「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

This method is characterized by manufacturing a diffraction grating with a shape of a rugged pattern in which at least corner parts continue in a curved line by a polishing process using a polisher 5 from a diffraction grating surface 2 consisting of the rectangular rugged pattern shape of a low pass filter 1 as a raw material.例文帳に追加

本発明の回折格子製造方法は、素材であるローパスフィルタ１の矩形形状の凹凸パターン形状からなる回折格子面２から、少なくともコーナ部が曲線で連なる凹凸パターン形状の回折格子を、ポリシャ５を使用したポリシング研磨加工により作製することを特徴とするものである。 - 特許庁

When the traveling pattern of the cart 1 is designated from a control and monitor device 4, the communication controller 10 performs the traveling control of the cart and the beam direction control so that the traveling pattern can be realized, and the communication controller 20 performs the beam direction control at the same time so that an optical transmission line during the traveling of the mobile cart can be ensured.例文帳に追加

操作・監視装置４から台車１の走行パターンが指定されると、そのパターンとなるように通信制御装置１０は台車の走行制御とビーム方向制御を行い、同時に通信制御装置２０もそのビーム方向制御を行って、走行中の光伝送路を確保する。 - 特許庁

The division pixel is compared with a reference division pixel; and if the division pixel is found larger, the charged particle beam is made to repeatedly scan a plurality of times in the first scanning direction by using the data corresponding to the pattern in the scanning line portion of the pattern data without aligning the scanning start positions of the charged particle beam in the same division pixel.例文帳に追加

基準分割画素と分割画素とを比較し、分割画素が大きい場合、同じ分割画素内で荷電粒子ビームの走査開始位置を一致させることなく、パターンデータのうち、走査線部分のパターンに相当するデータを用いて、荷電粒子ビームを第１の走査方向に複数回繰り返し走査させる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that forms a resist pattern of favorable shape that exhibits excellent resolution and reduced line width roughness (LWR), a polymeric compound that can be used as a base component of the positive resist composition, a compound that can be used in synthesizing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

解像性に優れ、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The image processing inspection part 50 composes a composite image by synthesizing an image of dicing line, which divides a circuit pattern at the surface of the wafer, into an image of rear surface of the wafer imaged by the rear surface imaging device 130 and detects the position of the defect based on the composite image with corresponding to the position of each circuit pattern.例文帳に追加

画像処理検査部５０は、ウエハの表面において回路のパターンを分割するダイシングラインの画像を裏面撮像装置１３０により撮像されたウエハ裏面画像に合成して合成画像を生成し、この合成画像に基づいて欠陥の位置を各回路パターン位置と対応させて検出する。 - 特許庁

The method for manufacturing a chip LED light emitting device comprises a step of forming a through hole board having a through hole part and mounting a chip LED on an electrode pattern and a reflecting plate covering an LED part including the pattern on the board, having a recess 7a formed to draw in its shape a part of a parabolic line and adhering a buffer material.例文帳に追加

スルーホール部を有し、電極パターン上にチップＬＥＤを搭載したスルーホール基板およびスルーホール基板上の電極パターンを含めたチップＬＥＤ部分を覆い、その形状が放物線の一部を描くように形成した凹所７ａを有し、緩衝材を貼り付けた反射板を作成する。 - 特許庁

This method for evaluating the etching accuracy comprises forming a test pattern 2 for measuring resistance including test patterns 21-24 each with a predetermined width and a space between lines arranged in rows and columns on all over the test substrate, measuring a resistance value after etching, and assuming a finished state of a circuit pattern by converting the resistance value into the widths of the line.例文帳に追加

縦、横に配列された所定線幅および線間のテストパターン２１〜２４を含む抵抗測定用テストパターン２をテスト基板の全面にわたって形成し、エッチング後に抵抗値を測定し、その抵抗値を線幅に換算して回路パターンの仕上がり状態を想定しエッチング精度を評価する。 - 特許庁

This antenna is provided with a balanced antenna part 12 constituted of the pattern of conductive layers symmetrically formed on one face side of a substrate 10 of a dielectric and a microstrip line 20 formed on the other face side of the substrate 10 and constituted of a conductive layer in a prescribed pattern connected with the balanced antenna part 12 at a power feeding point 62.例文帳に追加

