「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

A loop 1 wherein the ringing noise of the switching power source is transmitted, is determined, a print pattern p10 with which parasitic inductance and parasitic capacitance can be enlarged, is determined within the loop 1 and its line inductance is controlled.例文帳に追加

スイッチング電源のリンギングノイズが伝達するループ１を決定し、そのループ１の中で、寄生インダクタンスおよび寄生キャパシタンスを大きくできるプリントパターンｐ１０を決定し、そのラインインダクタンスを調整する。 - 特許庁

To reduce defective display caused by rounding of a signal waveform when a common electrode on a counter substrate is formed to have a long-size pattern and dot inversion driving and line inversion driving are performed.例文帳に追加

対向基板上の共通電極を長尺状のパターンに形成して、ドット反転駆動やライン反転駆動を行う際の信号波形のなまりによる表示上の不具合を低減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor testing apparatus capable of facilitating the measurement of pattern execution time performed for shortening test time and performing off-line measurement through the use of a simulator and to provide the simulator.例文帳に追加

テスト時間を短縮するために行うパターン実行時間の計測を、従来より容易に計測でき、更にシミュレータを用いてオフラインでも計測できる半導体試験装置及びそのシミュレータを提供する。 - 特許庁

Thereafter, the transporting part 2 is transferred in the straight line direction, and the material 1 to be coated is passed through a pattern hole 3 of a similar figure a little larger than the cross section in the direction crossing vertical to the transporting direction.例文帳に追加

その後、搬送部２を直線方向に搬送して被塗装物１を、搬送方向と直交する方向の断面より僅かに大きく形成されている相似形の型孔３に通す。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which ensures small surface roughness and line edge roughness during etching and has excellent resolution and a wide focal-depth range, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Continually, until a hook switch 24 is turned on (S8: YES) or a caller disconnects the line (S10: YES), the ringer pattern is rung repeatedly by prescribed number of times in order (S7).例文帳に追加

続いて、フックスイッチ２４がＯＮになるか（Ｓ８：ＹＥＳ）、若しくは、発信者が回線を切断する（Ｓ１０：ＹＥＳ）まで、前記鳴動パターンを順番に所定回数ずつ、繰り返し鳴動する（Ｓ７）。 - 特許庁

Since a heat dissipating fin 27 is connected, not to the output side of a power supply but rather only to one point of the ground pattern 22 in the vicinity of an input line, the harmonic current will not flow into the heat dissipating fin 27.例文帳に追加

このとき、放熱フィン27は電源装置の出力側ではなく、入力ライン近傍にあるグランドパターン22の一点にのみ接続されるため、高調波電流は放熱フィン27に流れ込まない。 - 特許庁

A loop-shaped sealing ring 60 is arranged in scribe-line regions, and a part of a p-type semiconductor region 35, included in the sealing ring 60, extends to a layout pattern region lying in the inside of the chip.例文帳に追加

スクライブライン領域に環状のシールリング６０が設けられており、シールリング６０に含まれるｐ型半導体領域３５の一部がチップの内側のレイアウトパターン領域にまで延在している。 - 特許庁

When a straight line stitch is selected (S12: Yes) during selection of a stitch pattern by a worker (S11), the position of the needle insertion point is set, and a sewing needle moves to the set needle insertion position (S13).例文帳に追加

作業者により縫目模様が選択されたときに（Ｓ11）、直線縫目が選択された場合（Ｓ12：Yes ）、縫針の針落ち点の位置が設定され、縫針がその設定された針落ち点の位置に移動する（Ｓ13）。 - 特許庁

(1) An emission angle at which the intensity of 50% with respect to the emission intensity at emission angle 0° is obtained in a plane vertical to the longitudinal direction of the rugged pattern of line shapes falls into the range of 15 to 25°.例文帳に追加

（１）ライン形状の凹凸パターンの長手方向に垂直な面内で、出射角度０°の出射強度に対して５０％の強度となる出射角度が１５〜２５°の範囲である。 - 特許庁

Thereby, an amount of light irradiated to the vicinity of the horizontal cutoff line part is cut down, and luminous intensity in the center of the front of the light fixture in the light distribution pattern for the high beam is enhanced.例文帳に追加

