「nm」に関連した英語例文の一覧と使い方(249ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of preparing the zirconia particles is characterized in that a zirconium compound and a carboxylic acid or amine salt of carboxylic acid are subjected to hydrothermal reaction using subcritical water as a reaction field to synthesize the zirconia particles which have an average particle size of 1 to 30 nm and are surface-reformed by organic substances such as carboxylic acid or amine salt of carboxylic acid.例文帳に追加

亜臨界水を反応場として、ジルコニウム化合物とカルボン酸又はカルボン酸のアミン塩を水熱反応に付して、平均粒子径１〜３０ｎｍであり、カルボン酸又はカルボン酸のアミン塩等の有機物により表面改質されたジルコニア粒子を合成することを特徴とするジルコニア粒子の製造方法である。 - 特許庁

This quartz glass synthesized with a direct method of using a raw material gas consisting of an organic silicon compound is provided by making ≤1×1015 cm-3 CO gas concentration contained in the glass, so as to achieve ≤0.005 cm-1 internal absorption coefficient in ≥190 nm wave length range.例文帳に追加

有機ケイ素化合物からなる原料ガスを用いて直接法によって合成された石英ガラスにおいて、ガラス中に含有するＣＯガス濃度を１×１０^15ｃｍ^^-3以下とすることにより、１９０ｎｍ以上の波長領域において内部吸収係数が０．００５ｃｍ^-1以下を達成できることを見いだした。 - 特許庁

The film is obtained by forming a thermoplastic resin composition containing a layered crystalline compound having ≤500 nm long axis and ≥10 average aspect ratio and a thermoplastic resin, and the film has ≤5% haze in 100 μm thickness and ≤2/m^2 foreign matters having ≥100 μm thickness.例文帳に追加

本発明のフィルムは、長軸が大きくとも500ｎｍ、かつ平均アスペクト比が小さくとも10である層状結晶化合物と、熱可塑性樹脂とを含む熱可塑性樹脂組成物を成形してなるフィルムであり、厚さ100μｍにおけるヘイズが大きくとも5％であり、かつ100μｍ以上の異物が多くとも２個／ｍ^２であることを特徴とする。 - 特許庁

In a time zone (a radiation recommendation time zone) from a lowest temperature appearance time to at least 11 hours later from it in the biorhythm, irradiation is carried out with a predetermined lighting level for a predetermined time necessary for the regulation of the biorhythm by means of a light source having a maximum peak in a wavelength range of 410-505 nm.例文帳に追加

生体リズムでの最低体温出現時刻から少なくとも１１時間後までの時間帯（これを照射推奨時間帯と呼ぶ）において、４１０〜５０５ｎｍの波長域に最大ピークを有する光源により人の生体リズムの調整に必要な所定の照明レベルと時間で照射する。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor having a conductive support and a plurality of photosensitive layers, is characterized in that the surface layer of the photosensitive layers contains particulates and a degree of light absorption per thickness of 1 μm on the surface layer is 0.05 to 0.25 in respect to the wavelength of 1,000 nm.例文帳に追加

導電性支持体と複数の感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の最表面層が微粒子を含有しており、かつ最表面層の膜厚１μｍ当たりの吸光度が、１０００ｎｍの波長に対して０．０５以上０．２５以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

The colloidal dispersion liquid includes: an inorganic component including metal particles with an average particle diameter of 0.7-200 nm; an organic substance including at least an amine, and coating at least a portion of surfaces of the metal particles; a dispersion medium including a photo-curable organic compound with a (meth)acryloyl group; and a carboxylic acid.例文帳に追加

平均粒径が０．７〜２００ｎｍの金属粒子を含む無機成分と、前記金属粒子の表面の少なくとも一部を覆う少なくともアミンを含む有機物と、(メタ）アクリロイル基を有する光硬化性有機化合物を含む分散媒およびカルボン酸を含むことを特徴とするコロイド分散液。 - 特許庁

The level of integration of a semiconductor optoelectronic device is improved by the semiconductor cap layer, such as an InGaAs cap layer having a thickness of ≤200 nm together with the pure metal layer and, in addition, fewer impurities are introduced in the formation of an ohmic contact than with prior art alloy contacts.例文帳に追加

