1153万例文収録!

「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > line-patternの意味・解説 > line-patternに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

line-patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3517



例文

A method for preparing the connected lines wherein two stock lines respectively consisting of a pattern part and blank parts on both sides thereof are synthesized and one connected line with a shape wherein two pattern parts are arranged through a blank part between the lines with a specified width designated being different from a simple synthesized width of a blank part of two stock lines between them is prepared, is provided.例文帳に追加

本発明は、それぞれ模様部とその両側の余白部とからなる2つの素材罫を合成し、2つの模様部がその間に2つの素材罫の余白部の単純合成幅とは異なる指定された所定幅の罫間余白部を介して並置された形の1つの接合罫を作成する接合罫の作成方法に関する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、X線又はEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン3を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール3の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、X線又はEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a colored photosensitive resin composition and a pattern forming method which is excellent in developability and can be restrained the occurrence of surface reticulation after post baking, and to provide a method for manufacturing a color filter having a colored pattern free from surface reticulation, and is excellent in line width sensitivity, linearity and heat resistance, and to provide the color filter and a display device.例文帳に追加

現像性が良好で且つポストベーク後の表面レチキュレーションの発生を抑制し得る着色感光性樹脂組成物及びパターン形成方法、並びに、表面レチキュレーションがなく、線幅感度、直線性及び耐熱性に優れた着色パターンを有するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。 - 特許庁


例文

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、X線またはEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a filter for a display, which includes an electromagnetic shield material ensuring low electric resistance even when the line width of a pattern is made narrower, preventing an image from being whitened by external light and image light and preventing reduction in image contrast when the convex-pattern-layer-formed side of the electromagnetic shield material is directed toward the display panel; and to provide an image display device using the filter.例文帳に追加

パターンの線幅をより一層微細化しても低い電気抵抗とすることができ、電磁波シールド材の凸状パターン層形成側をディスプレイパネルに向けて設置したときに、外光及び画像光による画像の白化、画像コントラストの低下が防止できる電磁波シールド材を含むディスプレイ用フィルタ及びこれを用いた画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high transparency for radiations, has excellent resist fundamental physical properties such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern formation, and has high resolution performance and small pattern line edge roughness, to provide a polymer capable of being used for the composition, and to provide a new compound used for synthesizing the polymer.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、解像性能が高く、パターンのラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。 - 特許庁

例文

A first impurity region 4ad acting line a source region and a second impurity region 4ae acting like a drain region are formed through ion implantation by using a resist pattern for forming a gate electrode of a transistor as a mask, and the gate electrode 9 including lower electrodes 6a, 8a and an upper electrode 7a is formed by using the resist pattern for a mask.例文帳に追加

トランジスタのゲート電極を形成するためのレジストパターンをマスクとしてイオン注入によりソース領域となる第1不純物領域4adとドレイン領域となる第2不純物領域4aeが形成され、そのレジストパターンをマスクとして下部電極6a,8aと上部電極7aを有するゲート電極9が形成される。 - 特許庁

例文

The waterless lithographic printing plate original has at least a thermosensitive layer or a photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein a center-line-average roughness Ra on the surface of the silicone rubber layer is 0.4 μm or less and is used for the formation of the display pattern and the formation of the wiring pattern.例文帳に追加

基板上に、少なくとも感熱層あるいは感光層とシリコーンゴム層とを有する水なし平版印刷版原版であって、該シリコーンゴム層表面の中心平均粗さ(Ra)が0.4μm以下であり、ディスプレイパターン形成用または配線パターン形成用であることを特徴とする水なし平版印刷版原版により達成される。 - 特許庁

The semiconductor device has a device region and a TEG region outside the device region, and a line-and-space pattern 21 in the TEG region 10 has a plurality of reference patterns 12 arrayed regularly at predetermined intervals and a specific pattern 13 arranged near the reference patterns 12.例文帳に追加

本発明にかかる半導体装置は、デバイス領域と前記デバイス領域の外側に設けられたTEG領域とを備える半導体装置であって、TEG領域10のラインアンドスペースパターン21は、所定の間隔で規則的に配列された複数の基準パターン12と、基準パターン12の近傍に配置された特異パターン13とを有している。 - 特許庁

