「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

When the resist is actually exposed and developed and lithography with its resist pattern as an etching mask is performed, the quantity of light or design image data is corrected on the basis of the obtained correction data, so that a desired finished line width can be achieved even for the resist pattern having a small taper angle.例文帳に追加

実際にレジストを露光、現像して、そのレジストパターンをエッチングマスクとしたリソグラフィを行う際に、先に求めた補正データに基いて光量を補正又は設計画像データを修正することで、小さなテーパー角を有するレジストパターンであっても、所望の仕上り線幅を実現することができる。 - 特許庁

After the patterns have been read, the range of pattern recording is cut out based on an X-direction end position of a rectangular pattern forming the line 206A of patterns, and nozzles that are not in the state of discharging are detected and specified according to the number of patterns 202 in the range cut out and to the positions of unrecorded patterns 202.例文帳に追加

これらのパターンを読み取った後、パターン列206Aを構成する矩形状パターンにおけるＸ方向端部位置を基準としてパターン記録範囲を切り出し、切り出した範囲内におけるパターン202の数及び未記録のパターン202の位置により、不吐出状態のノズルの検出・特定を行う。 - 特許庁

The capacitor of such a non-contact type IC card can be manufactured by simultaneously forming a fine line capacitor pattern, the coil 13 and antenna coil connection terminals 141 and 142 on an antenna substrate 121A, covering the capacitor pattern with an insulating layer and further providing a conductive plate.例文帳に追加

このような非接触型ＩＣカードのコンデンサは、アンテナ基板１２１Ａに細線のコンデンサパターンとアンテナコイル１３とアンテナコイル接続端子１４１，１４２を同時に形成し、コンデンサパターンを絶縁層で被覆し導電プレートをさらに設けることにより製造することができる。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition to be used for a reflow or resist peeling process during the back-end-of-line in a semiconductor manufacturing process, and to provide a method for producing a cured relief pattern by using the composition, the pattern having sufficient durability against a flux or a solvent and having no angular portion in a side wall feature.例文帳に追加

半導体後工程のリフロー又は及びレジスト剥離工程において使用される新規感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いたフラックスや溶剤に対して充分な耐性を持ちかつ側壁形状に角のない硬化レリーフパターンの製造方法の提供。 - 特許庁

The pattern design of the high frequency line 21 becomes possible so that the center contact 33 of the high frequency coaxial connector 3 may be connected at an arbitral position in the inside of the one face of the printed-circuit board, and the superior pattern design of the high frequency characteristics becomes possible in the printed-circuit board 2.例文帳に追加

プリント基板２の上記一面における面内の任意の位置で高周波同軸コネクタ３の中心コンタクト３３を接続するように高周波ライン２１のパターン設計が可能となり、プリント基板２において高周波特性の良好なパターン設計が可能となる。 - 特許庁

The pattern 22 has a plurality of straight line parts 22a arranged in parallel at a prescribed inclination angle θ to two sides 21a and 21a of a rectangle, and a plurality of folded parts 22b where both ends in a length direction of the adjacent straight line parts 22a are connected with each other.例文帳に追加

パターン２２は、矩形の二辺２１ａ、２１ａに対して所定の傾斜角θをもって平行に配置された複数の直線部分２２ａ、及び隣接する直線部分２２ａの長さ方向両端部を交互に接続した複数の折り返し部分２２ｂを有する。 - 特許庁

This whole hole 12 is arranged on the side inner than the straight line regulated by the side edge of the film 14, and one part of the whole hole 12 is arranged on the side inner than the straight line (x) regulated by the edge of the wiring pattern nearest to the side edge of the film 14.例文帳に追加

この穴１２は、その全体が、ベースフィルム１４の側縁部によって規定される直線よりも内側に配置され、その一部が上記ベースフィルム１４の側縁部に最も近い配線パターンの縁によって規定される直線ｘよりも内側に配置されている。 - 特許庁