そしてこれにより、上記水平カットオフライン近傍部分への照射光量を削減するとともに、ハイビーム用配光パターンにおける灯具正面方向の中心光度を高める。 - 特許庁

A tapered pattern 2 has a line segment-shaped base 3 and sides (4 and 5) made to expand from both ends of the base 3, and the interval between the sides (4 and 5) becomes narrower as the interval between the sides (4 and 5) is away from the base 3.例文帳に追加

先細りパターン２は、線分状の底辺３と底辺３の両端から延ばされた側辺（４、５）とを有し、側辺（４、５）の間隔は、底辺３から離れるにしたがって狭くなっている。 - 特許庁

To suppress a measuring error caused by a change in the spot position of reflection light occurring when making luminous flux impinge on a fine pattern having line width that is nearly the same as a light source wavelength on an object to be examined.例文帳に追加

被検物上の光源波長と同程度の線幅を持つ微細パターンに光束を入射した場合に生じる、反射光のスポット位置変化に起因する測定誤差を抑制する。 - 特許庁

The light intensity value near the gate edge of the gate pattern is calculated and the dimension shift quantity of the gate line width by a proximity effect is calculated in accordance with the light intensity value in a dimension shift quantity calculating section 605.例文帳に追加

ゲートパタンのゲートエッジ近傍における光強度値を計算し、寸法シフト量計算部６０５で光強度値に基づいて近接効果によるゲート線幅の寸法シフト量を計算する。 - 特許庁

To provide a recording material which overcomes such a shortcoming that the sharpness of a pattern deteriorates due to the blurring phenomenon and fixing failure of an image line and has a gloss in both image part and non-image part.例文帳に追加

画線の滲みや定着不良に基づくパターンの鮮明性が低下するという欠点を克服し、かつ画像部及び非画像部のいずれにおいても光沢を有する記録材料を提供する。 - 特許庁

If the winning symbols are arranged in a prescribed pattern (e.g. along a vertical/horizontal/diagonal line), a united character composed of six united characters is made to appear in place of the disposed six separate characters.例文帳に追加

勝ち手が所定の配置パターン（例えば、縦／横／斜めの一列）に並ぶと、配置されている６体のキャラクタＮＣに代えて、該６体のキャラクタＮＣを合体した合体キャラクタが出現される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition forming a pattern under an i-line, having high resolution, and ensuring small warpage of an Si wafer after curing of the resin, and also to provide a semiconductor device using the same.例文帳に追加

ｉ線でパターン作成が可能かつ高解像度で、樹脂を硬化した後のＳｉウェハの反りが小さいポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置を提供するものである。 - 特許庁

By the above processes, the wiring layer 18 is patterned so that certain isolation is performed while installing the predetermined pattern in the predetermined region 10a which runs along the dicing line DL of the bottom of the opening 10w.例文帳に追加

こうして、所定のパターンを有しつつ、かつ開口部１０ｗの底部のダイシングラインＤＬに沿った所定の領域１０ａで確実に分離するように、配線層１８がパターニングされる。 - 特許庁

Ground patterns 3 are formed on an uppermost layer and a lowermost layer of the circuit board 7 of a module, and a circuit pattern 6 which becomes a transmission line of high frequency is formed on the internal layer of the circuit board 7.例文帳に追加

モジュールの回路基板７における最上層および最下層にグランドパターン３を形成し、回路基板７における内層に高周波の伝送線路となる回路パターン６を形成する。 - 特許庁

The single sound data is reproduced through one sound transmission line while a performance is executed on the basis of a performance control pattern, and is individually made to correspond to each of the plurality of performance control patterns.例文帳に追加

単独音声データは、演出制御パターンに基づいて演出が実行される間に一つの音声伝送路を通じて再生され、複数の演出制御パターンのそれぞれに個別に対応づけられる。 - 特許庁

With respect to the array substrate for an in-plane switching mode liquid crystal display device, a structure which is manufactured through four mask steps and exposes semiconductor layers at both sides of a data line has a first feature that a first blocking pattern for blocking light is formed under the semiconductor layer, and a second feature that a second blocking pattern for blocking an influence of the semiconductor layer is formed over and in contact with the data line.例文帳に追加

本発明による横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板は、４マスク工程によって製作されデータ配線の両側に半導体層が露出する構造において、第１特徴は、半導体層の下部に光を遮断する第１遮断パターンを構成して、第２特徴は、データ配線の上部に、これと接触しながら半導体層による影響を遮断する第２遮断パターンを構成する。 - 特許庁