The discontinuous points are formed by proper dimension on the reference potential plane positioned near a wiring pattern formed on a semiconductor chip or a package board configuring the semiconductor device, so that the delay elements having desired characteristics can be equivalently and easily added according to the shape of not the signal line side of the wiring pattern but the reference potential plane side.例文帳に追加

半導体装置を構成する半導体チップやパッケージ基板上で形成された配線パターンに近い位置にある参照電位平面に適切な寸法でこの不連続点を形成して配線パターンの信号線側ではなく、参照電位平面側の形状により、所望の特性を有する遅延素子を等価的に容易に付加することが出来る。 - 特許庁

To provide printed matter with image lines partially provided with characters, which enables only a person knowing the following information to recognize the existence of microcharacters on a genuine article, though the mere constitution of a line-drawing pattern is recognized to the naked eye by randomly constituting the microcharacters using some of the image lines, without restrictions on a pattern constituting the printed matter.例文帳に追加

印刷物を構成する模様に制限を掛けず、画線の一部を利用した微小な文字をランダムに構成することで、肉眼では単に線画模様が構成されているように認識されるが、その情報を知っている者に限り、真正品には当該微小文字の存在が認識可能な画線の一部に文字を有した印刷物を提供する。 - 特許庁

When a prescribed variable display pattern is executed when staying in an approach mode, at a liquid crystal display device 640, a single character information column including several kinds of character information corresponding to whether or not a single or a plurality of ready-to-win states are to be stopped on an effective line is variably displayed from a plurality of common decorative pattern columns.例文帳に追加

アプローチモード滞在時に所定の変動表示パターンが実行されると、液晶表示装置640には、複数の共通装飾図柄列から有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かに対応する複数種類の文字情報が含まれた単数の文字情報列を変動表示させる。 - 特許庁

To secure required brightness while forming a light distribution pattern for low beam having a clear cutoff line at its top end part, on the basis of the installation number of luminaire units suppressed, for a headlight for a vehicle structured so as to form a given light distribution pattern by light irradiation from the luminaire units with semiconductor light-emitting elements as light sources.例文帳に追加

半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの設置個数を少なく抑えた上で、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するとともに所要の明るさを確保する。 - 特許庁

In a decorative variable display device 90, when starting second decorative variable display corresponding to a second special pattern while first decorative variable display corresponding to a first special pattern is executed, by allocating an effective line set to the first decorative variable display (allocating L3), the second decorative variable display is executed.例文帳に追加

飾り変動表示装置90において、第1特別図柄に対応する第1飾り変動表示を実行させているときにおいて、第2特別図柄に対応する第2飾り変動表示を開始させるときに、第1飾り変動表示に設定された有効ラインを割当てる(L3を割当てる)ことにより、第2飾り変動表示を実行させる。 - 特許庁

A vehicular headlight device 10 includes a lighting fixture 20H for high beam which forms a light distribution pattern for high beam including an area above the cut-off line of the light distribution pattern for low beam, and a headlight device control ECU 40 which acquires information from a vehicle detector 150 and a navigation system 144 and controls the irradiation of the lighting fixture 20H for high beam.例文帳に追加

車両用前照灯装置10は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成するハイビーム用灯具20Hと、車両検出装置150およびナビゲーションシステム144から情報を取得し、ハイビーム用灯具20Hの照射を制御する前照灯装置制御ECU40と、を備える。 - 特許庁

By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.例文帳に追加

リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも2つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、2つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁

The adhesive seal capable of coloring is provided with an adhesive layer outer peripheral edges of which are formed by being fitted to an outer peripheral shape of a desired pattern, a colorant supporting layer formed on the adhesive layer and a contour line which is formed on a surface of the colorant supporting layer, defines contour lines of the pattern and has desired thickness and desired width.例文帳に追加

ぬり絵可能な粘着シールは、外周縁が所望の図柄の外周形状に合わせて形成された粘着層と、該粘着層の上に形成された着色材支持層と、該着色材支持層の表面に形成されていて図柄の輪郭を画成する輪郭線であって、所望の厚さ及び所望の幅を有する輪郭線とを備え - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加

組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性(高いコストパフォーマンス)にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

