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n in anの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9308



例文

In the silicon layer 4, an NPN transistor (composed of a p-type well region 6, an n+-type region 7, and a deep n+-type region 10) is formed.例文帳に追加

n^- 型シリコン層4にはNPNトランジスタ(pウェル領域6、n^+ 型領域7、ディープn^+ 領域10)が形成されている。 - 特許庁

An input signal an is inputted from the input part 52, and the command value bn is changed by the key input part 18 and stared in a storage part 56.例文帳に追加

入力部52から入力信号a_n が入力され、キー入力部18によって前記指令値b_nの値が変更され、記憶部56に記憶される。 - 特許庁

To provide a composition for an n-type thermoelectric element acquiring an n-type thermoelectric element of which electric conductivity in a low temperature region is good.例文帳に追加

低温域における電気伝導性が良好なn型熱電素子を得ることができるn型熱電素子用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for an n-type thermoelectric element which can obtain an n-type thermoelectric element generating a large electromotive force even in a low-temperature region.例文帳に追加

低温域でも大きな起電力が発生するn型熱電素子を得ることができるn型熱電素子用組成物を提供する。 - 特許庁

例文

A heavily doped n-type impurity region is arranged in such a part under a gate pad that is an invalid are as an element area.例文帳に追加

素子領域としては無効領域となるゲートパッド下方の一部に高濃度のn型不純物領域を配置する。 - 特許庁


例文

When an error probability of one header area is denoted as P_e, for example, an error probability in N times of writing on the header area becomes P_e^N.例文帳に追加

例えば1つのヘッダー領域のエラー確率をP_eとすると、ヘッダー領域をN重書きしたときのエラー確率はP_eのN乗となる。 - 特許庁

To allow as sharp and smooth carrier concentration profile with no drop in a transition region from an N+ silicon water to an N- silicon wafer.例文帳に追加

N^+シリコンウェーハからN^−シリコンウェーハへの遷移領域のキャリア濃度プロファイルを、落ち込みがなく急峻かつスムーズにする。 - 特許庁

To provide a composition for an n-type thermoelectric element which can acquire an n-type thermoelectric element having good electric transfer performance in a low temperature region.例文帳に追加

低温域における電気伝導性が良好なn型熱電素子を得ることができるn型熱電素子用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an optical bus in which the structure of branches is simple, an n-to-n bidirectional communication is possible, and a lot of transmission paths are unnecessary.例文帳に追加

分岐路の構造が簡単で多くの伝送路を必要としないn対nの双方向通信が可能な光バスを提供する。 - 特許庁

例文

A case in which (n) seconds have passed from a mouse button-up is listed as an example of the operation state of an information processing terminal.例文帳に追加

情報処理端末の操作状態の例として操作端末のマウスボタンアップからn秒経過した場合などである。 - 特許庁

例文

Successively, B_0(1∼), B_1(1∼)-B_N(1∼) are obtained (S105), and p(1∼,t) in an equation (11) is calculated by solving MA×VB=Vb of an equation (10), (S106).例文帳に追加

次に、式(10)のMA×VB=Vbを解くことにより、B_0(l〜)、B_1(l〜)、・・・、B_N(l〜)を求め(S105)、式(11)のp(l〜,t)を算出する(S106)。 - 特許庁

This gate turnoff thyristor includes: an n-type first emitter layer; a p-type first base layer; an n-type second base layer; and a p-type second emitter layer in this order.例文帳に追加

n型の第1のエミッタ層、p型の第1のベース層、n型の第2のベース層、p型の第2のエミッタ層をこの順に備える。 - 特許庁

The method further comprises the steps of laminating an N-type semiconductor substrate in which a second N-type semiconductor layer 7 and an insulation layer 8 are formed, to the P-type substrate 1.例文帳に追加

次に、第2N型半導体層7と絶縁層8とを形成したN型半導体基板をP型半導体基板1と貼り合わせる。 - 特許庁

In the nitride semiconductor element comprising an active layer between an n type nitride semiconductor and a p type nitride semiconductor, the n type nitride semiconductor has an n type multilayer film layer obtained by laminating an n type contact layer made of an AlgGa1-gN (0≤g≤0.2), a GaN layer and an InpGa1-pN (0<p<1) layer.例文帳に追加

n型窒化物半導体とp型窒化物半導体との間に、活性層を有する窒化物半導体素子において、n型窒化物半導体は、AlgGa1−gN(0≦g≦0.2)からなるn型コンタクト層と、GaN層とIn_pGa_1-pN(0<p<1)層とが積層されてなるn型多層膜層とを含む。 - 特許庁

Thus an algorithm may have computational complexity O(N^2), in which case if the input doubles in size, the computation will take four times as many steps. 例文帳に追加