本発明では、厚さ200nm以下のInGaAs保護膜層のような半導体保護膜層を厚さ10nm以下の極薄の純金属層と共に用いて、これにより半導体光電子デバイスの集積レベルを向上させると共に、オーミック接触の形成において従来法の合金接触よりも少量の不純物が導入されるに過ぎない。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a red light emitting phosphor practically usable for a light-emitting diode capable of efficiently absorbing ultraviolet rays at an excitation wavelength of about 370 nm and emitting red light at high efficiency and in order to take white light or arbitrary medium color light out of a single light-emitting diode.例文帳に追加

発光ダイオードの励起波長３７０ｎｍ前後において、効率的に紫外線を吸収して赤色発光を効率よく放射でき、１個の発光ダイオードから白色ないし任意の中間色を取り出すために、この発光ダイオードに実用的に使用できる赤色発光蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The coloring composition contains a dipyrromethene-based complex compound in which a dipyrromethene-based compound, represented by general formula (I), is coordinated to a boron atom, a boron compound, a metal atom or a metal compound, or a tautomer thereof, and an infrared absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of ≥700 nm.例文帳に追加

一般式（Ｉ）で表されるジピロメテン系化合物が、ホウ素原子、ホウ素化合物、金属原子、又は金属化合物に配位したジピロメテン系錯体化合物又はその互変異性体と、７００ｎｍ以上の波長に吸収極大を有する赤外線吸収性化合物と、を含有する着色組成物。 - 特許庁

The mold is constituted by a substrate formed of a first material and an alignment mark provided on the substrate and formed of a second material different from the first material, and the refractive index of the second material with respect to visible light of wavelength of 633 nm is not less than 1.7.例文帳に追加

モールドであって、 第１の材料を含み構成される基板と、 該基板上に設けられており、且つ該第１の材料とは異なる第２の材料を含み構成されているアライメントマークと、を備え、 波長６３３ｎｍの可視光に対する前記第２の材料の屈折率は、１．７以上である構成とする。 - 特許庁

The electrode for spot welding of the Sn-based plated sheet steel, includes a metallic layer constituted of Ni or an Ni alloy having a thickness of 1-1,000 μm in the tip end of the electrode tip thereof, wherein a surface roughness Ra of the surface of the metallic layer is 800 nm or less.例文帳に追加

Ｓｎ系めっき鋼板のスポット溶接用電極であって、厚さ１μｍ以上１０００μｍ以下のＮｉ又はＮｉ合金からなる金属層を電極チップ先端に有しており、前記金属層の表面の面粗度Ｒａが８００ｎｍ以下であることを特徴とする、スポット溶接用電極である。 - 特許庁

In the planographic printing plate obtained by sequentially coating the top of a support with at least an undercoat layer, a silver halide emulsion layer containing a sensitizing dye which imparts maximum spectral sensitivity in a wavelength region of ≥600 nm and a physical developing nucleus layer, an aliphatic carboxylic acid having at least one hydroxyl group or an alkali metallic salt thereof is contained.例文帳に追加

支持体上に少なくとも下塗り層、600nm以上の波長域に極大分光感度を付与する増感色素を含有するハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層を順次塗布してなる平版印刷版おいて、少なくとも１つの水酸基を有する脂肪族カルボン酸またはそのアルカリ金属塩を含有する。 - 特許庁

When inverse phase AC voltage is applied to a first and a second titanium targets 12_1 and 12_2 and the flow rate of an oxygen gas is controlled so that the intensity of emitted light (500 nm) from titanium becomes 15-20%, the titanium oxide film having the photocatalytic capacity can be formed at a high speed without heating the titanium targets.例文帳に追加

第１、第２のチタンターゲット１２_1、１２_2に逆位相の交流電圧を印加し、チタンの発光光(５００ｎｍ)の強度が１５％以上２０％以下の範囲になるように酸素ガスの流量を制御すると、加熱しなくても光触媒性能を有する酸化チタン膜を高速成膜することができる。 - 特許庁

This system computes an initial introduction and installation cost required for installing movable platform fences, examines an advertisement publication rate (an advertisement income) and computes the number-of-month (NM) required for recovering the reduced value (BG) by the advertisement publication rate and presents the results of the computation and examination.例文帳に追加