To provide a vehicular lighting fixture capable of forming a light-distributing pattern with a clear cutoff line without using a shade and generating spectrum colors, wherein light from a light source having an edge extending in a linear line is reflected with first and second reflectors in sequence.例文帳に追加

直線状に延びるエッジを有する光源からの光を、第１および第２リフレクタで順次反射させる構成の車両用照明灯具において、シェードを用いることなく、かつ分光色を生じさせることなく、鮮明なカットオフラインを有する配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

A photodiode chip 2, having a backside incident photodiode and a photodiode top transmission line 8 and a planar antenna chip 10, having an antenna pattern 16 and an antenna chip to transmission line 18, are counterpoised and connected by flip-chip bonding.例文帳に追加

裏面入射型フォトダイオード及びフォトダイオード上伝送路８を形成したフォトダイオードチップ２と、アンテナパタン１６及びアンテナチップ上伝送路１８を形成した平面アンテナチップ１０とを、フォトダイオード上伝送路８とアンテナチップ上伝送路１８を向かい合わせて、フリップチップボンディングで接続する。 - 特許庁

The semiconductor device which restrains noise in circuit operation and is excellent in performance while preventing an increase of a chip area are provided by forming a capacity electrode 26, by connecting only a dummy pattern to a power supply line 23 and a ground line 24 of a circuit 22 which carries out high frequency operation.例文帳に追加

高周波動作する回路２２の電源線２３及びグランド線２４だけにダミーパターンを接続して容量電極２６とすることにより、チップ面積の増大を防ぎながら、回路動作時のノイズを抑制し、優れた性能を有する半導体装置を提供できる。 - 特許庁

To provide a positive type resist laminate having high resolving power in exposure with light in the far ultraviolet region, giving a resist pattern with little line wave in the case of a time line/space of ≤0.2 μm, nearly free of development defects and having high suitability to production.例文帳に追加

遠紫外領域の露光に対応して高い解像力を有し、しかも０．２μｍ以下の微細なライン／スペースにおいて、ラインうねりの少ないレジストパターンを与え、現像欠陥の発生量が少なく、高い製造適性を有するポジ型レジスト積層物を提供すること。 - 特許庁

An index label for adjusting the optical axis, having an index pattern in the figure, is prepared, a linear visual field F of the line sensor is moved to the position of indexes Iz1-1z3 for Z-direction adjustment, and a focus is adjusted so that an output signal corresponding to each line segment is discriminated.例文帳に追加

図示のような指標パターンをもった光軸調整用指標表示体を用意し、ラインセンサの線状視野ＦをＺ方向調整用指標Ｉｚ１〜Ｉｚ３の位置にもってゆき、各線分に対応する出力信号がそれぞれ弁別できるように焦点調整する。 - 特許庁

This input device is provided with: a base layer 4 formed by transparent materials; and a circuit pattern 5 formed on a base layer by a transparent conductive film, and equipped with a sense line 7 for outputting a detection signal corresponding to the change of capacitance and a signal line 8 for inputting a base signal.例文帳に追加

透明材料によって形成されたベース層４と、透明導電膜によってベース層上に形成されると共に静電容量の変化に応じた検出信号を出力するセンス線７とベース信号を入力する信号線８とを有する回路パターン５とを設けた。 - 特許庁

The sensorless brushless motor is provided with a relay 5 that switches a part 3u/3v of a connecting line between a drive control circuit 2 that outputs a commutation pattern and the brushless motor 1, and a part 4u/4v of the connecting line according to the selection of the forward/reverse rotation by a forward/reverse rotation selecting switch 6.例文帳に追加

センサレス型ブラシレスモータにおいて、転流パターンを出力する駆動制御回路２とブラシレスモータ１との接続線の一部３ｕ・３ｖと接続線の一部４ｕ・４ｖを、正逆転選択スイッチ６の正転／逆転選択に応じて切り替えるためのリレー５を設ける。 - 特許庁

The length of the pass-through of one part 105A of a first feeder line 105 and a second feeder line 106 through a radiation section board 101, namely, the thickness of the radiation section board 101, is set at substantially 1/4 of the conduit wavelength λg, and with this structure, superior radiation pattern can be obtained.例文帳に追加