An image enhancing mask 6 for pattern formation includes a transmissive substrate which transmits exposure light and a semi-light-shielding portion 8 which is formed on the transmissive substrate and has transmittance allowing the exposure light to be partially transmitted and corresponds to an isolation line pattern, and a phase shifter 9 which is provided at an opening in the semi-light-shielding portion 8.例文帳に追加

パターン形成用のイメージ強調マスク6は、露光光に対して透過性を有する透過性基板7と、透過性基板7上に形成され、露光光の一部分を透過させる透過率を持ち且つ孤立ラインパターンと対応する半遮光部8と、半遮光部8の内部の開口部に設けられた位相シフター9とを備えている。 - 特許庁

A plurality of signals of printed wiring patterns to be comparatively confirmed for line length or the like of wiring-designed printed wiring patterns is designated, and the luminance of pattern or segment information other than a signal related to a signal name selected so that the distance can be visually confirmed is reduced to display a printed wiring pattern related to the selected signal in a visually easy-to-see manner.例文帳に追加

配線設計済みのプリント配線パターンの内,線長などを比較確認したいプリント配線パターンの信号を複数指定しその距離を視覚的に認識できるよう,選択した信号名にかかわる信号以外の図形や線分情報の輝度を下げ,選択した信号に係るプリント配線パターンが視覚的に見やすいように表示する。 - 特許庁

By performing a filtering processing for extracting or suppressing the spatial frequency components corresponding to a linear cyclic pattern appearing in image signals indicating the image in the predetermined direction of the image, the cyclic pattern components of the image are suppressed, and the frequency characteristics of the filtering processing are changed corresponding to the inclination of the direction of the line and the predetermined direction.例文帳に追加

画像を表す画像信号に現れる線状の周期的パターンに対応する空間周波数成分の抽出または抑制をするフィルタリング処理を画像の所定の方向に施すことにより、画像の周期的パターン成分を抑制し、線の方向と前記所定の方向との傾きに応じてフィルタリング処理の周波数特性を変更する。 - 特許庁

The substrate 11 provided with a transparent electrode pattern 13 arranged in a matrix is irradiated with a band-shaped laser beam from a light projecting part 1 in such a way as to traverse the arrangement of one electrodes 13b between the other electrodes 13a, and diffracted light generated by the pattern arrangement of the electrodes 13b is extracted by a line CCD 10.例文帳に追加

マトリクス配列された透明電極パターン13を具備する基板11に対し、投光部1より一方の電極間13a,13aに他方の電極13bの配列を横切るような帯状のレーザービームを照射するととともに、前記電極13bのパターン配列によって生じた回折光をラインCCD10により抽出する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition giving good pattern profile particularly free of a defective trailing shape of a line pattern on a glass substrate (SOG substrate) and an overhang shape of a contact hole and having a wide side lobe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、良好なパターンプロファイル、特に、ガラス基板(SOG基板)上でのラインパターンの裾形状不良、コンタクトホールの庇形状を生じない、また、広いサイドローブマージンを有するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The detection unit includes a marking unit disposed on the travelling surface of the road and including a pattern periodically changing in optical characteristics in the width direction of the road; a line sensor unit for capturing a one-dimensional image having an eyesight of a line shape extending in the width direction; and a counting unit for detecting the number of vehicles travelling in parallel by using the one-dimensional image.例文帳に追加

並走検出部は、道路の走行面に設けられ光学的な特性が道路の幅方向に周期的に変化するパターンを含むマーキング部と、幅方向に延長する線状の視野を有する一次元画像を取得するラインセンサ部と、一次元画像を用いて並走している車両の数を検出する計数部とを備える。 - 特許庁

The liquid crystal display device of a multi-domain homeotropic alignment mode is configured by forming a liquid crystal layer between two substrates, forming a multi-domain pattern to divide one pixel to multi-domains on the surface of the one substrate, forming a plurality of long line type patterns on the surface of the other substrate and dividing the pixel by the long line type patterns and the multi-domains.例文帳に追加

2枚の基板の間に液晶層を形成し、一方の基板は表面には一画素をマルチドメインに分割するマルチドメインパターンを形成し、他の基板は表面に複数の長条形パターンを形成し、該長条形パターンと該マルチドメインによって該画素を分割してマルチドメイン垂直配向モードの液晶表示装置を構成する。 - 特許庁