あるアルゴリズムはO(N^2)の計算量を持つだろう。このケースでは入力のサイズが2倍になると計算のステップ数は4倍になる。 - コンピューター用語辞典

When text data are registered in a database 10, an N-gram dividing part 121 divides a character string included in the data into N-grams.例文帳に追加

Nグラム分割部121は、データベース10にテキストデータが登録される際に、当該データに含まれる文字列をNグラムに分割する。 - 特許庁

And, in the third example, the copolymerization is carried out in the presence of N,N'- alkylenebisamide or an amide expressed by chemical formula R1-NH-CO-R2.例文帳に追加

好ましい第3実施例ではN,N'−アルキレンビスアミドまたは化学式R1−NH−CO−R2のアミドの存在下で共重合を行う。 - 特許庁

In this invention, first a symbol (d) received from an antenna is demodulated to generate demodulation symbols (x) expressed in N bits.例文帳に追加

本発明によれば、まず、アンテナからの受信シンボル(d)を復調してNビットで表現される復調シンボル(x)を生成する。 - 特許庁

In the formula n is an average addition number of ethylene oxides in mole, wherein n is 1.6-3.5.例文帳に追加

CH_2=CHCOO(CH_2CH_2O)_nH (1)(nはエチレンオキシドの平均付加モル数であり、n=1.6〜3.5である) - 特許庁

In addition, Tefin_fwd(N) is used as the actual correction temperature Tefin_AD(N) in an off-period (t2-t3) of the compressor 2.例文帳に追加

これに加えて、コンプレッサ2のOFF期間(t2〜t3)では実際の補正温度Tefin_AD(N)としてTefin_fwd(N)を用いる。 - 特許庁

A capacity value of an integral capacity part in the integration circuit 20_n is equal to a capacity value of a cell capacity part in the photodetection cell 10_m,_n.例文帳に追加

積分回路20_nの積分容量部の容量値は、光検出セル10_m,nのセル容量部の容量値と等しい。 - 特許庁

An input signal IN and tap coefficient a_n is multiplied in bit unit by a pre-processor 10 of TAP_N-TAP_1, and outputted.例文帳に追加

タップTAP_N〜TAP_1の前処理部10は、入力信号INとタップ係数a_nとをビット単位で乗算して出力する。 - 特許庁

In a pixel array part 111 of an EL panel 101, M×N pixels from 121-(1, 1) to 121-(N, M) are disposed in matrix.例文帳に追加

ELパネル101の画素アレイ部111には、N×M個の画素121−(1,1)乃至121−(N,M)が行列状に配置されて構成されている。 - 特許庁

An N well 12 is formed in a P type silicon substrate 10 and a P well 14 is formed in the N well.例文帳に追加

P型シリコンの基板10にNウェル12が形成され、NウェルにPウェル14が形成される。 - 特許庁

Bit rates S_n, C_n of the first and second streams in an M period are stored, respectively, in buffers 4, 6.例文帳に追加

バッファ4,6には、それぞれM期間の第1,第2ストリームのビットレートS_n,C_nが格納される。 - 特許庁

The number N of prints (N=0 at the time of replacement) is written in an RF tag 15a of another new loaded toner unit 15 by replacement, in the same manner.例文帳に追加

交換により、新規に装着されたトナーユニット15のRFタグ15aに対しても同様に、プリント枚数N(交換時にN=0)を書き込む。 - 特許庁

An object expressing a certain object becomes a layer N object 4 in the layer N and becomes a layer M object 14 in the layer M.例文帳に追加

ある対象を表現するオブジェクトは、層Nにおいて層Nオブジェクト4となり、層Mにおいて層Mオブジェクト14となる。 - 特許庁

To provide a method for synthesizing an N-acetylglucosamine-bound oligosaccharide contained in mother's milk, etc., in a manner efficient for production at a low cost.例文帳に追加

母乳などに含まれるN-アセチルグルコサミン結合オリゴ糖の安価であり、生産効率的な合成法を提供する。 - 特許庁

In the cache memory device 10, an effective bit register 40 and n (n is a natural number of two or larger) banks B are formed in a single integrated circuit.例文帳に追加

キャッシュメモリ装置10は、有効ビットレジスタ40とn(nは2以上の自然数)個のバンクBとが単一の集積回路に形成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, capable of preventing diffusion of In to the surface of an N-type ohmic electrode, and to provide a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

N型オーミック電極の表面へのInの拡散を抑制できる半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

An N-type CCD channel region 3 is provided in the P-type well region 2 and divided in a vertical direction by P+-type channel blocking regions 12.例文帳に追加

p型ウェル領域2に、n型CCDチャネル領域3が設けられ、p^+型チャネル阻止領域12で垂直方向に分割されている。 - 特許庁

When the salve device #n is in an outside-line speech communication state (S278: YES), the picto of the slave device #n is blinked in cycles of two seconds (S280).例文帳に追加