第１の給電線路１０５の一部１０５Ａと第２の給電線路１０６とが放射部基板１０１を貫通する長さ、すなわち放射部基板１０１の厚さを管路波長λｇの略４分の１に設定することにより、良好な放射パターンが得られるように構成している。 - 特許庁

Representatively, the method prepares a first superconductive cable line having no defect in the joint and obtains first correlation of an energization time and temperature increase of the joint when energizing a first direct current continuously having the prescribed energization pattern to the first superconductive cable line.例文帳に追加

代表的には、接続部に欠陥のない第1超電導ケーブル線路を用意し、この第1超電導ケーブル線路に連続的に所定の通電パターンを有する第1直流電流を通電したときの通電時間と接続部の温度上昇との第1相関関係を求める。 - 特許庁

To provide a video signal processor and a video signal processing method for being applied to e.g., a format conversion or the like that effectively avoids production of a striped pattern even when an inter-field line interpolation processing is switched into an in-field line interpolation processing or vice versa depending on a result of motion detection.例文帳に追加

本発明は、ビデオ信号処理装置及びビデオ信号の処理方法に関し、例えばフォーマット変換等に適用して、動き検出によりフィールド間ライン内挿処理、フィールド内ライン内挿処理を切り換える場合において、縞模様の発生を有効に回避することができるようにする。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having improved use efficiency of light, high sensitivity to i-line and h-line rays, showing proper pattern features and proper raw preservability, and to provide a photosensitive film containing the photosensitive composition and a method for manufacturing a printed board by using the photosensitive composition.例文帳に追加

光の利用効率を向上させ、ｉ線及びｈ線の感度が高く、パターン形状が良好で、生保存性も良好な感光性組成物、該感光性組成物を含む感光性フィルム、及び、該感光性組成物を用いたプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Therefore, although the eight kinds of sheets, when visually observed, seem to have the same pattern which is recognized as a design glittered by reflected light in the grooves, codes embedded therein can be recognized with the area of the thick black line as "1" and the area of the thin black line as "0" by mechanical image reading.例文帳に追加

このため、肉眼観察時には、８種類のシートは、同一の模様を有し、溝内の反射光によりキラキラ光るデザインとして認識されるが、機械により画像を読み取れば、太い黒線の領域が「１」、細い黒線の領域が「０」として、埋め込まれたコードが認識される。 - 特許庁

After it is confirmed that the whole subordinate modules 20 is shifted to a diagnosable state by the potentials of the diagnostic state report signal line 42 and the normal state report signal line 43, a main diagnostic control part 11 outputs the test pattern 31 onto a control bus 30 so as to start diagnosis.例文帳に追加

主診断制御部１１が診断状態報告信号線４２及び通常状態報告信号線４３の電位により全ての従制御モジュール２０が診断可能状態に移行したことを確認した後に、制御バス３０上にテストパターン３１を出力させ、診断を開始する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance improving technique in microfabrication of a semiconductor element with a high energy line, an X-ray, an electron beam or EUV light, and to provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The left-and-right side walls of the adjacent flow passage are made of a single and continuous sheet 130 consisting of a filter material having many folding lines including a first set folding line 136 or the like at the front part and a second set folding line 150, on the like, at the rear part in a zigzag pattern 134.例文帳に追加

隣接する流路の左右の側壁は、該前部での第一組の折畳み線（１３６等）および該後部での第二組の折畳み線（１５０等）を含む多数の折畳み線を有しジグザグパターン（１３４）にあるフィルター材料からなる単一連続シート（１３０）である。 - 特許庁

The needle location data of the stop sewing patterns is otherwise corrected in synchronization with the base line position N1 of the ordinary sewing needle shogging patterns (D) or the needle location data of the stop sewing patterns is read out regardless of the base line position of the ordinary sewing needle shogging patterns and the pattern stitches are formed (E).例文帳に追加

あるいは通常縫い針振りパターンの基線位置Ｎ1と同期させて止め縫いパターンの針落ちデータが補正され（Ｄ）、あるいは通常縫い針振りパターンの基線位置と無関係に止め縫いパターンの針落ちデータが読み出され、パターン縫い目が形成される（Ｅ）。 - 特許庁

After that, the pattern 14 is processed in the processing margin of the profile surface 11a of the material 11 by mechanical processing or electric discharge machining, and an exhaust hole 15 communicating with the air in the slope line direction the mold back side is formed on the line of the cast joint part X of the material 11.例文帳に追加

その後、前記モールド粗材１１のプロファイル面１１ａの加工代に、機械加工または放電加工によりパターン１４を加工し、更に粗材の鋳継ぎ部Ｘのライン上に、モールド背面側から法線方向に大気と連通する排気孔１５を形成する。 - 特許庁

A relay control section 14 determines the conversion mode of an intermediate signal, having a pattern that a call control signal and a calling signal on a digital leased line 4 cannot take, according to own connection environment information and the connection environment information of a communication party that opposes via the digital leased line 4.例文帳に追加

中継制御部１４は、自身の接続環境情報とデジタル専用線４を介して対向する通信相手の接続環境情報とに従って、呼制御信号およびデジタル専用線４上の通話信号が取り得ないパターンを持つ中間信号の変換モードを決定する。 - 特許庁

In an optical position detector 10, when a control IC 70 sequentially supplies high frequency driving pulses to a light source section 12 via a first driving line 125a and a second driving line 125B, the light source section 12 emits detection light L2 in a radiate pattern.例文帳に追加

光学式位置検出装置１０において、制御用ＩＣ７０が第１駆動ライン１２５Ａおよび第２駆動ライン１２５Ｂを介して光源部１２に高周波数の駆動パルスを順次供給すると、光源部１２からは検出光Ｌ２が放射状に出射される。 - 特許庁

To provide a defect inspection method discovering early a VA pattern formation defective substrate by detecting a partial VA deficiency of VA having a line width of 5-10 μm, and improving a line production efficiency, and also to provide a defect inspection device to which the defect inspection method is adapted.例文帳に追加

線幅５μｍ〜１０μｍのＶＡの、部分ＶＡ欠損を検出することで、ＶＡパターン形成不良基板を早期に発見し、ラインの生産効率を向上させることが可能な欠陥検査方法、および、この欠陥検査方法を適応した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Measuring range of the waveform data as the processing object of waveform processing simulation, differentiated data of the waveform data, edge candidate position, each line mark position, relationship between each line mark position and edge candidate position, mark detecting position, error information, and template pattern or the like are displayed corresponding to the waveform data.例文帳に追加

波形処理シミュレーションの処理対象となった波形データの計測範囲、波形データの微分データ、エッジ候補位置、各ラインマークの位置、その位置とエッジ候補位置との関連付け、マークの検出位置、エラー情報、テンプレートパターンなどを波形データと対応付けて表示している。 - 特許庁

For this multilayer wiring circuit board with a reduction in crosstalk noise, in order t prevent the influence of the noise on the wiring pattern composed of the signal line, a ground layer 120 in a recessed shape in a cross sectional view is arranged so as to surround the wiring patterns 121b, 121d, 121f and 121i composed of the signal line.例文帳に追加

本発明のクロストークノイズ低減多層配線回路基板は、信号線からなる配線パターンへのノイズの影響を防止するため、信号線からなる配線パターン１２１ｂ、１２１ｄ、１２１ｆ及び１２１ｉを囲むように断面視で凹形状グランド層１２０を配置したものである。 - 特許庁

An intensity component of a diffraction line generated by a specific crystal phase and a specific lattice plane index is separated from other background intensity components by numerical processing by using numerical data of the azimuth distribution of the diffraction line intensity acquired by the measurement processing or a diffraction pattern.例文帳に追加

この測定処理によって得られた回折線強度の方位分布又は回折パターンの数値化データを用い、特定の結晶相と特定の格子面指数によって生じている回折線の強度成分を、数値処理によってそれ以外の背景強度成分から分離する。 - 特許庁

To provide a fringe field switching liquid crystal display in which alignment distortion of a liquid crystal is improved and a rubbing mark in the edge of a pixel electrode or generation of a boundary line can be prevented by changing a curved pattern of the edge of the pixel electrode into a straight line.例文帳に追加

画素電極のエッジ部を曲線形状から直線形状に変更することにより、液晶の配向歪みを改善し、画素電極のエッジ部に発生するラビングの跡、境界線の発生を防止することができるフリンジフィールドスイッチング液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a video signal processing apparatus capable of effectively avoiding generation of a stripe pattern with a simple configuration in the case that the video signal processing apparatus is applied to e.g., format conversion or the like and an inter-field line interpolation processing or an in-field line interpolation processing is switched depending on motion detection.例文帳に追加

本発明は、ビデオ信号処理装置に関し、例えばフォーマット変換等に適用して、動き検出によりフィールド間ライン内挿処理、フィールド内ライン内挿処理を切り換える場合において、簡易な構成により縞模様の発生を有効に回避することができるようにする。 - 特許庁

To remotely monitor, with high accuracy, the transmission picture quality on a transmission line based on a picture quality feature amount of video in each spot even when transmitting video of fine pattern and fast movement or the like on the transmission line including a system conversion apparatus.例文帳に追加

方式変換装置を含んで構成された伝送路上を、絵柄が細かく動きが激しい映像などが伝送される場合であっても、各地点における映像の画質特徴量に基づいて伝送路上の伝送画質を高精度に遠隔監視できるようにすること。 - 特許庁

The shift valves 22, 23, 24 respectively have switch circuits 22h, 23j, 24i for transmitting the line pressure to all of the shift valves to supply the line pressure to the specific control valve SL5, only when all of the on-off solenoid valves is in a shift pattern of the energization state (2-6 transmission modes).例文帳に追加

各シフトバルブ（２２〜２４）は、オンオフソレノイドバルブ（２２〜２４）の全てが通電状態のシフトパターン（２−６変速モード）のときにのみ、ライン圧がシフトバルブの全てに通じて特定のコントロールバルブ（ＳＬ５）に供給されるようにするための切換回路（２２ｈ、２３ｊ、２４ｉ）を有する。 - 特許庁

The mesh-shaped pattern comprises a large number of boundary line segments L extending between two branch points B and forming a large number of opening regions A, the average value N of the number of boundary line segments extending from one branch point is 3.0≤N<4.0, and a direction where the opening regions have a repeated period does not exist.例文帳に追加

網目状パターンは二つの分岐点Ｂの間を延びて多数の開口領域Ａを画成する多数の境界線分Ｌから構成され、一つの分岐点から延びる境界線分の数の平均値Ｎが３．０≦Ｎ＜４．０で、開口領域が繰返周期を持つ方向が存在しない。 - 特許庁

Furthermore, since ink dots 8 of the printed layer 2 are irregularly positioned during FM screen printing, even when formed by the light reflective metal layer 1 overlapping the printed layer 2, interference becomes hard to occur between the line pattern-like pattern 3 in the light reflective metal layer 1 and the print pattern of the printed layer 2, thereby interference patterns such as moire patterns become hard to emerge on the ornament member A.例文帳に追加

また、ＦＭスクリーン印刷では印刷層２のインクドット８は不規則に配置されるため、光反射性金属層１に印刷層２を重ねて形成しても、光反射性金属層１における万線状の凹凸パターン３と印刷層２における印刷パターンとの間に干渉が生じにくくなり、装飾部材Ａにモアレ模様等の干渉模様が現れにくくなる。 - 特許庁

At this time, since the leveling wire 40R is moved along a locus reverse in phase with respect to the locus of the cutting wire 40F on the cut surface Mb, the leveling wire 40R is moved with respect to the stripe pattern formed along the locus of the cutting line 40F so as to eliminate the stripe pattern, and the stripe pattern is erased certainly to obtain the smooth cut surface Mb.例文帳に追加

