「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an apparatus for continuously hot-dip plating a steel strip which improves productivity and reduces production costs because continuous embossing can be performed in a continuous hot-dip plating line, and which can form a clean and clear uneven pattern.例文帳に追加

連続溶融めっきライン内で連続的にエンボス加工できて生産性の向上、生産コストの低減を図れ、また鮮明、明瞭な凹凸模様付けを可能にする鋼帯の連続溶融めっき装置を提供する。 - 特許庁

And, for an error at a position regarded as non-problematic (because of line width equal to or greater than required width) on a mask or a substrate due to roundness of corner part among errors caused by the correction pattern, the design device determines that the error is a pseudo error.例文帳に追加

そして、設計装置は、補正パターンによるエラーのうち、コーナー部の丸まりによりマスク上又は基板上において問題とならない（線幅が規定以上となる）箇所のエラーは、疑似エラーと判定する。 - 特許庁

The obtained correction time is obtained for each unit by an operation and pseudo-pattern data large enough to give an enough amount of accumulated scattering electrons for correcting a change of the line width caused by a loading effect are formed.例文帳に追加

補正時間は、各ユニットごとに演算により求められ、この求められた補正時間から、ローディング効果による線幅変化を補正するだけの蓄積散乱電子量を与える大きさの擬似パターンデータを作成する。 - 特許庁

A data block obtained by correlating each data obtained by dividing compressed encoded data with a flag indicating whether the data contain a line boundary is stored in a sprite pattern memory without any space.例文帳に追加

上記圧縮符号化データを分割して得られる各データとそのデータにライン境界が含まれているか否かを示すフラグとを対応付けて得られるデータブロックを隙間を空けることなくスプライトパターンメモリに格納する。 - 特許庁

The light diffracted and scattered by the circuit pattern or flaw on the wafer 1 is condensed to a line sensor 6 by an image forming optical system 5 to be converted to a digital signal and the flaw of the wafer 1 is detected by a signal processing part 7.例文帳に追加

ウェハ１上の回路パターンや欠陥により回折、散乱された光は、結像光学系５でラインセンサ６に集光され、ディジタル信号に変換され、信号処理部７で欠陥が検出される。 - 特許庁

A contact hole 16 for bit line contacts self-matchingly narrows to a width B at a concave portion 14e of the silicon nitride film 14 against a width of pattern A, and a hole lower part 16b is formed to surly form a contact plug 17.例文帳に追加

ビット線コンタクトのコンタクトホール１６は、パターン幅Ａに対して、シリコン窒化膜１４の凹部１４ｅで自己整合的に幅Ｂに狭められホール下部１６ｂが形成され、確実にコンタクトプラグ１７を形成できる。 - 特許庁

Here, a guide display control part 11 causes a guide pattern template as an auxiliary line prepared, in advance, to be imposed and displayed on the display screen of the electronic finder so as to refer to it at determining of the composition and the framing.例文帳に追加

この際、ガイド表示制御部１１は、予め準備された補助線としてのガイドパターンテンプレートを、構図およびフレーミング等の決定に参考とすべく、電子ファインダ表示画面に重畳表示させる。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition capable of obtaining a highly conductive electrode pattern by using conductive powder having particle diameters of about 0.01 to 1.5 μm and by low-temperature calcination in a range of 350 to 600°C, with precision, and without line disorder, as well as a manufacturing method of an electrode using the composition.例文帳に追加

粒径が０．０１〜１．５μｍ程度の導電性粉末を使用し、かつ、３５０〜６００℃の範囲内での低温焼成によって導電性の高い電極パターンを得ることが可能である。 - 特許庁

To provide an image forming method excellent in ink repellency on an upper face (exposed face opposite to a face contacting a substrate), excellent in resolution and tightness to the substrate, and capable of forming a pattern image with a line width restrained from being dispersed.例文帳に追加

上面（基板に接する面の反対側の露出面）の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられたパターン画像を形成できる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vehicular lighting lamp using a light-emitting element as a light source, which is reduced in size, and forms a light distribution pattern having a clean cutoff line while enhancing utilization efficiency of light source luminous flux.例文帳に追加