このシステムでは、可動式ホーム柵を設置するために必要な初期導入設置費用の算出、広告掲載費（広告収入）の検討、減額値（ＢＧ）を広告掲載費で回収する回収費用月数（ＮＭ）の算出等を行い、これらの算出結果、検討結果を提示できるようにしている。 - 特許庁

To obtain a translucent yttrium oxide sintered compact, wherein linear transmittance in visible wavelength ranging from 400 nm to 6 μm excluding a specific absorption wavelength is ≥70% when the thickness is 1 mm without controlling aluminum content to 5-100 wt.ppm expressed in terms of metal, silicon content to ≤10 wt.ppm expressed in terms of metal.例文帳に追加

この発明は、アルミニウム含有量を金属換算で５〜１００wt ppm、珪素含有量を金属換算で１０wt ppm以下としなくとも、波長５００ｎｍ〜６μｍにおける、特異吸収波長以外での、直線透過率が１mmで７０％以上とすることができる透光性酸化イットリウム焼結体を得ようとするものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for the image display apparatus includes: a process for irradiating a surface of the layer containing the polymerized compound and/or the polymer compound obtained by the polymerization of the polymerized compound with a light having a wavelength of 250 nm or less; and a process for providing another layer so as to contact the surface.例文帳に追加

重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層の表面を２５０ｎｍ以下の波長の光で照射する工程；及び他の層を上記表面に接するように設ける工程をこの順に含む、画像表示装置用基板の製造方法。 - 特許庁

Further, on the above film having a spectral absorption region with an absorbance of 0.3 or more in a spectral wavelength region of 300-1,200 nm, a layer including a hydrophobic polymer compound having a functional group, which changes its hydrophobic nature to its hydrophilic nature by heating, on its side chain, is provided.例文帳に追加

また、３００〜１２００ｎｍの分光波長領域中に吸光度が０．３以上の分光吸収領域を有する上記の皮膜の上に、加熱により疎水性から親水性に変化する官能基を側鎖に有する疎水性高分子化合物を含有する層を設けた平版印刷版用原板。 - 特許庁

The adhesive composition for connection in the circuit includes (a) radically polymerizable compounds, (b) a hardener generating radicals by irradiation of light having wave lengths 150 to 750 nm, or heating at 80 to 200°C or by both light irradiation and heating and (c) a compound having N atom and a carbon - carbon double bond in the molecule.例文帳に追加

(ａ)ラジカル重合性化合物、（ｂ）１５０〜７５０ｎｍの光照射、または８０〜２００℃の加熱、または前記光照射と前記加熱を併用することでラジカルを発生する硬化剤、(ｃ)分子内に窒素原子と炭素—炭素二重結合を含有する化合物からなる回路接続用接着剤組成物。 - 特許庁

The semiconductor light emitting device is equipped with a semiconductor light emitting element 2 having emission spectrum 400 nm or less, an ultraviolet absorption layer 6 which covers at least the light extraction surface of the semiconductor light emitting device 2, and a sealing resin 7 which seals at least the semiconductor light emitting device 2 covered by the ultraviolet absorption layer 6.例文帳に追加

４００ｎｍ以下の発光スペクトルを有する半導体発光素子２と、少なくとも半導体発光素子２の光取出し面を被覆する紫外線吸収層６と、少なくとも紫外線吸収層６で被覆された半導体発光素子２を封止する封止樹脂７とを具備する。 - 特許庁

Alternatively, the tunnel magnetoresistance element comprises a magnetite electrode and a barrier layer in which a magnesium oxide layer and an aluminum oxide amorphous layer of ≤2 nm in film thickness are formed at 60°C-130°C film forming temperature on the magnetite electrode and then annealed at a temperature higher by 0-60°C than the film forming temperature.例文帳に追加

または、マグネタイト電極と、該マグネタイト電極上に成膜温度６０℃〜１３０℃で酸化マグネシウム層と２ｎｍ以下の厚さの酸化アルミニウム非晶質層を成膜し、前記成膜温度より０〜６０℃高い温度でアニールされた障壁層と、からなることを特徴とするトンネル磁気抵抗素子である。 - 特許庁