このとき、ならし線４０Ｒは、切断面Ｍｂ上における切断線４０Ｆの軌跡に対し逆位相となる軌跡で移動するので、切断線４０Ｆの軌跡に沿って形成される縞模様に対し、ならし線４０Ｒがその縞模様を打ち消すように移動することになり、縞模様が確実に消去されて平滑な切断面Ｍｂが得られる。 - 特許庁

A pattern varying means 81 stops and displays any arbitrary pattern on the digital display part on the same line as that of the passing type initial prize ports 21-23 through which balls pass when the balls pass sequentially and a display control means 83 simultaneously stops and displays any arbitrary pattern at the pseudo display locations corresponding to the passing type initial prize ports through which the balls pass.例文帳に追加

図柄変動手段８１は、球が通過型始動入賞口２１〜２３を順次通過するとき、球の通った通過型始動入賞口と同一行のデジタル表示部上に任意図柄を停止表示し、表示制御手段８３はこれと同時に球の通過した通過型始動入賞口に対応する疑似表示箇所に任意図柄を停止表示する。 - 特許庁

Based on predetermined line data, the control circuit generates the punch data including: draw data for drawing predetermined pattern(s) on the workpiece W through formation of a plurality of penetrations H; cut data for cutting along the outline of the pattern(s) ; and auxiliary cut data for forming cut E which helps the user when detaching the outline of the pattern from workpiece W.例文帳に追加

制御回路は、所定の模様のラインデータから、被加工物Ｗに対し複数の小孔Ｈにより所定の模様を描画するための描画データと、模様の輪郭に沿って切断するためのカットデータと、被加工物Ｗから模様の輪郭部分を切離す作業をユーザが容易に行うための切込みＥを形成する補助切込データとを含む打刻データを作成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide an aligner device that can firstly reduce variation of edge formation positions of patterns formed on an exposure object substrate by suppressing swing of waveform patterns of diffraction images generated in a vicinity of an edge of a mask pattern, and secondly suppress variation of pattern line widths by making sharp of the slopes of waveform patterns of the diffraction images in the vicinity of the edge of the mask pattern.例文帳に追加

第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁

A pair of MREs 12 and 13 constituting the first MRE bridge 10 form a first V-shaped pattern together, and a pair of MREs 14 and 15 constituting the second MRE bridge form a V-shaped pattern inverted by 180° to the first V-shaped pattern with the direction orthogonal to the center line 4a of the IC chip 4 as the axis.例文帳に追加

第１のＭＲＥブリッジ１０を構成する一対のＭＲＥ１２、１３は、互いに第１のハの字状パターンを形成しており、第２のＭＲＥブリッジ１２を構成する一対のＭＲＥ１４、１５は、第１のハの字状パターンに対してＩＣチップ４の中心線４ａに直交する方向を軸として１８０°反転したハの字状パターンを形成している。 - 特許庁

The patterning method of a wafer W includes a step for forming an L&S pattern 54A including multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W, and a step for forming an L&S 56A including multiple linear resist patterns 42NA arranged between the multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W so that the line widths of the line patterns 40A and the resist patterns 42NA have a negative correlation.例文帳に追加

ウエハＷにパターンを形成するパターン形成方法において、ウエハＷの表面に複数のラインパターン４０Ａを含むＬ＆Ｓパターン５４Ａを形成することと、ウエハＷの表面の複数のラインパターン４０Ａの間に配置される複数のライン状のレジストパターン４２ＮＡを含むＬ＆Ｓパターン５６Ａを、ラインパターン４０Ａの線幅とレジストパターン４２ＮＡの線幅とが負の相関を持つように形成することと、を含む。 - 特許庁

An R (round) surface 20 of R shape is formed in front of an upper end edge 18c of a shade 18 which forms a cut-off line of low-beam light distribution pattern in the vehicle headlight of projector type.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯においてロービーム用の配光パターンのカットオフラインを形成するシェード１８の上端縁１８ｃの前側にＲ形状のＲ面２０を形成する。 - 特許庁