To provide a signal line and a cable for high speed transmission wherein attenuation of a signal of a low-frequency-component is enhanced, a waveform required for transmission of a high-speed transmission signal is maintained, and an additional element having the same function is not necessary so that the length of the signal line or the cable itself can be extended and a large eye pattern can be attained.例文帳に追加

信号線またはケーブル自身の長尺を可能にし、大きなアイパタンが得られるようにすべく、低周波成分の信号の減衰を大きくし、高速伝送信号の伝送に必要な波形を維持し、別に同様な機能を持った素子を不要にした高速伝送用信号線および高速伝送用ケーブルを提供することにある。 - 特許庁

In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加

この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁

On both sides in the tape longitudinal direction of A-D bursts constituting an LTO servo pattern respectively, auxiliary pulses 10 parallel with a line orthogonal to a tape edge and having a length roughly equal to a spacing along the line orthogonal to the tape edge between both ends in the tape width direction of the respective bursts A-D are formed at prescribed spacings in the tape longitudinal direction from the respective bursts A-D.例文帳に追加

LTOサーボパターンを構成するA〜Dバーストのテープ長手方向の各々両側に、テープエッジに直交する線に対して平行であり、且つA〜Dの各バーストのテープ幅方向両端間の、前記テープエッジに直交する線に沿う間隔と略等しい長さの補助パルス10を、A〜Dの各バーストからテープ長手方向に所定間隔隔てて形成する。 - 特許庁

The frame body 52 is so structured that a first surface 56a on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further upward than a cutoff line of the low-beam light distribution pattern has a lower reflection rate than that of a second surface 52b on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further downward than the cutoff line.例文帳に追加

枠体52は、光が照射されたときの拡散反射光による像がロービーム用配光パターンのカットオフラインより上方に投影される第1表面56aが、光が照射されたときの拡散反射光による像がカットオフラインより下方に投影される第2表面52bよりも反射率が低くなるよう設けられている。 - 特許庁

In a vehicle headlight, a headlight unit has a first movable shade with a side edge and an upper edge for forming an additional light-distributing pattern PA2 which has a vertical cut-off line CV1 turned to an opposite lane side and a horizontal cut-off line CH1 turned upward, and a position of the side edge is set up at a position separated from an optical axis to a road shoulder side.例文帳に追加

灯具ユニットとして、対向車線側を向いた鉛直カットオフラインCV1および上向きの水平カットオフラインCH1を有する付加配光パターンPA2を形成するための側端縁および上端縁を有する可動式の第1シェードを備えた構成とし、その側端縁の位置を光軸から路肩側に離れた位置に設定する。 - 特許庁

To provide a skin for a cushion attained by melting and adhering end edges of a plurality of synthetic resin sheet members reinforced with a back fabric at its rear surface in which some broken-line patterns having different colors connected in a broken-line form to cause the melting and adhering parts to be exposed out and assume a sawn pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、裏面が裏布で補強された複数の合成樹脂製のシート材の端縁を溶着して得られるクッション用表皮において、その溶着部が外部に露出して、縫目模様を想起させるように異なる色が破線状に連なった破線模様が形成されたクッション用表皮を提供することにある。 - 特許庁

To enable to form a slanted cutoff line without the use of a shade even if an edge of a light source is extended in a horizontal direction, for a lighting lamp fitting for a vehicle structured so as to form a light distribution pattern having a cutoff line at an upper end by sequentially reflecting light of the light source having the linearly extended edge with a first and a second reflectors.例文帳に追加

直線状に延びるエッジを有する光源からの光を、第1および第2リフレクタで順次反射させることにより、上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、シェードを用いることなく、かつ、上記エッジが水平方向に延びていても、斜めカットオフラインを形成可能とする。 - 特許庁

When an original image of the multilayered image is composed of foreground data including color information of a character line part of the original image, background data including a pattern part other than the character line part, and selection data including character shape information in which either the foreground data or the background data are selected for each pixel, the Hough transform is performed to the selection data in the transform part 11.例文帳に追加

例えば多層画像が、原画像を該原画像の文字線画部分の色情報を含む前景データと、文字線画部分以外の絵柄部分を含む背景データと、前景データまたは背景データのいずれかを画素毎に選択する文字の形状情報を含む選択データからなる場合には、選択データに対して変換部11でハフ変換を行う。 - 特許庁