子機#nが外線通話状態にあれば(S278:YES)、子機#nのピクトを2秒周期で点滅させる(S280)。 - 特許庁

By using n-channel MOSFETs (N1 and N2) and the n-channel MOSFETs (N3 and N4) for an upper arm of the circuit 20, reduction in through current in a MOS semiconductor integrated circuit is obtained.例文帳に追加

出力段回路20の上アームにnチャネルMOSFETを用いることで、貫通電流の低減を図る。 - 特許庁

In the case that the value dif1(2)[n] is smaller than the threshold Th1, it is discriminated that the picture is subjected to dissolving, an M value is changed and the picture is coded in a ST15.例文帳に追加

dif1^(2)[n]が閾値Th1より小さい場合はディゾルブ処理された画像であると判断し、ST15によりM値を変更して符号化処理する。 - 特許庁

The storage number of the mode numbers in the table part and the selection number in the table selection function are extended to 2^N (where, N is an integer).例文帳に追加

テーブル部におけるモード番号格納数と、テーブル選択機能における選択数を2^N(たたし、Nは整数)に拡張するようにした。 - 特許庁

When the slave device #n is in an extension speech communication state (S282: YES), the picto of the slave device #n is blinked in cycles of one second (S284).例文帳に追加

子機#nが内線通話状態にあれば(S282:YES)、子機#nのピクトを1秒周期で点滅させる(S284)。 - 特許庁

A high purity N,N'-carbonylbislactam can be obtained in a high yield both in a laboratory scale and an industrial scale.例文帳に追加

実験室規模および工業的規模の両方で高純度のN,N’−カルボニルビスラクタムが高収率で得られる。 - 特許庁

To provide an n-type diffusion layer forming composition which forms an n-type diffusion layer at a specific part in a short time without forming an unnecessary n-type diffusion layer in the manufacturing process of a solar cell using a crystal silicon substrate, and to provide a method of forming an n-type diffusion layer, and a method of manufacturing a solar cell.例文帳に追加

結晶シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、不要なn型拡散層を形成させることなく、短時間で特定の部分にn型拡散層を形成するn型拡散層形成組成物、n型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

Optical signals of the wavelength λ_n (n is an arbitrary integer in a range of 1 or more and N or less, and N is an integer in a range of 2 or more) emitted from each light source 111_n, which is provided inside a first station 110 are multiplexed by an optical multiplexer 112 and then amplified simultaneously with an optical amplifier 113.例文帳に追加

第1局110内の各光源部111_nより出力された波長λ_n(nは1以上N以下の任意の整数。Nは2以上の整数。)の信号光は、光合波器112により合波されて、光増幅器113により一括増幅される。 - 特許庁

An N^--type first drain offset region 112, an N^--type second drain offset region 113, and an N^--type third drain offset region 114 are formed in a P-type semiconductor substrate 111 in this order from the lower.例文帳に追加

P型の半導体基板111内に下から順にN^- 型の第1ドレインオフセット領域112、N^- 型の第2ドレインオフセット領域113、及びN^- 型の第3ドレインオフセット領域114が形成されている。 - 特許庁

A group-specific phase θgi of K, which is smaller than N (K is an integer), in number is assigned to ideal phases of N (N is an integer) in number that an ideal symbol point of the measured signal can take (step 82).例文帳に追加

被測定信号の理想シンボル点が取り得るN(Nは整数)個の理想位相に、Nより少ないK(Kは整数)個のグループ別位相θgiを割り当てる(ステップ82)。 - 特許庁

The DMOS transistor contains an n^+ diffusion layer 21d as a source, a p-type diffusion layer 17e as a back gate region, and an n-type diffusion layer 67 in a low concentration as a drain and an n^+ diffusion layer 21e in a high concentration.例文帳に追加

DMOSトランジスタは、ソースとなるn^+拡散層21dと、バックゲート領域となるp型拡散層17eと、ドレインとなる低濃度のn型拡散層67および高濃度のn^+拡散層21eとを含む。 - 特許庁

The circuit 18 is formed, in such a way that n pieces of resistor elements R_1-R_n are connected in series between an input line 22 and an output line 24 by a metal wiring 20, such as an Al wiring.例文帳に追加

抵抗回路は、R_1 〜R_n のn個の抵抗素子をAl配線等の金属配線20で入力線22及び出力線24に並列に接続してなる抵抗回路である。 - 特許庁

In the method for preparing an amide compound such as ε- caprolactam, by subjecting an oxime compound such as cyclohexanone oxime and the like, to Beckmann rearrangement in a liquid phase, the method for preparing amide compound is characterized by using, as the catalytic ingredient, an inorganic acid, N,N-dialkylamide compound (for example, N,N- dimethylformamide) or carboxylic acid anhydride (for example, acetic anhydride).例文帳に追加