発光素子を光源とする車両用照明灯具において、灯具のコンパクト化を図るとともに、光源光束の利用効率を高めた上で、鮮明なカットオフラインを有する配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

To provide a method for producing by melt extrusion an optical film which is uniform in thickness over the entire width of the film and has no die line, no gear mark, and no other striped pattern and in which retardation and its dispersion are small.例文帳に追加

フィルムの全幅に亘り厚み変動がなく、ダイライン、ギヤーマークやその他の縞模様がなく、リターデーションとそのバラツキも小さい、光学用に適したフィルムを溶融押出により製造する方法を提供する。 - 特許庁

A narrow-width decorative seal layer 5 having a narrow width along the rod axial line is formed on the coated layer 4 of a rod material, and an undercoating guide layer 6, having width equal to the width of the decorative seal layer 5 along the rod axial line and having a color or pattern applied to the decorative seal is formed inside of the decorative seal layer 5.例文帳に追加

竿素材の塗装層４上に竿軸線方向に沿った幅が狭い小幅の装飾シール層５、装飾シール層５の内側に、装飾シール層５の竿軸線方向に沿った幅と同幅、かつ、装飾シールに施された色彩又は模様を施した下塗ガイド層６を形成する。 - 特許庁

Then, a data line 133, a source electrode 117 electrically connected to the data line 133, a drain electrode 119 which is arranged being separated from the source electrode 117, and a semiconductor pattern which is arranged above the gate electrode 118 and between the source electrode 117 and the drain electrode 119, are formed on the gate insulating film 126.例文帳に追加

続いて、ゲート絶縁膜１２６上にデータライン１３３、データライン１３３に電気的に接続されるソース電極１１７、ソース電極１１７と離隔されて配置されるドレイン電極１１９、及びゲート電極１１８上でソース電極１１７とドレイン電極１１９との間に配置される半導体パターンを形成する。 - 特許庁

This pattern defect inspection device detects a defect by comparing a detection image acquired by scanning patterns, which are sequentially arranged in the line direction at equal intervals on the object under inspection and provided with the same shape, by means of an image sensor with a reference image acquired by scanning the patterns arranged adjacently in the line direction and provided with the same shape.例文帳に追加

被検査物体上に行列方向に等間隔で連続的に配列された同一形状を有するパターンをイメージセンサを走査して得られる検出画像とその行列方向に隣接する同一形状のパターンを走査して得られる参照画像とを比較して欠陥を検出するパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁

The system is provided with a centralized monitoring center 2; and a centralized metering device 1 which is connected to the center 2 via a telephone line and to which a plurality of meters (exemplified by a water meter 3) for making a call when a short-circuit or opening of the communication line is detected by a predetermined pattern.例文帳に追加

集中検針システムは、集中監視センタ２と、集中監視センタ２に電話回線を介して接続され、且つ予め決められたパターンで通信線の短絡、開放を検知すると発呼を行う通信機能付きメータ（水道メータ３で例示）が通信線によって複数接続された集中検針装置１とを備える。 - 特許庁

The data transmitting device of the receiving side transmits a "restart-channel" message to the data transmitting device of the transmitting side (S8) when the data of the prescribed pattern received through the excluded line is determined to be normal (S7), and the data transmitting device of the transmitting side adds the excluded line to the target of the multilink communication (S9).例文帳に追加

受信側のデータ伝送装置は、除外された回線を介して受信される所定パターンのデータが正常であると判定した場合（Ｓ７）に“Restart-Channel”メッセージを送信側のデータ伝送装置宛に送信し（Ｓ８）、送信側のデータ伝送装置は、除外した回線をマルチリンク通信の対象に付加する（Ｓ９）。 - 特許庁

At a failure variation stop timing t_4, a performance symbol indicating a failure is displayed on a valid line in the middle-stage variation row, and at a win variation stop timing t_6, a restart symbol is set for every special variation pattern so that the performance symbol indicating a win is displayed on the valid line on the middle-stage variation row.例文帳に追加

外れ変動停止タイミングｔ_４においては、中段変動行には外れを示す演出図柄が有効ライン上に表示され、当たり変動停止タイミングｔ_６においては、中段変動行に当たりを示す演出図柄が有効ライン上に表示されるように再開図柄が特殊変動パターンごとに設定される。 - 特許庁

Even if all the games result in failure, if a ready for winning state is formed on a diagonal line across the display part 35, contents of the display of the display part 35 is varied and then one pattern is displayed in a suspended state, and if patterns of the same kind are arranged on the diagonal line, a special prize is provided.例文帳に追加

それらの実行結果がすべて外れに終わった場合でも、補助可変表示部３５を挟む対角ライン上にリーチ状態が形成されているときには、補助可変表示部３５の表示内容を変動させた後、一の図柄を停止表示し、対角ライン上に同じ図柄が揃うと特賞を発生させる。 - 特許庁

Namely, the analysis part 11 performs a process for putting pieces of attribute information on respective retrieval object words together into one line by using a repetition pattern since the format of attribute information on a retrieval object appears repeatedly in the retrieval result at a one-object one-line constitution part.例文帳に追加

すなわち、検索結果解析部11では、入力された検索結果が一対象一行化部において、検索対象に関する属性情報の書式は検索結果の中で繰り返し出現するので、この繰り返しパタンを用いて、各検索対象語との属性情報を一行にまとめる処理を行う。 - 特許庁

If the focus plane is not present within the focus tolerance ΔF, factors such as a line width, a line figure and a space between lines are corrected in a portion of a design pattern corresponding to the specified portion and in a portion where the focus plane is out of the focus tolerance ΔF, so as to increase the focus tolerance ΔF.例文帳に追加

フォーカス面がフォーカス裕度ΔＦ内に入っていなかった場合には、フォーカス裕度ΔＦが増加するように、設計パターンのうち特定部分に対応する部分であって、かつフォーカス面がフォーカス裕度ΔＦ内に入らなかった部分の配線幅や、配線形状、配線間のスペースなどを修正する。 - 特許庁

If a structure making the axial line C1 of the lance 2 eccentric downwardly with respect to the axial line Cs of the sheath pipe 3 is set, the excessive flow of air under the powder nozzle is suppressed even in a suction state not only to minimize the influence on a coating pattern but also to obtain balance enhancing the removal effect on adhering paint.例文帳に追加

鞘管の軸線Ｃ_Sに対してランスの軸線Ｃ_1を下方に偏心させた構造にすれば、吸引状態にあっても粉体ノズル下部の過剰なエアーの流れが抑制されて塗装パターンへの影響を最小限に抑さえると同時に、付着した塗料除去の効果を向上させるバランスが得られる形態となる。 - 特許庁

The light-receiving part 30 receives and converts the light signal emitted from the optical transmission line into an electrical signal, and a signal decision circuit 18 decides the quality of the optical transmission line, according to the pulse signal outputted from the signal pattern generating circuit 13 and the electrical signal outputted from the light reception part 30.例文帳に追加

受光部３０は、上記光伝送路から出射された光信号を受光して電気信号に変換し、信号判定回路１８が信号パターン発生回路１３から出力されたパルス信号と受光部３０から出力された電気信号とに基づいて上記光伝送路の良否を判定する。 - 特許庁

Viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate stage, the second material gas discharging piping has a point symmetry for the center of the surface of the substrate stage together with the flow aligning means, has a line symmetry for a line through the center, and forms a symmetrical pattern shape for equalizing the flow of the first material gas.例文帳に追加

基板ステージの表面に垂直な方向から見た場合、第２原料ガス放出配管は整流部材とともに、基板ステージの表面の中心に対して点対称を有するとともに、中心を通る線に対して線対称を有し、第１原料ガスの流れを均一にする対称パターン形状をなす。 - 特許庁

After a word line WL functioning as a gate electrode of a selection MISFET in a DRAM is formed on the main surface of a semiconductor substrate, a plug (to be formed on a connection plug BP and a pattern SNCT) is formed to be connected with the source/drain of an MISFET is formed on an insulating film covering the word line WL.例文帳に追加

半導体基板の主面上にＤＲＡＭの選択ＭＩＳＦＥＴのゲート電極として機能するワード線ＷＬを形成した後、ワード線ＷＬを覆う絶縁膜にＭＩＳＦＥＴのソース・ドレインとと接続するプラグ（接続プラグＢＰおよびパターンＳＮＣＴに形成されるプラグ）を形成する。 - 特許庁

Since each dot is shifted alternately in the x direction and the y direction in a dot pattern where adjacent information dots on an imaginary lattice line are arranged to be shifted alternately in the x direction and the y direction, every other information dots are arranged on an identical lattice line without fail.例文帳に追加

仮想的な格子線上において隣接する情報ドット毎にｘ方向、ｙ方向へのずれを交互に生じるように配置したドットパターンとすることにより、ドット毎にｘ方向、ｙ方向へのずれが交互に生じているため、１個おきの情報ドットは必ず同一の格子線上に配置されることになる。 - 特許庁

By delivering ink from a plurality of nozzles moving in the moving direction to form dot lines in line regions along the moving direction, a pattern constituted of a plurality of the dot lines formed in a plurality of the line regions arranged in the direction intersecting the moving direction is formed on a medium by a specified resolution.例文帳に追加

本発明では、移動方向に移動する複数のノズルからインクを吐出して移動方向に沿う列領域にドット列を形成することにより、前記移動方向と交差する方向に並ぶ複数の前記列領域に形成された複数の前記ドット列から構成されるパターンを所定解像度で媒体に形成する。 - 特許庁

A rectangular pattern 50 with a central perpendicular grid line 51 passing through the geometrical center 55 thereof, right and left perpendicular grid lines 52, a central horizontal grid line 53 and top and bottom horizontal grid lines 54 is provided so that the geometrical center 55 coincides with a gaze point through eyeglass lenses 10.例文帳に追加

矩形模様５０であって、その幾何学的中心５５を通る中心の垂直格子線５１および左右の垂直格子線５２と、中心の水平格子線５３および上下の水平格子線５４とを備えた矩形模様５０を、眼鏡用レンズ１０を通して、幾何学的中心５５が注視点に一致するように設ける。 - 特許庁

A word line WL which functions as the gate electrode of the selective MISFET of a DRAM is made on the main surface of a semiconductor substrate, and then, plugs (a connecting plug BP and a plug made in a pattern SNCT) to be connected with the source and drain regions of the MISFET are made in the insulating film covering the word line WL.例文帳に追加

半導体基板の主面上にＤＲＡＭの選択ＭＩＳＦＥＴのゲート電極として機能するワード線ＷＬを形成した後、ワード線ＷＬを覆う絶縁膜にＭＩＳＦＥＴのソース、ドレイン領域と接続するプラグ（接続プラグＢＰおよびパターンＳＮＣＴに形成されるプラグ）を形成する。 - 特許庁

The pattern 62 is formed on the subfield 42 and has a line width L selected, so that the line width L/space width becomes S≤1, 1/2, and 1/4 for L larger than 500 nm, L in the range of 400 nm to 500 nm, and L less smaller than 400 nm, respectively.例文帳に追加

実デバイスパターン６２はサブフィールド４２に形成され、線幅が５００ｎｍを越えるパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１、線幅が４００ｎｍ〜５００ｎｍのパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／２、線幅が４００ｎｍ未満のパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／４であるデバイスパターンとする。 - 特許庁

Then, the exuding portion of the sealing material from the seal chip pattern 2-6A does not cross the splitting line 2-8 of the counter substrate and, therefore, the splitting stress is liable to be applied evenly on the splitting line 2-8 and eventually, the splitting property is improved and the splitting defects in the splitting process may be decreased.例文帳に追加

したがって、シールチップパターン２−６Ａからのシール材の浸み出し部分が対向基板の割断ライン２−８を横切らないため、割断応力は割断ライン２−８上に均等にかかり易くなり、その結果割断性は向上し、割断工程における割断不良を減少することが可能となる。 - 特許庁

In a charged particle beam system for measuring the line width or the like of a pattern formed on a sample based on secondary electrons emitted from a sample by scanning on the sample with a charged particle beam, interval of the scanning line of the charged particle beam is set not to exceed an irradiation density determined based on the physical properties of the sample.例文帳に追加