This communication network system is provided with a gateway device carrying out a relay of data transmitted and received among a plurality of networks, causes terminal apparatuses and the gateway device to transmit NM frames showing sleep possibilities on a network basis, and makes at least the terminal apparatuses sleep when all of the terminal apparatuses and the gateway device come into sleeping states.例文帳に追加

複数のネットワーク間で授受されるデータの中継を行うゲートウェイ装置を備え、ネットワークごとに、端末機器及びゲートウェイ装置からスリープ可否を示すＮＭフレームを送信させると共に、端末機器及びゲートウェイ装置のすべてがスリープ可状態になった場合に少なくとも端末機器をスリープさせる。 - 特許庁

To provide a light absorbing dyestuff which has satisfactory light absorbing properties at a wavelength of about 800-1,100 nm and in which the absorption power thereof is not largely lowered with time when the dyestuff is used both individually and in combination with another dyestuff; and a light absorbing material comprising the light absorbing dyestuff.例文帳に追加

ほぼ８００〜１１００ｎｍの波長における光吸収特性が良好であって、単独で用いられても、あるいは他の色素と混合して用いられてもその吸収能が経時的に大きく低下することのない光吸収色素およびそれを用いた光吸収材を提供すること。 - 特許庁

A photoconductive film for forming a non-uniform electric field is obtained by changing conductivity upon the reception of the irradiation with induced light and CdS having an absorbing end in the vicinity of 520 nm is utilized while visible light of a wavelength band centering around a red color not overlapped with the absorption spectrum of CdS is used as illumination light for observation.例文帳に追加

誘起光の照射を受けて導電率を変えることで不均一交流電場を形成する光導電膜として、５２０ｎｍ付近に吸収端があるＣｄＳを利用する一方、観察用の照明光はＣｄＳの吸収スペクトルと重ならない赤色を中心とする波長帯域の可視光を用いる。 - 特許庁

In the optical element 1 including an aspherical optical surface formed by the press molding method, a ray effective portion 2b of the optical surface has, formed thereon, an antireflection structure 4 including a minute uneven structure, which contains a component different from that of a base of the optical element and has an average pitch of 400 nm or less.例文帳に追加

プレス成形法によって形成されており、非球面の光学面を有する光学素子１であって、該光学面の光線有効部２ｂには、該光学素子の基材とは異なる成分を含み平均ピッチが４００ｎｍ以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体４が形成されている。 - 特許庁

A multilayer membrane 3 laminated on a glass substrate surface 21 of a half mirror 1 is a nine-layer structure where the material quality, refractive index and optical thickness of each of multilayer membranes are suitably set and the light transmission/reflection characteristics due to (s) and (p) polarized components thereof are equal for both the wavelengths of 650 and 780 nm.例文帳に追加

ハーフミラー１のガラス基板表面２１に積層された多層薄膜３は、各多層薄膜の材質、屈折率および光学的膜厚を適切に設定した９層構造であり、そのｓ、ｐ偏光成分に対する光透過・反射特性は、６５０、７８０ｎｍ波長のいずれについても同一である。 - 特許庁

The composite material has the fingerprint adhesion-resistant coating film, which contains silicon compound and hydrophilic metal oxide fine particles having the average particle size of 1-100 nm and is formed on the surface of a substrate, wherein the glossiness of the coating film is defined as ≤8 and the color difference is defined as <4.6.例文帳に追加

基板の表面に珪素化合物と平均粒子径１〜１００ｎｍの親水性金属酸化物微粒子を含む耐指紋付着性コーティング被膜が形成された複合材であって、前記コーティング被膜の光沢度が８以下、色差が４．６未満とすることで、耐指紋付着性コーティング被膜が形成された複合材。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electronic device structure (such as a high performance MOS semiconductor device) having excellent electric characteristics using an SiO_2 film and an SiON film having extremely thin (such as 2.5 nm or less) film thickness as an insulating film, and using polysilicon, amorphous silicon, and SiGe as an electrode.例文帳に追加

極めて薄い（例えば２．５ｎｍ以下）膜厚を有する絶縁膜としてＳｉＯ_２膜およびＳｉＯＮ膜を用い、電極としてポリシリコン、アモルファスシリコン、ＳｉＧｅを用いた良好な電気特性を有する電子デバイス（例えば高性能ＭＯＳ型半導体装置）構造の製造方法を提供する。 - 特許庁

MS films 3 each having thickness of 30 to 300 nm are sequentially formed, comprising an HC layer 41 mainly composed of an ultraviolet-curing resin provided on one principal plane of a base film 40, a first refraction layer (middle refraction layer) 42 on the HC layer 41, a second refraction layer (lower refraction layer) 43, and a transparent conductive layer 13.例文帳に追加

ベースフィルム４０の一方の主面に紫外線硬化樹脂を主成分とするＨＣ層４１を配設し、その上に第一屈折層（中屈折層）４２、第二屈折層（低屈折層）４３、透明導電膜１３からなる、厚さ３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下のＭＳ膜３を順次形成する。 - 特許庁

An exhaust gas purification catalyst includes an oxygen storage material consisting of double oxide containing cerium and zirconium and has a catalytic metal carried on the oxygen storage material, wherein the oxygen storage material is in the form of hollow secondary particles in each of which primary particles of an average particle size of less than 10 nm cohere to form a shell.例文帳に追加

ＣｅとＺｒとを含有する複酸化物よりなる酸素吸蔵材を有し、該酸素吸蔵材に触媒金属が担持されている排気ガス浄化用触媒において、上記酸素吸蔵材は、平均粒径が１０ｎｍ未満である一次粒子がシェル材となって凝集した中空状の二次粒子となっている。 - 特許庁

The original table glass used for an original reader is obtained by subjecting a glass substrate 2 to chemical strengthening or strengthening by air blast cooling and then depositing a film comprising tin doped indium oxide (ITO film) 1 on at least one surface 2a of the glass substrate 2 in 15-20 nm thickness (t).例文帳に追加

原稿読み取り機に用いる原稿台ガラスにおいて、ガラス基板２に予め化学強化または風冷強化を施し、その後ガラス基板２の少なくとも一方の表面２ａに錫をドープした酸化インジウムからなる膜（ＩＴＯ膜）１を形成し、このＩＴＯ膜１の膜厚ｔを、１５ｎｍ〜２０ｎｍとした。 - 特許庁

The metal colloid liquid is manufactured by a chemical reduction method with the use of hydroxylic acid having total three or more of COOH groups and OH groups with the number of COOH groups being not less than that of the latter or its salt as a dispersant, and a primary particle size of the metal is to be not more than 20 nm.例文帳に追加

ＣＯＯＨ基とＯＨ基とを合わせて３個以上有し、かつ、ＣＯＯＨ基の数はＯＨ基の数以上であるヒドロキシ酸又はその塩を分散剤として用い、化学還元法によって製造される金属コロイド液であって、金属の１次粒子径が２０ｎｍ以下である金属コロイド液。 - 特許庁

The combustion synthesis is initiated by irradiating the starting boron powder, aluminum powder or silicon powder with the laser of a wavelength longer than 770 nm with the output power of 0.5-500 watts in a nitrogen atmosphere under ≤10, ≤2 and ≤30 atmospheric pressure, individually, thereby producing BN, AlN or Si3N4.例文帳に追加

出力を０．５Ｗ〜５００Ｗで７７０ｎｍよりも長い波長を有するレーザーを原料粉末に照射することにより、ボロン粉末、アルミニウム粉末、シリコン粉末を、それぞれ、１０気圧以下、２気圧以下、３０気圧以下の窒素雰囲気で燃焼合成反応を開始させて、ＢＮ、ＡｌＮ、Ｓｉ_3 Ｎ_4 を製造するようにした。 - 特許庁

Also the method for producing such polyimide film comprises adding the polyimide particles having 100 to 250 nm particle diameter by 0.10 to 3.0 wt.% ratio into polyamic acid solution, then casting the polyamic acid solution dispersing/containing the polyimide particles on a supporting material as a filmy state, then cyclizing and imidizing.例文帳に追加

また、かかるポリイミドフィルムの製造方法は、粒子径１００〜２５０ｎｍのポリイミド粒子を０．１０〜３．０重量％の割合で、ポリアミド酸溶液に添加した後、ポリイミド粒子分散・含有する該ポリアミド酸溶液を支持体上に膜状に流延した後、環化してイミド化することを特徴とするものである。 - 特許庁

In the urine leakage sensor, conductive polyvinyl alcohol system fibers comprise a polyvinyl alcohol system polymer and copper sulfide particulates having an average particle diameter of 500 nm or smaller, the copper sulfide particulates are contained on or inside the front layer of the fibers, and the conductive polyvinyl alcohol system fibers are arrayed separated by interval in the planar direction of a fabric.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系ポリマーと平均粒子径５００ｎｍ以下の硫化銅微粒子からなり、且つ硫化銅微粒子が繊維の表層および／または内部に含有されてなる導電性ポリビニルアルコール系繊維が、布帛の面方向に間隔をおいて配置されていることを特徴とする尿漏れセンサー。 - 特許庁

The light emitting diode has an SiC layer formed of a 6H type SiC single-crystal substrate doped with B and N, and a nitride semiconductor layer of ≤408 nm in light emission wavelength, and the SiC layer is excited with primary light from the nitride semiconductor layer to emit secondary light in the visible range.例文帳に追加

発光ダイオードにおいて、Ｂ及びＮがドーピングされた６Ｈ型ＳｉＣ単結晶蛍光体からなるＳｉＣ層と、発光波長が４０８ｎｍ以下である窒化物半導体層と、を備え、前記ＳｉＣ層は、前記窒化物半導体層からの１次光により励起され、可視領域の２次光を発するようにした。 - 特許庁

As for zoom lenses 1 and 2, all the plastic lenses each have at lest one aspheric surface, and a glass 1st lens L1 of a 1st lens group GR1 is colored so as to ≤45% internal transmissivity to light of 370 nm in wavelength when 5 mm thick, and also made ≥1.3 mm thick.例文帳に追加

ズームレンズ１、２で、全てのプラスチックレンズが少なくとも１面の非球面を有するようにし、第１レンズ群ＧＲ１のガラス製の第１レンズＬ１に３７０ｎｍの波長の光に対して、厚さ５ｍｍの時に内部透過率が４５％以下となるよう着色を施し、且つ、厚みを１．３ｍｍ以上とした。 - 特許庁

The method of detecting the electrophotographic photoreceptor prepared by laminating the undercoating layer containing inorganic particles, and a photosensitive layer containing a charge generation agent, a charge transporting agent and a binder resin is characterized in that reflection absorbance of the undercoating layer at a wavelength of 400 nm or less is measured.例文帳に追加

無機粒子を含有する下引き層と、電荷発生剤、電荷輸送剤、およびバインダー樹脂を含有する感光層とが順次積層した電子写真感光体の検査方法において、４００ｎｍ以下の波長での、前記下引き層の反射吸光度を測定することを特徴とする電子写真感光体の検査方法。 - 特許庁

The processing method for patterning the thin film subjects a piezoelectric film composed of the thickness several μm formed on the substrate to microfabrication by irradiating the piezoelectric film with a laser of an oscillation wavelength near 500 nm and a pulse width of pico second or below at ≥20 GW/cm^2 per unit area from the piezoelectric film side.例文帳に追加

基板上に形成された厚さ数μｍからなる圧電素子膜に対し、前記圧電素子膜側から発振波長が５００ｎｍ近傍でパルス幅がピコ秒以下のレーザを単位面積当り２０ＧＷ／ｃｍ^２以上で照射を行い前記圧電素子膜に微細加工を施すことで解決できる。 - 特許庁

A colorant, a dispersant, a dispersion, and an ink are provided which contain cross-linked polymer nano-particles(PNPs) having a mean diameter in the range of 1-50 nm and chromophores, the chromophores including a shape bonded to the PNPs and the PNPs including as polymerized units at least one multi-ethylenically unsaturated monomer.例文帳に追加

１〜５０ナノメートルの範囲の平均直径を有する架橋重合体ナノ粒子（ＰＮＰ）と発色団を含む着色剤であり、発色団はＰＮＰに結合した形態を含み、ＰＮＰは重合単位として少なくとも一つの多エチレン性不飽和モノマーを含む着色剤、分散剤、ディスパーション及びインキを用いる。 - 特許庁

Especially, the raw material of the silanol condensate is at least one kind of silane coupling agents selected from vinyl-based, epoxy-based, amino-based and isocyanate-based silane coupling agents, or at least one kind of tetraalkoxysilanes selected from tetraethoxysilane and tetramethoxysilane, and the average fiber diameter of the vegetable fiber is 10 nm to 1 μm.例文帳に追加

特に、シラノール縮合物の原材料は、ビニル系、エポキシ系、アミノ系、イソシアネート系の少なくとも１種から選ばれたシランカップリング剤またはテトラエトキシシラン、テトラメトキシシランの少なくとも１種から選ばれたテトラアルコキシシランで、植物繊維の平均繊維径は、１０ｎｍ〜１μｍで、樹脂は、熱可塑性樹脂である。 - 特許庁

After a silicon oxidation film 23 of a thickness approximately 10-50 nm is formed on the surface of the SiOC constituting an insulation film 22 for wiring formation, the increase of the dielectric constant of the SiOC film is suppressed by forming a photoresist film 24 for forming a wiring groove on the insulation film on the silicon oxidation film 23.例文帳に追加

配線形成用の絶縁膜２２を構成するＳｉＯＣ膜の表面に１０〜５０ｎｍ程度の厚さのシリコン酸化膜２３を形成した後、絶縁膜２２に配線溝を形成するためのフォトレジスト膜２４をシリコン酸化膜２３上に形成することによって、ＳｉＯＣ膜の比誘電率の上昇を抑える。 - 特許庁

A charge generating layer 12 is formed on an electrically conductive substrate 11 using a specified charge generating material having absorption to a light source of 380-500 nm and a charge transfer layer 13 comprising a charge transfer material and a resin binder is disposed on the layer 12 to obtain the objective laminate type electrophotographic photoreceptor 10.例文帳に追加

導電性支持体１１上に、３８０ｎｍから５００ｎｍの光源に対して吸収を持つ特定の電荷発生物質にて電荷発生層１２を形成し、電荷輸送物質とバインダ樹脂からなる電荷輸送層１３を積層することをもって積層型電子写真用感光体１０とする。 - 特許庁

The core shell type silver-tin composite particle 1 has the average particle diameter of 1 to 300 nm, and has a structure where a tin particulate 2 essentially consisting of tin and also formed into the nucleus is covered with an outer shell layer 3 as a film with fine pores composed of at least one kind selected from silver, a silver-tin alloy, silver and a silver-tin alloy.例文帳に追加

本発明のコアシェル型銀錫複合粒子１は、平均粒子径が１ｎｍ以上かつ３００ｎｍ以下であり、錫を主成分としかつ核となる錫微粒子２が、銀、銀錫合金、銀及び銀錫合金のいずれか１種からなる微細孔を有する膜である外殻層３により被覆された構造である。 - 特許庁

The fluorescent colloidal solution comprises a fluorescent fine particle and a solvent dispersing the particle, wherein the fluorescent fine particle is a metal sulfide which is doped with an activator and has an average particle size of 1-10 nm, and the colloidal solution at a concentration of 10% gives a transmission of 50% or more for a visible ray measured by a spectrophotometer.例文帳に追加

本発明の蛍光コロイド液は、蛍光微粒子とそれを分散させる媒体を含む蛍光コロイド液において、蛍光微粒子が、付活剤がドープされた平均粒径１〜１０ｎｍの硫化金属であり、濃度１０％のコロイド液の分光光度計による可視光の透過率が５０％以上である。 - 特許庁

This film is the laminating polyester film used for the process paper of the high density DVD light transmission protection layer, and average roughness of a center plane (SRa(A)) of one film plane (A plane) is 20 nm or less, and average roughness of a center plane (SRa(C)) of the other film plane (C plane) is larger than SRa(A).例文帳に追加

高密度ＤＶＤ光透過保護層の工程紙として使用されるポリエステルフィルムであって、一方のフィルム面（Ａ面）の中心面平均粗さ（ＳＲａ（Ａ））が２０ｎｍ以下であり、もう一方のフィルム面（Ｃ面）の中心面平均粗さ（ＳＲａ（Ｃ））がＳＲａ（Ａ）よりも大きいことを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