シクロヘキサノンオキシム等のオキシム化合物を液相中でベックマン転位反応を行うことによりε−カプロラクタム等のアミド化合物を製造する方法において、触媒成分として無機酸、N,N-ジアルキルアミド化合物(例えば、N,N-ジメチルホルムアミド)およびカルボン酸無水物(例えば、無水酢酸)を用いて反応を行うことを特徴とするアミド化合物の製造方法。 - 特許庁

This method for producing an amide compound such as ε- caprolactam from an oxime compound such as cyclohexanone oxime by a Beckmann rearrangement in a liquid phase is characterized by comprising reaction in the presence of a fluorine-free sulfonic acid anhydride (e.g. P- toluenesulfonic acid anhydride) and an N,N-disubstituted amide compound (e.g. N,N-dimethylformamide).例文帳に追加

シクロヘキサノンオキシム等のオキシム化合物を液相中でベックマン転位反応を行うことによりε−カプロラクタム等のアミド化合物を製造する方法において、非含フッ素スルホン酸無水物(例えば、p-トルエンスルホン酸無水物)およびN,N-二置換アミド化合物(例えば、N,N-ジメチルホルムアミド)の存在下で反応を行うことを特徴とするアミド化合物の製造方法。 - 特許庁

The relative density of the superconductor is not less than 95%, when a current is carried to it without applying an external magnetic field in a refrigerant, a characteristic of current density J and an electric field E in a current region close to a critical current becomes E∝J^n; and an n-value in the formula is 20 or more.例文帳に追加

超電導体の相対密度が95%以上であり、冷媒中で外部磁界を加えずに電流を通電したとき、臨界電流近傍の電流域における電流密度Jと電界Eとの特性がE∝J^nとなり、その式中のn値が20以上である。 - 特許庁

This method for producing the N-alkyl-N'-alkylimidazolium salt is characterized by recovering the purified N-alkyl-N'-alkylimidazolium salt by an extraction treatment with an alcohol of the crude N-alkyl-N'-alkylimidazolium salt obtained by the salt exchanging reaction of an imidazolium halogen salt with a compound having an anion to be salt-exchanged, as shown in formula (1).例文帳に追加

イミダゾリウムハロゲン塩と、塩交換すべきアニオンを有する化合物とを下記(1)式のように塩交換反応させて得られた粗N−アルキル−N'−アルキルイミダゾリウム塩を、アルコールで抽出処理することにより精製されたN−アルキル−N'−アルキルイミダゾリウム塩を回収することを特徴とするN−アルキル−N'−アルキルイミダゾリウム塩の製造方法。 - 特許庁

The high purity iron S,S-ethylenediamine-N,N'-disuccinic alkali salt little in the content of a lactam ring compound is produced by adding S,S-ethylenediamine-N,N'-disuccinic acid to an aqueous solution of an iron compound to form an acid type compound of iron S,S-ethylenediamine-N,N'- disuccinic acid and adding an alkali to the reaction product.例文帳に追加

鉄化合物水溶液にS,S−エチレンジアミン−N,N'−ジコハク酸を添加してS,S−エチレンジアミン−N,N'−ジコハク酸鉄の酸タイプ化合物を生成させ、これにアルカリを添加することにより、ラクタム環化合物含量の少ない高純度のS,S−エチレンジアミン−N,N'−ジコハク酸鉄アルカリ塩を得る。 - 特許庁

An N,N'-dialkylethylenediamine-N,N'-dimalonic acid shown by general formula 1 (wherein, R1 and R2 are each independently an alkyl group; M1 to M4 are each independently hydrogen or a cation) can be produced by reacting an N,N'-dialkylethylenediamine and a malonic ester derivative in an aqueous alkaline solution.例文帳に追加

一般式1のN,N’−ジアルキルエチレンジアミン−N,N’−ジマロン酸類 (R_1及びR_2は各々独立してアルキル基、M^1〜M^4は各々独立して水素又は陽イオン。)であり、アルカリ水溶液中で、N,N’−ジメチルエチレンジアミンとマロン酸エステル誘導体を反応させることにより製造できる。 - 特許庁

例文

An n^+-buried impurity region 4 is formed in an interface between an n^--semiconductor layer 2 and a p^--semiconductor substrate 1 below an n^+-impurity region 7 connected to the drain electrode 14 of the nMOS transistor 103.例文帳に追加

nMOSトランジスタ103のドレイン電極14に接続されるn^+不純物領域7の下方においては、n^−半導体層2とp^−半導体基板1との界面にn^+埋め込み不純物領域4が形成されている。 - 特許庁

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