）基板を用いて、リソグラフィーにより開口パターンを形成した後、異方性エッチングを行って、溝部を形成する。 - 特許庁

Even when the light shielding region 2 is illuminated by stray light produced by the reticle illumination optical system of the reducing stepper, the image of the line-and-space pattern P on the semiconductor wafer can be prevented.例文帳に追加

したがって、縮小投影露光装置のレチクル照明光学系で発生した迷光により、遮光領域２が照明された場合にも、そのラインアンドスペースパターンＰが半導体ウェハ上に結像することを防止することができる。 - 特許庁

In such an image data processing method, the dot gains can be corrected at printing time by means of the thickening/thinning processing not only with respect to a pattern that is converted into a dot image but the solid image such as a character, a thin line.例文帳に追加

上述した画像データ処理方法によれば、網点画像に変換された絵柄だけでなく、文字や細線などのベタ画像に対しても太らせ／細らせ処理により印刷時のドットゲインに対する補正を行うことができる。 - 特許庁

The printer provided with an auto-cutter cuts the cutting position adjusting pattern 300, determines the shift between a resulting reference cutting point and an actually cut line and then corrects the cutting position at the time of actual cutting operation.例文帳に追加

オートカッターを備えたプリンタは、カット位置調整用パターン３００を切断し、この結果によって基準となるカット用ポイントと、実際にカットしたラインとのずれ量を求め、実際のカット動作時においてカット位置ずれを補正する。 - 特許庁

Likewise, a signal B or C flowing in the printed pattern is outputted to the plug of a signal line cable to a terminal board through a pin 903 and outputted to the pin 903 of another 2P connector 901 inserted into the hollow portion 903h.例文帳に追加

同様にプリントパターンを流れる信号Ｂ又はＣは、ピン９０３を介し末端基板への信号線ケーブルのプラグへ出力され、また、中空部９０３ｈに挿入された他の２Ｐコネクタ９０１のピン９０３へ出力される。 - 特許庁

To provide a projection optical system which can obtain pattern images of a desired line width over an effective image formation area without being substantially affected by scattered lights caused by the surface roughness, etc. of a refraction face or reflection face, for example.例文帳に追加

たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。 - 特許庁

Contaminations deposited on a wiring pattern are removed in-line in a carrier process from a feeding reel 1 to a take-up reel 5 of a semiconductor device tape carrier 2, which is subjected to automatic visual inspection.例文帳に追加

配線パターン上に付着している異物の除去操作を、半導体装置用テープキャリア２の自動外観検査がなされる送出しリール１から巻取りリール５までの搬送過程中においてインラインで行うことを特徴としている。 - 特許庁

A subsidiary CPU of a pattern control board displays a space part S existing between respective patterns in the variation direction of the patterns on a symbol combination effective line R on a visible display unit H.例文帳に追加

図柄制御基板のサブＣＰＵは、主制御基板からの変動パターンに基づいて 図柄の変動方向に沿って各図柄間に存在するスペース部Ｓを可視表示部Ｈにおける図柄組み合わせ有効ラインＲ上に表示させる。 - 特許庁

To provide a signal transport substrate that is electromagnetically shielded to obtain a much higher degree of freedom when designing a trace pattern or trace width of a signal line and to obtain a much higher degree of freedom also when adjusting a characteristic impedance.例文帳に追加

信号線のトレースパターンやトレース幅などの設計に、より一層の自由度が得られると共に、特性インピーダンスの調整の上でもより一層の自由度が得られる電磁シールドされた信号伝達基板を提供する。 - 特許庁

Big wins occur when the figures of the same kind line up in the display result derived and shown as the results of the special pattern games or when the figures are odd in kind, big wins with the varying probability occur and thereafter, the states of varying the probability are given to raise the probability of the occurrence of big wins in the special pattern games up to the maximum of 10,000 rounds.例文帳に追加

特図ゲームの結果として導出表示された表示結果が、同じ種類の図柄が揃ったものであれば大当たりとなるが、その図柄の種類が奇数図柄であれば確率変動大当たりとなり、その後、最大１００００回まで特図ゲームでの大当たりの発生確率が高くなる確率変動状態となる。 - 特許庁

In the method for checking, by combining line illuminating means 11 to 14 from four directions in the photographing range 5 in the work 1 and illuminating the work 1 so that the intensity of the light input to the one-dimensional CCD 3 of the light diffused in the pattern to be checked on the work 1 becomes uniform, the proper image of the stereoscopic pattern to be checked is made obtainable.例文帳に追加

ワーク１上の撮像範囲５に対して４方向からのライン照明手段１１〜１４を組み合わせて照明することによりワーク１上の検査対象パターンで拡散した光が１次元ＣＣＤ３に入力する光の強度が均一になるようにし、立体的な検査対象パターンの適正な画像が得られるようにした。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Here, the light-emitting parts 22 are so arranged that major diameters D of adjacent oval shapes of irradiation light overlap each other, so that an outside contour line of the light distribution pattern formed by the irradiation light emitted from each light-emitting part 22 can be formed into a circular shape with smaller unevenness and a circular and uniform light distribution pattern as a whole can be obtained.例文帳に追加

このとき、隣接する長円形状の照明光の長径Ｄ同士が重なるように発光部２２を配置したので、各発光部２２から発せられる照射光により形成される配光パターンの外側輪郭線を、凹凸の少ない円形状とすることができ、全体として円形で均一な配光パターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

In this case, a direction (a connection line direction) in which the back conductor pattern CP2 is connected is the X direction and when attention is paid to a Y direction orthogonal to (intersecting with) the X direction, the width of the back conductor pattern CP2 in the Y direction is smaller than those of the back terminals TEPa, TEPb in the Y direction.例文帳に追加

このとき、裏面導体パターンＣＰ２の接続方向（接続線方向）がＸ方向となっており、このＸ方向と直交する（交差する）Ｙ方向に着目すると、裏面導体パターンＣＰ２のＹ方向の幅は、裏面端子ＴＥＰａのＹ方向の幅や裏面端子ＴＥＰｂのＹ方向の幅よりも小さくなっている。 - 特許庁