When a test pattern for confirming the recording characteristics of each recording element is recorded in a serial recorder having a recording head arranged with a plurality of recording elements, a plurality of straight line patterns (patterns 1-10) having a specified length in the scanning direction are recorded by driving three adjacent recording elements in parallel such that all recording elements are used for recording at least one straight line pattern.例文帳に追加

複数の記録素子が配列された記録ヘッドを有するシリアル型の記録装置において、各記録素子の記録特性を確認するためのテストパターンを記録する際に、隣接する３つの記録素子を並列に駆動して走査方向に所定の長さを有する直線パターン（パターン１〜パターン１０）を、全ての記録素子が少なくとも１つの直線パターンの記録に使用されるように、複数記録する。 - 特許庁

The first through 8th emitters 18a through 18h are arranged in such a manner as squarely surrounding a viewing window for looking at reels, and a winning line report means 140 reports on which effective line the winning pattern can be arranged to the player, when the game state entered winning-possible state that key pushing is possible, by lighting emitting part disposed at both ends of the effective line.例文帳に追加

リールを見るための観察窓の周囲を四角く取り囲むように第１から第８の発光部１８ａ〜１８ｈを配置し、当選ライン通知手段１４０は、遊技状態が目押しの可能な当選可能状態に入ったとき、当選パターンがどの有効ライン上に揃い得るかをその有効ラインの両端部に配置されている発光部を点灯することで遊技者に通知する。 - 特許庁

Thereby, polarities of the compensation voltage given to pixel electrodes from the storage capacitance line 12 via the storage capacitances 2 can be reversed every plural pieces in a scanning line direction, potentials of the pixel electrodes can be reversed every plural pieces in the scanning line direction and the hatch pattern is also made not to be biased between the case when the polarity of the pixel electrodes is positive and the case when the polarity thereof is negative.例文帳に追加

これにより、蓄積容量線１２から蓄積容量２を介して画素電極に与えられる補償電圧の極性を走査線方向について複数個毎に反転させ、走査線方向について画素電極の電位を複数個毎に反転させることを可能とし、ハッチパターンに対しても、画素電極の極性が正と負で偏ることがないようにする。 - 特許庁

A guard pattern 25 to which a specific voltage is applied is arranged between a signal line 5 which is connected to the output electrode part PS of a PMOS transistor 30P and a gate wire 24PG which is arranged in parallel to the signal line 5, connected to a column selection line 24, and connected to the gate PG of the PMOS transistor 30 through contacts PGC1 and PGC2.例文帳に追加

ＰＭＯＳトランジスタ３０Ｐの出力電極部ＰＳと接続する信号線５と、前記信号線５に平行して配置してあり、列選択線２４に接続しており、前記ＰＭＯＳトランジスタ３０の前記ゲートＰＧとコンタクトＰＧＣ１，ＰＧＣ２を介して接続するゲート配線２４ＰＧとの間に、所定の電圧を印加したガードパターン２５を配置した。 - 特許庁

The micro strip line 21 consists of a conductive pattern 23 for mounting and connecting the tip part of the central contact of the conductor 11, a dielectric substrate 25 for forming the pattern 23 on one surface and a grand plane formed on a surface opposite to the substrate 25 to be connected to a cylindrical outer conductor 13.例文帳に追加

マイクロストリップライン２１は、中心導体１１の中心コンタクトの先端部を搭載し接続する導電パターン２３、導電パターン２３を一面に形成する誘電体基板２５、および誘電体基板２５の反対面に形成され筒状外部導体１３に接続されるグランドプレーンから成る。 - 特許庁

In a cut-off region (10) between the perimeter edge portion and the annular perimeter line of the plurality of printed wiring boards, a wiring pattern recognition mark (4) to specify the position of the wiring pattern when the electronic components (6) are mounted, and a through-hole recognition mark (5) to specify the position of the through-hole are formed at different positions.例文帳に追加

外周縁部と複数のプリント配線板による環状の外周ラインとの間の切断除去領域（１０）には、電子部品（６）を実装する際に配線パターンの位置を特定するための配線パターン認識マーク（４）と、上記スルーホールの位置を特定するスルーホール認識マーク（５）とを異なる位置に形成した。 - 特許庁

In this diagnostic device 10 for the LSI tester, a pattern data is passed through pipe line regulation circuits 23, 27 that are various kinds of function circuits, and a timing generator 28, a clock number counter 1 stops a system clock at timing when the pattern data is held in flip-flops 23a, 27a, 28a in insides thereof, and stops the whole of the LSI tester 20.例文帳に追加

ＬＳＩテスタの診断装置１０は、パターンデータが各種の機能回路であるパイプライン調整回路２３，２７、タイミングジェネレータ２８を通過し、これらの内部のフリップフロップ２３ａ，２７ａ，２８ａにパターンデータが保持されたタイミングで、クロック数カウンタ１がシステムクロックを停止させ、ＬＳＩテスタ２０の全体を停止させる。 - 特許庁

A recess 117 is formed on a bottom surface 112 at the side of a second side 114 in the substrate 110, and air having low permittivity is interposed between the first radiation conductor 123 and the third edge line 220c of the ground pattern, thus further suppressing deterioration in antenna characteristics caused by the influence of the grand pattern.例文帳に追加

また、基体１１０の第２の側面１１４側の底面１１２には凹部１１７が形成されており、第１の放射導体１２３とグランドパターンの第３のエッジライン２２０ｃとの間に低誘電率の空気が介在することから、グランドパターンの影響によるアンテナ特性の劣化はさらに抑制される。 - 特許庁

A residual image and a light leakage phenomenon occurring in the vicinity of an upper side horizontal edge of the transmissive window are removed by forming a second light shielding pattern floated from the source line and overlapping a partial region of a boundary region of the transmissive window equipped on a unit pixel with the second light shielding pattern.例文帳に追加

ソースラインからフローティングされた第２光遮断パターンを形成し、単位ピクセルに具備される透過窓の境界領域を第２光遮断パターンと一部領域を重ね合わせることで、透過窓の上側水平辺近傍で発生される残像や光漏洩現象を除去することができる。 - 特許庁

And the optical axis of the test pattern irradiating part 21 is made un-parallel to a straight line orthogonal to the light receiving surface of the imaging element 28, and the optical axis of the part 21 is inclined so that the axis may pass from one of boundary lines constituting the viewing angle θ_1 of the imaging element 28 to the other as the laser light 25a of the test pattern goes ahead.例文帳に追加

そして、テストパターン照射部２１の光軸は、撮像素子２８の受光面に直交する直線に対して非平行にされ、テストパターンのレーザー光２５ａが進むに従って撮像素子２８の画角θ_１をなす一方の境界線から他方の境界線に通過するように傾斜される。 - 特許庁

In the fine line drawing method, a fine pattern is formed on a substrate by prior drawing of flying and adhering a fine fluid composed of a material capable of generating electric field concentration to the substrate with the use of an electric field, and subsequently, main drawing of flying and adhering a fine fluid onto the fine pattern with the use of an electric field is carried out.例文帳に追加

電界を用いて、電界集中を起こすことが可能な材料からなる微細流体を基板へ飛翔付着させる先描画によって基板上に微細パターンを形成し、続いて、該微細パターン上に、電界を用いて、微細流体を飛翔付着させる本描写を行う微細線描写方法。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device where an active area 100 is bent at right angles, a pattern gap L between the active area 100 and a gate 200 is made larger than the arc radius RL of a bend R (portion where a line becomes circular) inside the pattern of the bent active area 100.例文帳に追加

アクティブ領域１００が直角に曲折している半導体装置において，アクティブ領域１００とゲート２００とのパターン間隔Ｌは，曲折したアクティブ領域１００のパターン内側の湾曲部Ｒ（ラインが円弧状となった部分）の円弧半径ＲＬより大きくすることを特徴としている。 - 特許庁

To obtain a radiation sensitive resin composition effectively sensitive to various radiations, having high sensitivity, also having satisfactory resolution and focus latitude in various patterns including dense lines, isolated lines and contact holes, particularly in a line pattern and capable of forming a minute pattern with low surface roughness.例文帳に追加

各種の放射線に有効に感応し、高感度であり、かつ密集ライン、孤立ライン、コンタクトホール等を含む種々のパターンで、とりわけライン系パターンにおいて、十分な解像度とフォーカス余裕度を有し、さらに膜面荒れの小さい微細パターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor light-emitting device for making in an ideal linear shape a cut-off line of a light distribution pattern with a projection image of an edge by linearly forming an outer periphery edge of a light-emitting face of the device, and hence, is capable of forming a given light distribution pattern in an ideal shape.例文帳に追加

半導体発光装置の光出射面の外周端（エッジ）を直線状に形成することにより該エッジの投影像で形成される配光パターンのカットオフラインを理想的な直線状とし、よって所望の配光パターンを理想的な形状に形成することが可能な半導体発光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁

To provide an exposure mask, which includes a plurality of mask portions for forming wiring lines, the mask portions arranged parallel to one another and each having a width equal to or less than the minimum line width dimension determined by the resolution of an exposure apparatus, and which can give a wiring pattern made of a resist material having the same height while preventing the pattern from partially thinning.例文帳に追加

露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成されているレジスト材料からなる配線パターンを部分的に細くならないように同一の高さに形成することができる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

The steel plate is electrically heated by controlling the output of the electric energy to match the stored output pattern, the voltage value and the current value are measured, and, if they are different from the actual voltage and the actual current stored in the output pattern storage device, a heating error is confirmed and the steel plate is rejected out of a production line.例文帳に追加

この保存した出力パターンとなるように電気エネルギの出力を制御して鋼板の通電加熱を行うとともに、電圧値、電流値を測定して、これらが前記出力パターン記憶装置に保存した実績電圧、実績電流と異なる場合は加熱エラーと判定して鋼板をライン外へリジェクトする。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material with a pattern line width further miniaturized to prevent moire even if a contrast improving layer is also used when the material is used for a front filter for display where electric resistance is low irrespective of the miniaturization and permeability is prevented from being deteriorated due to the scumming of a pattern opening.例文帳に追加

ディスプレイ用前面フィルタに用いるときにコントラスト向上層を併用してもモアレが出ないよう、パターンの線幅をより一層微細化した電磁波シールド材であって、そのように細線化しても低い電気抵抗であり、かつパターン開口部の地汚れによる透過率の低下がない電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加

高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a lamp unit 20 of a projector type to form an additional light distribution pattern, a vertical cut-off line is formed in the additional light distribution pattern by shielding a part of an irradiating light from three reflector units 40C, 40L, 40R horizontally arranged, by a shade 28 movable horizontally.例文帳に追加

付加配光パターンを形成するためのプロジェクタ型の灯具ユニット２０において、左右方向に移動可能なシェード２８により、左右方向に配置された３つのリフレクタユニット４０Ｃ、４０Ｌ、４０Ｒからの照射光の一部を遮蔽して、付加配光パターンに鉛直カットオフラインを形成する構成とする。 - 特許庁

In a light emitting module, a plurality of LED chips 12 are arranged in a line on a support substrate 11, and a first wiring pattern 14 and a second wiring pattern 15 having a first feeding terminal 14c and a second feeding terminal 15c, respectively, are provided, wherein each of the first and second feeding terminals is provided at a center in the longitudinal direction of the support substrate 11.例文帳に追加

支持基板１１上に、複数のＬＥＤチップ１２が１列に配列されるとともに、支持基板１１の長手方向中央部にそれぞれ設けられた第１給電端子１４ｃおよび第２給電端子１５ｃをそれぞれ有する第１配線パターン１４および第２配線パターン１５が設けられている。 - 特許庁

The radiographic apparatus includes: a Fourier transformation part 27 performing one-dimensional Fourier transformation to a line perpendicular to stripes of a moire pattern projected on an X-ray image; and a peak frequency detecting part 29 detecting a peak frequency that indicates a spatial frequency of the moire pattern from the result of the one-dimensional Fourier transformation.例文帳に追加

Ｘ線撮影装置において、フーリエ変換部２７は、Ｘ線画像に写りこんだモアレパターンの縞目と直交するラインに１次元のフーリエ変換を行い、ピーク周波数検出部２９は、１次元のフーリエ変換の結果からモアレパターンの空間周波数を示すピーク周波数を検出する。 - 特許庁

To enable to secure sufficient brightness at the portion near the lower part of a cut-off line in the right and left diffusion area of a low-beam light distribution pattern, even when a light source is arranged at the position separated from an optical axis downward in a vehicle headlamp of projection type constituted so as to form the low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、光源が光軸から下方に離れた位置に配置されている場合であっても、ロービーム用配光パターンの左右拡散領域におけるカットオフラインの下方近傍部分の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