Since patterns PTN1 and PTN2 for supplying power to light emitting diodes vLED1-vLED15 and a dummy pattern PTN3 are provided on a thin transparent plate 1200d which is a printed circuit board so as to constitute the constellation line of Virgo, the constellation line of Virgo is made visible by light emitted by the vLED1-vLED15.例文帳に追加

発光ダイオードであるvLED1〜vLED15に電力を供給するパターンPTN1,PTN2及びダミーであるパターンPTN3が乙女座の星座線を構成するようにプリント基板である薄肉透明板1200dに設けられているため、vLED1〜vLED15が発した光で乙女座の星座線を視認することができる。 - 特許庁

A slip format is registered by performing filtering for weakening the feature in the prescribed part of inputted document information (1), extracting the feature values of a ruled line pattern from filtered document information (2) and registering the extracted featured values of the ruled line s format information of the document.例文帳に追加

帳票フォーマットの登録は、(1)入力された帳票情報の所定部分に、特徴を弱めるフィルタリングを実行し、(2)前記フィルタリングを実行した帳票情報から罫線パターンの特徴量を抽出し、(3)抽出された罫線パターンの特徴量を当該帳票のフォーマット情報として登録することにより行う。 - 特許庁

Although, stripline is constituted, by forming ground electrodes GNDb, GNDa in the lower layer and the upper layer of the line conductor ML in an electrode pattern, a ground electrode non-forming part A for reducing the capacity generated between input/output terminals 13in, 13out on the rear surface electrically continuous with the line conductor and the ground electrode is provided.例文帳に追加

電極パターンによる線路導体MLの下層および上層にグランド電極GNDb,GNDaを形成してストリップ線路を構成するが、その線路導体に導通する裏面の入出力端子13in,13outとグランド電極との間に生じる容量を減少させるグランド電極非形成部Aを設ける。 - 特許庁

A plurality of line segments radially arranged concentrically with an intersection of diagonal lines of the sheet 100 as a base point are formed on the area A, and a plurality of line segments different (at angle) in a direction at each adjacent area are formed on the area B, and a ground pattern layer 10 uniformly printed is provided on the overall surface of the sheet 100.例文帳に追加

領域Aには、商品券用紙100の対角線の交点を基点とした同心円状に放射状に配列された複数の線分が形成され、領域Bには、隣り合う領域毎に方向(角度)の異なる複数の線分が形成され、また、商品券用紙100の全面に均一に印刷される地紋層10を設けて形成される。 - 特許庁

One transaction line 1831 wherein an area displaying a processing state of each the transaction in requirement time order of the transaction by a color or a pattern, or combination of them is assigned in order from the head of the belt-like line is displayed on a transaction processing operation screen 180, in addition to a transaction list display part 181 list-displaying the detailed processing status of the plurality of transactions.例文帳に追加

トランザクション処理操作画面180に、複数のトランザクションの詳細な処理状況をリスト表示するトランザクションリスト表示部181に加えて、トランザクションの要求時刻順に各トランザクションの処理状態を色もしくは模様または双方の組合せで表示する領域を帯状のラインの先頭から順に割り当てた1本のトランザクションライン1831を表示する。 - 特許庁

In this mouse pad having a line pattern for detecting the moving direction and distance of an optical mouse, the surface sheet is formed of transparent synthetic resin, and provided with an upper face whose static friction coefficient is not more than 0.38, and line patterns are formed of polymer layers and air layers like grid stripes at the lower side of the surface sheet.例文帳に追加

光学式マウスの移動方向と距離を検出するためのラインパターンを備えたマウスパッドにおいて、その表面シートが透光性の合成樹脂で形成されて静摩擦係数0.38以下の平滑な上面を備え、この表面シートの下側に上記のラインパターンがポリマー層と空気層とによって格子縞状に形成される。 - 特許庁

To prevent a defect from being transferred onto a wafer substrate, by reducing the thickness of an organic film for correcting an opening-like defect by treatment on a line even when performing a washing treatment at specified timing to suppress the variations in pattern line width after exposure, and by the decreased shielding capability in charged particle beams at the defect portion.例文帳に追加

露光後のパターン線幅の変動を抑えるべく所定タイミングで洗浄処理を行う場合であっても、その線上処理によって開口状欠陥を修正する有機膜の膜厚が減少し、その欠陥部分における荷電粒子線の遮蔽能力低下により、ウエハ基板上へ欠陥が転写されてしまうのを回避できるようにする。 - 特許庁