荷電粒子線を試料上で走査し、試料より放出された二次電子に基づいて、試料上に形成されたパターン等の線幅等を測長する荷電粒子線装置において、試料の物性に基づいて決定される照射密度を上回らないように前記荷電粒子線の走査線間隔を設定する。 - 特許庁

A semiconductor wafer before a dicing comprises a silicon substrate 50 with its surface divided into a element forming region 42 and a scribing line region 43, with a passivation film 55 and a polyimide film 56 covering the element forming region 42, and with the accessary pattern 53 comprising a top layer interconnection layer 52 exposing to the scribing line region 43.例文帳に追加

ダイシング前の半導体ウェーハは、シリコン基板５０上が素子形成領域４２とスクライブ線領域４３とに分けられ、パッシベーション膜５５及びポリイミド膜５６が素子形成領域４２を覆い、最上層配線層５２からなるアクセサリパターン５３がスクライブ線領域４３に露出しているものである。 - 特許庁

To provide a method by which such a printed wiring board can be manufactured that fine irregularities can be formed easily on the surface of a circuit through a simple step and, even when a fine pattern having narrow line widths and line intervals is formed, the deficit, such as the edge chipping, etc., of the circuit can be suppressed.例文帳に追加

回路の表面に簡易な工程にて容易に微細な凹凸を形成することができ、更に、ライン幅及びライン間隔が狭いファインパターンを形成する場合であっても、回路の表面に凹凸を形成するにあたり、回路の角落ち等の欠損を抑制することができるプリント配線板の製造方法を提供する - 特許庁

The spiral inductor includes a tabular insulating substrate and the spiral conductive patterns formed at least on one surface of a tabular insulating substrate, and the spiral conductive pattern is formed in such a manner that the width of the line differs along the longitudinal direction of the conductive line forming the spiral.例文帳に追加

本発明は、平板形状の絶縁基板と、上記絶縁基板の少なくとも一面に形成されるスパイラル形態の導電パターンを含み、上記導電パターンはスパイラルを成す導線の長さ方向に従って線幅が異なるように形成されることを特徴とするスパイラルインダクタを提供する。 - 特許庁

In a communication system wherein a first communication device 10 and a second communication device 20 perform communication through an optical transmission line 30 with feeble light as a medium, the first communication device 10 divides transmission data by frame of a fixed length and transmits them to the optical transmission line together with a frame pattern provided on a fixed position of each frame.例文帳に追加

微弱強度の光を媒体として第一通信装置１０と第二通信装置２０とが光伝送路３０を介して通信を行う通信システムにおいて、第一通信装置１０は、固定長のフレームごとに送信データを分割し、各フレームの固定位置に設けられたフレームパタンとともに光伝送路へ送信する。 - 特許庁

In branch point detection processing that finds a branch point of a line element within an original image 15a including an irregular linear pattern composed of linear elements of an irregular shape, a binarized image 15b is obtained from the original image 15a, and padding processing that eliminates noises in the line element is subsequently performed to obtain a padding image 15c.例文帳に追加

不規則形状の線要素より構成される不規則線状パターンを含む原画像１５ａ内の線要素の分岐点を求める分岐点検出処理において、原画像１５ａより２値化画像１５ｂを得た後に線要素内の野路図を除去する穴埋め処理を行って穴埋め画像１５ｃを得る。 - 特許庁

Thereby, a low beam light distribution pattern P is formed such that a horizontal cutoff line CL1 on the oncoming lane side formed by reflected light from its own lane side reflective area 20aR is lowered relatively to a horizontal cutoff line CL2 on its own lane side formed by reflected light from an oncoming lane reflective area 20aL.例文帳に追加

これにより、対向車線反射領域２０ａＬからの反射光により形成される自車線側の水平カットオフラインＣＬ２に対して、自車線側反射領域２０ａＲからの反射光により形成される対向車線側の水平カットオフラインＣＬ１が段下がりとなったロービーム配光パターンＰを得る。 - 特許庁

This spacer forming method consists of continuously forming the columnar film spacer patterns 2-1 in the outer peripheral part on the counter substrate splitting line 2-8 of a seal chip pattern 2-6A so as to form partition walls of exuding of a sealing material to the counter substrate splitting line 2-8 when forming the columnar film spacer patterns between the array substrate and the counter substrate.例文帳に追加

アレイ基板と対向基板間に柱状膜スペーサパターンを形成する際に、柱状膜スペーサパターン部２−１を、シールチップパターン２−６Ａの対向基板割断ライン２−８側外周部に連続形成し、シール材の対向基板割断ライン２−８への浸み出しの障壁となるような配置にする。 - 特許庁

A land 112 to connect a connection pin 110 of an RJ 45 connector 102 and a land 116 for connection of a connection pin 114 of a transmission line connector 106 are formed on the transmission line pattern 108 and connection pins 110, 114 are connected to the lands respectively by soldering.例文帳に追加

伝送線路パターン１０８上には、ＲＪ４５コネクタ１０２の接続ピン１１０を接続するためのランド１１２や伝送線路接続用コネクタ１０６の接続ピン１１４を接続するためのランド１１６が形成されており、これに接続ピン１１０、１１４が半田付けなどにより各々接続されている。 - 特許庁

An effective line display means 40 is provided for displaying a straight or diagonal effective line while overlapping it on a picture of a variable display means 30 and a picture pattern matching game executing means 110 displays respective picture patterns on the variable display means 30 while fluctuating them for a prescribed period and successively stops them later.例文帳に追加

有効ライン表示手段４０は、可変表示手段３０の画面上に重ねて直線又は折れ線状の有効ラインを表示するものであり、図柄合わせゲーム実行手段１１０は、可変表示手段３０上の各図柄を所定期間にわたって変動表示した後にこれらを順次停止表示する。 - 特許庁

To solve the problem that a surface of a created object is shaved and damaged by using a ruler for positioning in case of drawing a design or a geometrical pattern using a vertical line or a tilting line on a surface of a spherical created object having different diameters between upper and lower positions or concave and convex portions, the created object being made with a pottery's wheel.例文帳に追加

陶芸ロクロで創作する上下位置で直径が異なったり、凹凸があるなど球面体をなす創作物の表面に鉛直線や傾斜線を利用した図案や幾何学模様などを描画するときの位置決めに定規を使用して、創作物の表面を削り取って、損傷させる。 - 特許庁

To provide a device attaching a material to be attached (a material to be loaded) into an extremely fine (acute) dot or line on an electrophoresis gel so as to provide an electrophoresis pattern of high resolution in an electrophoresis method.例文帳に追加

電気泳動法において、高い解像度の電気泳動パターンを得るために、被着物（被点着物）を、きわめて細かい（鋭い）点状もしくは線状に、特に電気泳動ゲル上に被着せしめることができる装置を提供すること。 - 特許庁

The position on the mask is heated at each line strength by an irradiation projector containing a radiation device 300 located outside a lithography beam path, and the heating of the masks generates a distortion in a mask pattern by local thermal expansion.例文帳に追加

マスク上の位置はリソグラフィービーム経路の外に配置された放射線装置３００を含む照射投光器によりそれぞれの線強度で加熱され、マスクの加熱は局部熱膨張によりマスクパターンに歪みを発生する。 - 特許庁

To provide a technology whereby a user can freely control contents and a communication pattern of a message intended by the user for a message exchange in a star form network comprising a plurality of nodes and the message exchange being a line concentrator.例文帳に追加

複数ノードと集線装置であるメッセージ交換装置から構成されるスター型のネットワークにおいて、ユーザが意図したメッセージについて、その内容や通信パターンをメッセージ交換装置に対して自在に操作できるようにする。 - 特許庁

In such a constitution, the patterns of respective bit line contact hole are provided in each cross pattern, so that the interval between the contact holes may be shortened for increasing the integrating density of element also forming relatively large contact holes.例文帳に追加

各クロスパターン中にそれぞれビット線コンタクトホールおよびキャパシタコンタクトホールのパターンを備えることで、コンタクトホール間の間隔を縮小して素子の集積密度を向上させるとともに、比較的大きなコンタクトホールを形成する。 - 特許庁