誘電体の基板１０の一面側に対称に形成された導体層のパターンより構成される平衡型アンテナ部１２と、基板１０の他面側に形成され、給電点６２で平衡型アンテナ部１２と接続された所定パターンの導体層よりなるマイクロストリップライン２０とを備える。 - 特許庁

The recording area (BCA) in which information is recorded by a reflection pattern is provided, in which the barcode-shaped reflection pattern is formed by forming high reflectance areas and low reflectance areas which alternately appear seen in a track line direction in a state where the high reflectance areas and the low reflectance areas respectively continue in a track pitch direction.例文帳に追加

トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域（ＢＣＡ）を備える。 - 特許庁

In the method for manufacturing an optical device including a step of forming a pattern having ridge lines on a raw material by using a die, the raw material is softened and then the raw material in the softened state is pressurized to such a degree that the raw material does not intrude into the deepest part of the die corresponding to the ridge line so as to form the pattern.例文帳に追加

型で素材に稜線を持つパターンを成形する段階を含む光学素子の製造方法であって、前記素材を軟化状態にし、該軟化状態の素材に対して前記型の前記稜線に対応する最深部に前記素材が入り込まない程度の圧力を加えて前記パターンを成形する。 - 特許庁

A pattern 103L and a pattern 103R formed in different exposure processes with an optical axis of the micro lens 106 as a splitting line by bond exposure are arranged across an optical path of incident light condensed by the micro lens 106, and are disposed so that clearance with the optical path becomes a distance L.例文帳に追加

つなぎ露光によりマイクロレンズ１０６の光軸を分割線として異なる露光工程で形成されるパターン１０３Ｌとパターン１０３Ｒは、マイクロレンズ１０６によって集光された入射光の光路を間において配置され、光路とのクリアランスが距離Ｌとなるように設けられている。 - 特許庁

The photomask is classified into photomasks mounted with mask patterns 1, 2, 5, and 7 having pattern characteristics of a line system used principally to form a wiring layer of a semiconductor device and photomasks mounted with mask patterns 3, 4, 6, and 8 having pattern characteristics of a hole system used principally to form a connection hole of the semiconductor device.例文帳に追加

上記フォトマスクを、半導体装置の主に配線層の形成に用いられるライン系のパターン特性を持つマスクパターン１、２、５、７を搭載したフォトマスクと、半導体装置の主に接続孔の形成に用いられるホール系のパターン特性を持つマスクパターン３、４、６、８を搭載したフォトマスクとに分類する。 - 特許庁

The mounting substrate 20 is provided with a ground pattern 22 formed around an antenna mounting area 21, first and second lands 23, 24 provided in the antenna mounting area 21 corresponding to positions of first and second pad electrodes 13, 14 and a connection conductor pattern 25 for connecting the second land 24 to a feed line 26.例文帳に追加

実装基板２０は、アンテナ実装領域２１の周囲に形成されたグランドパターン２２と、第１及び第２のパッド電極１３、１４の位置に対応してアンテナ実装領域２１内に設けられた第１及び第２のランド２３、２４と、第２のランド２４と給電ライン２６とを接続する接続導体パターン２５とを備えている。 - 特許庁

In this hologram diffraction grating 30 in which a relief diffraction grating 2" is provided in a detailed pattern area in a plane where interference fringes 9" of relief hologram are formed, the diameter of a dot and line width in the detailed pattern area with the relief diffraction grating 2" provided are ≤0. 1 mm and cannot be seen at a normal observation position.例文帳に追加

レリーフホログラムのレリーフ干渉縞９”が形成されている面中の微細パターン領域にレリーフ回折格子２”が設けられてなるホログラム回折格子複合体３０であって、レリーフ回折格子２”が設けられている微細パターン領域のドット径及びライン幅が０．１ｍｍ以下であり、通常の観察位置では見えない。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in resolution, line edge roughness and side lobe margin and a pattern forming method using the same, which is a resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像性、ラインエッジラフネス、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When center lines, etc., have to be modified after the center lines and a wiring pattern which are in a form being before preparing a thick wiring pattern are prepared, an input device 30 first, collectively selects the plurality of center lines, etc., and also designates a point and a line to be reference to modification change.例文帳に追加

厚みのある配線パターンを作成する前の形態である中心線や配線パターンを作成した後において、それら中心線等に修正を要する場合、まず、入力装置３０によって、複数の中心線等を一括して選択するとともに、修正変更の基準となる点や線を指定する。 - 特許庁

By suitably moving a first shade 32, a position of the cut-off line is moved vertically, and by suitably tilting the lighting fixture unit 20 vertically, the whole light distribution pattern is displaced vertically, and by this, the light irradiation is carried out with the light distribution pattern and the irradiation angle corresponding to the traveling situation of the vehicle.例文帳に追加

第１シェード３２を適宜移動させてカットオフラインの位置を上下動させるとともに、灯具ユニット２０を上下方向に適宜傾動させて配光パターン全体を上下方向に変位させ、これにより車両走行状況に応じた配光パターンおよび照射角度で光照射を行う。 - 特許庁

To provide a method of inspecting pattern defects which automatically detects coating defects in fluorescent material coated on a glass substrate of a plasma display or the like, without being influenced by a coating pattern, such as a lattice-like fluorescent coating film, is easily installed in a production line of a panel, and realizes low-priced and high-speed defect inspection.例文帳に追加

プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を格子状蛍光体塗布膜等の塗布パターンに影響されず高感度に自動検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁

The spray nozzle for the adhesive for the interior and exterior surface of an automobile is so configured that a coating pattern of the adhesive is formed as a shape of convolution by transferring the spray nozzle in a predetermined direction while blowing air into the adhesive, discharged vertically in a direct line from the tip of the nozzle, from its periphery in a radial pattern.例文帳に追加

自動車車体の内，外面接着用接着剤の噴射ノズルにおいて、ノズルの先端から垂直一直線に吐出される接着剤にその外周からエアーを放射状に噴き込みながら前記噴射ノズルを一定方向に移動させ、接着剤の塗布跡を渦巻きの形に形成せしめる構成。 - 特許庁

Big wins occur when figures of the same kind line up in the display result derived and shown as the results of the special pattern games or when the figures are odd in kind, big wins with the varying probability occur and the special control for varying of the probability is carried out to raise the probability of the occurrence of big wins in the following special pattern games.例文帳に追加

特図ゲームの結果として導出表示された表示結果が、同じ種類の図柄が揃ったものであれば大当たりとなるが、その図柄の種類が奇数図柄であれば確率変動大当たりとなり、その後の特図ゲームでの大当たりの発生確率が高くなる特別確率変動制御が行われる。 - 特許庁

A display control unit 108 inputs the moving speed of a vehicle 200 detected by the line speed sensor 106, and displays a checkered pattern moving at the same speed in the same direction as those of the vehicle 200 on pattern display parts 102 and 104 based on the moving speed of the vehicle 200.例文帳に追加

表示制御部１０８は、ライン速度センサ１０６によって検出された車両２００の移動速度を入力し、当該車両２００の移動速度に基づいて、パターン表示部１０２及び１０４に、車両２００と同一速度及び同一方向で移動する市松模様のパターンを表示させる。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern that can solve problems of short-circuit or breaking of word lines and data line ends caused by interference of diffracted light produced at a pattern end on a boundary part between a memory array and a sub-word driver or sense amplifier when fine word lines and data lines having linewidth smaller than a wavelength are patterned on a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To set a light distribution pattern for low beam to be a light distribution pattern with a cutoff line and to sufficiently ensure visibility of a the upper part before a vehicle during high beam running, in a vehicular headlamp constituted so that beam switching between the low beam and the high beam is performed by vertically tilting a reflector by a given angle.例文帳に追加

リフレクタを上下方向に所定角度傾動させることによりロービームとハイビームとのビーム切換えを行うように構成された車両用前照灯において、ロービーム用の配光パターンをカットオフラインを有する配光パターンとした上で、ハイビーム走行時における車両前方上方の視認性を十分に確保する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A first radiation conductor 123 formed on the first side of a substrate 110 is formed vertically to a ground surface at the farthest position from a third edge line 220c of the ground pattern in an antenna mount region 211, thus minimizing an influence to the first radiation conductor from the ground pattern 220.例文帳に追加

基体１１０の第１の側面に形成された第１の放射導体１２３は、アンテナ実装領域２１１内において、グランドパターンの第３のエッジライン２２０ｃから最も離れた位置においてグランド面と垂直に形成されていることから、グランドパターン２２０が第１の放射導体に与える影響が最小限に抑えられる。 - 特許庁

The site of the cut end is easily found out by using discontinuousness of a written pattern which discontinuousness is caused by upper and lower tapes at the position where the cut end is adhered, wherein a figure is written on the surface of an adhesive tape as a continuous blankless line, which figure comprises the pattern repeating change with a constant cycle.例文帳に追加

粘着テープの表面に、図柄が一定の周期で変化を繰返しながら連続し空白のない線状となっている図を記載しておくことにより、切れ端が密着している箇所の上下のテープ間で、書かれている図柄が不連続になる事を利用して、切れ端の所在を見付け易くする。 - 特許庁

A special picture of a variable display game is set so that a plurality of colors are circulated in a preset order, and when the ready-to-win occurs, an advance notice for the ready-to-win is given by displaying the special pictures having the same color in the display positions (left pattern and right pattern) on the same straight line within a display area.例文帳に追加

変動表示ゲームの特図は、予め設定した順序で複数の色彩が循環するように設定されており、リーチが発生する場合には、表示領域内の同一直線上の表示位置（左図柄と右図柄）で、同一の色彩を持つ特図を表示することでリーチの予告を行う。 - 特許庁

The game machine with a variable display displaying plural pattern display parts by arranging them in a state of a matrix, the displaying area of a pattern display part 78I (which is arrayed in a center of the matrix of 3×3 before forming 'call') under scroll display is expanded (figure (C)) on a winning line forming the 'call' state.例文帳に追加

複数の図柄表示部をマトリクス状に配置して表示する可変表示装置を有する遊技機において、リーチ状態が成立した当りライン上においてスクロール表示中の図柄表示部７８Ｉ（リーチ成立前は３×３のマトリックスの中央に配列）の表示領域を拡張した（図２（Ｃ））。 - 特許庁

In this case, a contact window Co as the connection point of a wiring pattern is formed of the minimum line width in any circuit, and the pattern width (width in a direction following transistor length L) of drains Dp, Dn or sources Sp, Sn whose size is specified according to the size of the contact window Co is designed so as to be turned into the necessary minimum size.例文帳に追加

但し、配線パターンとの接続点となるコンタクトウィンドＣｏは、いずれの回路でも最小線幅で形成し、このコンタクトウィンドＣｏのサイズにより大きさが規定されるドレインＤｐ，ＤｎやソースＳｐ，Ｓｎのパターン幅（トランジスタ長Ｌに沿った方向の幅）は、必要最小限の大きさとなるように設計する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern having a large depth of focus (DOF), small line width roughness (LWR) and reduced bridge defects, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly integrated and accurate electronic device, and to provide a chemical amplification resist composition used in the method and a resist film formed from the chemical amplification resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The number (generation frequency) of 15-medal role establishment line data accumulated for respective pattern combination lines 51-55 and the number of 15-medal role misfetch data are integrated and displayed at a liquid crystal display part 22 as the result data of the day.例文帳に追加

図柄組合せライン５１〜５５毎に累積される１５枚役の成立ラインデータ数（発生頻度）と、１５枚役の取りこぼしデータ数とが、その日の実績データとして液晶表示部２２に積算表示される。 - 特許庁

To provide an apparatus for snap cutting sheet glass which does not required the pattern plate to snap cut the sheet glass in accordance with the cut line and which, if sheet glass having insufficient fissure is supplied, can snap cut providing sufficient fissure to the sheet glass.例文帳に追加

切線の通り折り割るための型板を必要とせず、ニュー入りの不十分なガラス板が供給されても、良好なニュー入り状態で折割ができるようにしたガラス折り割り装置を提供する。 - 特許庁

To provide a connector for high-speed transmission capable of surely preventing crosstalk between adjacent transmission lines, and easily carrying out impedance matching in the connector, and connectable to a conductor pattern for a widely-employed high-speed transmission line.例文帳に追加

隣接する伝送路間のクロストークを確実に防止し、かつ、コネクタ内部のインピーダンス整合を容易に行なうことができ、しかも、広く採用されている高速伝送路用導体パターンに対しても接続できること。 - 特許庁

To provide a method for forming cloth pattern, capable of forming a needle-through hole group at a time in a cut cloth layer and readily forming fancy stitch line along the needle-through hole to each cloth.例文帳に追加

裁断生地層に対し、一度に針通過孔群を形成し、各生地に対し前記針通過孔群に沿って飾り縫い線を容易に形成することができる生地への模様形成方法を提供することにある。 - 特許庁

If the foreign matter 12 is smaller than the threshold, an image of the foreign matter 12 displayed on an LCD 34 is observed; and when the foreign matter 12 is protruding over the line of a circuit pattern, compressed air is sprayed onto the reticle 51.例文帳に追加

異物１２が閾値よりも小さい場合には、ＬＣＤ３４に表示された異物１２の画像を観察し、異物１２が回路パターンの線からはみ出ている場合には、圧縮空気がレチクル５１上に吹きつけられる。 - 特許庁

To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

This game machine is provided with a control device controlling to give a prescribed game value when a pattern falls into a prescribed stop mode on a preset effective line as a result of the fluctuating display game.例文帳に追加

変動表示ゲームの結果予め定められた有効ライン上で図柄が特定の停止態様になることに関連して特定の遊技価値を付与可能に制御を行う制御装置を備える遊技機である。 - 特許庁

To provide a punching device capable of accurately punching a tape- form object according to a specified punching pattern by dissolving the slack and meandering of the tape-form object between a delivery mechanism and a winding mechanism to hold the punched area of the tape-form object in a straight line.例文帳に追加

繰出し機構と巻取り機構間のたるみ、蛇行を解消して、テープ状物の穿孔エリアを直線状に保持し、所定の穿孔パターンで正確に穿孔することができる穿孔装置を提供する。 - 特許庁

The information regarding the pattern design specifications is generated as an electronic document in which information regarding an annular ring and information regarding a line aperture are listed up by layers and which is provided with a field for inputting the correction information.例文帳に追加

パターン設計仕様に関する情報は、アニュラリングに関する情報や、ラインアパーチャに関する情報を各層毎にリストアップされ、かつ、補正情報を入力するための欄が設けられた電子文書として生成する。 - 特許庁

In a mask used to expose the active layer in such a manner, a translucent section consisting of a folded line thin slit pattern is formed in a recessed region between a source shielding section and a drain shielding section.例文帳に追加

活性層をそのように露出させるために用いられるマスクでは、ソース遮光部とドレイン遮光部との間の凹形状の領域に、折線形状の細いスリットパターンから成る半透過部が形成されている。 - 特許庁

To effectively perform input/output impedance matching of approximately lower than 1 Ω, relative to a power amplification element for power amplifying high-frequency signals of 500 MHz or higher, without widening the pattern width of a low impedance line.例文帳に追加

低インピーダンス線路のパターン幅を広げることなく、５００ＭＨｚ以上の高周波信号を電力増幅する電力増幅素子に対して概ね１Ω未満の入出力インピーダンスマッチングを効果的に行う。 - 特許庁

The pattern variation means varies patterns to ensure that the combination of symbols corresponding to the specific winning combination pass a winning line on the basis of the specific won combination determined by the winning combination determination means.例文帳に追加

この図柄変動手段は、当選役決定手段により決定された特定の当選役に基づいて、特定の当選役に対応する図柄の組合せが入賞ラインを通過するように図柄の変動を行なう。 - 特許庁

The part mounting component mounting apparatus 10 constitutes a surface mounting line to mount an electronic part having a chip structure onto a substrate with a specified wiring pattern made of a conductive metal, and to solder it by reflow.例文帳に追加

部品実装装置１０は、導電性金属からなる所定の配線パターンを有する基板上に、チップ構造を有する電子部品をマウントし、これをリフローはんだ付けする表面実装ラインを構成する。 - 特許庁

Firstly, K printing (pattern printing with black toner) 51 is continuously transferred to a belt by fifteen with printing of a dot line corresponding to a progression "000100110101111" of an M sequence of 15-bit length as basic form.例文帳に追加

１５ビット長のＭ系列の数列「０００１００１１０１０１１１１」に対応するドットラインの印字を基本形として先ずＫ印字（黒トナーによるパターン印字）５１を１５個連続してベルトに転写する。 - 特許庁