The antenna includes a dielectric substrate 25 for an antenna including a layer of a planar element 21 having a side edge portion constituted by either one of a curved line and line segments which are connected to each other while their inclinations are changed stepwise, and a substrate 26 on which the dielectric substrate 25 is placed and a ground pattern 22 having a tapered shape with respect to the dielectric substrate 25 is formed.例文帳に追加

側縁部が曲線と傾きが段階的に変更されて接続された線分とのうちいずれかで構成される平面エレメント21の層を含むアンテナ用誘電体基板25と、アンテナ用誘電体基板25が設置されアンテナ用誘電体基板25に対して先細り形状を有するグランドパターン22が形成された基板26とを含む。 - 特許庁

The embossed pattern, in its central region, is provided with a pair of front-side embosses extending from a predetermined position in the front side region in the length direction and formed to face the width directional center line of the article; and a pair of rear-side embosses extending from a position slightly separated from the front-side embosses and formed to face the center line.例文帳に追加

エンボスパターンは、中央領域においては、前側領域側の所定の位置から長さ方向に延びる、物品の幅方向中心線に対向して形成される一対の前方サイドエンボスと、該前方サイドエンボスからわずかに離間した位置から、後側領域方向に延びる、中心線に対向して形成される一対の後方サイドエンボスとを有する。 - 特許庁

In semiconductor wafer including an insulated substrate having light transparency and a plurality of chip forming regions formed of silicon semiconductor layer formed on the insulated substrate and defined by scribe line regions, a non-transparent pattern layer is provided in the scribe line region wherein a plurality of non-transparent figures separated via gaps with each other are arranged.例文帳に追加

透光性を有する絶縁基板と、絶縁基板上に形成されたシリコン半導体層とで形成され、スクライブライン領域により区画された複数のチップ形成領域を有する半導体ウェハにおいて、スクライブライン領域に、互いに隙間を介して離間する複数の不透明図形を配置した不透明パターン層を設ける。 - 特許庁

Concerning the branching filter device using two surface acoustic wave(SAW) filters having different band center frequencies, a circuit for phase matching for matching the phases of two SAW filters is formed from line patterns, at least one line pattern is formed while being divided over the plural inner layers of a multi-layer package, and the forms of the line patterns formed over adjacent layers are different at least.例文帳に追加

異なる帯域中心周波数を有する2つの弾性表面波フィルタを用いた分波器デバイスにおいて、2つの弾性表面波フィルタ同士の位相を整合させる位相整合用回路が線路パターンで形成され、かつ少なくとも1つの線路パターンが多層パッケージの複数の内層にわたって分割して形成され、少なくとも隣接する層に形成された前記線路パターンの形状が異なっていることを特徴とする。 - 特許庁

Since the capacitor 9 comprises the comb-line conductive patterns 20, 21, the area of the conductive patterns of the capacitor 9, which is penetrated by the magnetic field of the coil 6, is reduced compared with a case where the capacitor 9 comprises a surface shape electrode pattern.例文帳に追加

また、櫛歯状導体パターン20,21によりコンデンサ9を構成することにより、面状の電極パターンによりコンデンサ9を構成する場合に比べて、コイル6の磁界が貫くコンデンサ9の導体パターンの面積を減少できる。 - 特許庁

To provide a multicolor image forming apparatus capable of forming a high-quality image free from color shift or color change by constantly and accurately detecting and correcting misregistration even to the change with lapse of time of the position of a sensor which detects a line pattern.例文帳に追加

ラインパターンを検出するセンサ位置の径時的変化に対しても、レジストずれを変わらずに精度よく検出し、補正することにより色ずれや色変わりのない高品位の画像形成を行える多色画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a positive resist composition suitable for far ultraviolet rays, particularly KrF eximer laser light, having improved line edge roughness, excellent sensitivity, resolution and focal depth and capable of reducing foreign substance on a resist pattern and decreasing standing wave.例文帳に追加

遠紫外光、特にKrFエキシマレーザー光に好適で、ラインエッジラフネスが改善され、感度、解像力、焦点深度が優れ、レジストパターン表面上の異物が減少し、更に定在波も低減したポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS