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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
To provide an electrooptical device where a designated pattern of electric wiring etc., is precisely formed and in which yield in the case of manufacturing is excellent , a manufacturing method for a substrate for the electrooptical device, and a manufacturing method for the electrooptical device respectively.例文帳に追加
電気配線等の所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法をそれぞれ提供する。 - 特許庁
To provide a link transmission apparatus and a link transmission method capable of eliminating disturbance in a link transmission output based on an OFDM method even in a state that segments mutually receive NULL packets of the same pattern between each other.例文帳に追加
セグメント間で互いに同一パターンのNULLパケットを受ける状態となっても、OFDM方式による連結送信出力の乱れをなくすことのできる連結送信装置及び連結送信方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an apparatus for acquiring three-dimensional information capable of acquiring more accurate three-dimensional shape information or the like using space coding, a method for creating pattern light, a method for acquiring three-dimensional information, a program, and a recording medium.例文帳に追加
空間コード化法を用いてより正確な3次元形状情報などを取得することができる3次元情報取得装置、パターン光生成方法、3次元情報取得方法、プログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide an electro-optical device having an inspection pattern for verifying film thickness or resistance of a resin film or a conductive film with high accuracy, and to provide an inspection method for an electro-optical device, a method for manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus.例文帳に追加
樹脂膜又は導電膜の膜厚や抵抗値を精度良く検証できる検査用パターンを備えた電気光学装置、電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide an absorption type conveyance method which can convey a shadow mask absorbed for every sheet certainly, without giving deformation stress to a slit pattern, in a conveyance handling method in a manufacturing process of the shadow mask.例文帳に追加
本発明の課題は、シャドウマスクの製造工程における搬送取扱方法において、確実に1枚毎に吸着してスリットパターンに変形ストレスを与えずに搬送が行える吸着搬送方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a grinding material and a polishing material, or a grinding method and a polishing method for obtaining a base board having no flaw and a polishing trace by improving polishing accuracy of surfaces of the base board, an interlayer insulating film, a circuit pattern, etc.例文帳に追加
本発明は、基板や層間絶縁膜、回路パターン等の表面の研磨精度を向上させ、キズや研磨痕の無い基板が得られる研削材や研磨材若しくは研削方法や研磨方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method of fabricating a substrate material for mounting electronic parts capable of making a secure bonding with electronic parts and inhibiting fusion of a metal foil for configuring a wiring pattern and to provide a substrate material for mounting electronic parts fabricated by the method.例文帳に追加
電子部品との接続を確実に実施でき、かつ、配線パターンを構成する金属箔の溶解を抑制できる電子部品搭載用基材の製造方法とそれによる電子部品搭載用基材を提供する。 - 特許庁
To provide a coloring method capable of coloring the vicinities of surfaces of a glass-based member with a desired pattern, and a decorated article obtained by the method and having an aesthetic appearance.例文帳に追加
主としてガラスで構成された部材の表面付近を所望のパターンで着色することが可能な着色方法を提供すること、また、前記着色方法により得られる美的外観に優れた装飾品を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a nitride semiconductor laser device, capable of obtaining an excellent far field pattern by definitely forming a terracing horizontal plane between a resonator end face and a device isolation face, using a simple method.例文帳に追加
簡便な方法により、共振器端面と素子分離面との間のテラス状の水平面を確実になくして、良好なファーフィールドパターンを得ることができる窒化物半導体レーザ素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern with low manufacturing cost, by removing a photoresist without having to use a photoresist stripper, and manufacturing an LCD device, and to provide a method for manufacturing the LCD device using the same.例文帳に追加
フォトレジストストリッパを用いることなくフォトレジストを除去することによって、低コストでパターンを形成し且つ液晶表示素子を製造できるパターン形成方法及びそれを用いた液晶表示素子製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus by which a resist pattern for a needed quantity of printed circuit boards when needed can be manufactured quickly, inexpensively and stably by using an exposing method which does not need a photo tool.例文帳に追加
フォトツールを必要としない露光により、必要な時に必要な量のプリント配線板用レジストパターンを迅速にかつコスト安く安定に作製することのできるプリント配線板用レジストパターン作製方法及び装置を提供する。 - 特許庁
In this way, the compounded metal thin film particle and conductive ink usable for a device producing a conductive circuit pattern-formed by a liquid process such as a screen printing method and an inkjet method can be obtained.例文帳に追加
これによりスクリーン印刷法やインクジェット法等の液体プロセスによってパターン形成される導電回路を製造する装置に用いることが可能な複合化金属薄膜粒子および導電性インクを得ることができる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an EL element for forming an organic EL layer by a printing method in which even a highly fine pattern can be manufactured efficiently without a trouble.例文帳に追加
本発明は、印刷法で有機EL層を形成するEL素子の製造方法であって、高精細なパターンであっても不具合無く効率的に製造することが可能なEL素子の製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
To provide a method for fabricating a two-dimensional pattern by simultaneously forming a plurality of quantum dots on a solid surface with laser irradiation and making the structure of quantum dots periodic, and a device structure and a device fabricated by using the method.例文帳に追加
レーザー照射により、固体表面に複数の量子ドットを同時に形成し、かつ、量子ドットを周期構造化させて2次元パターンを製造する方法及びこの方法により作製したデバイス構造並びにデバイスを提供する。 - 特許庁
To readily manufacture small-sized laminated chip coil parts with high inductance by a method, wherein a simple printing lamination method in which a ceramic pattern is printed in each half face can be exploited irrespective of using main conductor patterns of more than one turn.例文帳に追加
1ターンより多い主導体パターンを用いるにもかかわらず、セラミックスパターンを半面ずつ印刷する簡便な印刷積層法を利用できようにして、小型で高インダクタンスの積層チップコイル部品を容易に製造できるようにする。 - 特許庁
To provide a photosensitive element using a protective film which has properties equivalent to those of a conventional polyolefin-base protective film and does not put too much load on the environment, and to provide a resist pattern forming method and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加
従来のポリオレフィン系の保護フィルムと同等の特性を有し、環境に大きな負荷を与えない保護フィルムを使用した感光性エレメント、レジストパターン形成方法及びプリント配線板製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for forming pattern, an electrooptical device, and an electronic apparatus which forms an alignment mark by a liquid discharge method in the state positioned with high precision by eliminating the waste of a process for forming an alignment mark by photolithograph.例文帳に追加
フォトリソグラフィによるアライメントマークを形成する工程の無駄を省き、高精度に位置決めされた状態で液体吐出法によりアライメントマークを形成するパターン形成方法、電気光学装置、及び電子機器を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing substrate with built-in element in which a semiconductor chip having electrode pad sections arranged at fine pitches can be connected to a conductor pattern formed on a substrate without changing the pitches of the pad sections, and to provide a substrate with built-in element manufactured by the method.例文帳に追加
ファインピッチの電極パッド部を有する半導体チップをピッチ変換することなく基板上の導体パターンに接続することができる素子内蔵基板の製造方法および素子内蔵基板を提供すること。 - 特許庁
To provide a colored composition to be used for a relief reverse offset printing method by which a uniform ink film is formed on a silicone blanket and a precise pattern having a long duration time of transferability can be formed, and to provide a color filter formed by the relief reverse offset printing method using the above colored composition.例文帳に追加
シリコーンブランケット上に均一なインキ皮膜を形成し、転写性持続時間が長く精密なパターンを形成することができる凸版反転オフセット印刷法に使用する着色組成物を提供することにある。 - 特許庁
To provide an electron beam lithographic method and machine, and a mark-recording method, which can form a fine recording mark or a pattern of a semiconductor element more accurately, under the control of a light exposure quantity.例文帳に追加
露光量制御に基づいて、微小な記録マークあるいは半導体素子のパターンをより正確に形成することができるようにした電子線描画方法およびその装置並びにマーク記録方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a polymer having a uniform composition distribution for each of polymer chains, and suitable as a resist composition, a method for producing the same, a resist composition containing the polymer and a method for producing a substrate plate formed with a pattern.例文帳に追加
各高分子鎖ごとの組成分布が均一で、レジスト組成物用として好適な重合体およびその製造方法、その重合体を含むレジスト組成物、並びにパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a decorative molding, simultaneously changing a mat tone and a color tone and easily setting a pattern of an area to which the changes are added, and a decorative molding obtained by the method.例文帳に追加
マット調と色調の変化を同時に行うことができ、しかも、その変化を与える領域のパターンを容易に設定することができる加飾成形品の製法およびそれによって得られる加飾成形品を提供する。 - 特許庁
To provide glass for a fresnel lens having characteristics suitable for a fresnel lens utilized for an apparatus represented by a light-focusing solar cell and easily formable of a pattern for light-focusing by a direct press method or a reheat press method.例文帳に追加
集光式太陽電池に代表される装置に利用されるフレネルレンズに適した特性を持ち、かつ、ダイレクトプレス法又はリヒートプレス法による集光用パターンの形成を容易にできるフレネルレンズ用ガラスが求められている。 - 特許庁
To provide a method for producing a decolored pattern of a denim cloth, without damaging the cloth, and capable of floating up the patterned part deep in dyed color even if the cloth is easily stretchable one, and a decolor-patterned denim product formed by the method.例文帳に追加
布地を傷つけず、例え伸びやすい布地であっても模様部を染色の色に濃く浮きだたせるデニム布地の脱色模様形成方法と、それにより形成した脱色模様デニム製品を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a deposition method for smoothly providing desired pattern shapes of material layers while improving throughput when a plurality of different material layers are laminated on a substrate, and also to provide a manufacturing method of a light-emitting device.例文帳に追加
基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
The method for manufacturing the color filter has the color filter formed by using a transfer sheet 2A, repeatedly forming a color filter layer 7A by a heat transfer method for thermally transferring to a sheet-like base material 1 in the form of a pattern, and forming a black matrix, as needed.例文帳に追加
転写シート2Aを用い、シート状基材1上にパターン状に熱転写する熱転写法により、カラーフィルター層7Aを形成することを繰り返し行ない、必要に応じブラックマトリックスを形成してカラーフィルターを得る。 - 特許庁
To provide a rugged pattern forming method in a nano inprint processing method useful for forming an electronic device, an optical component, a recording medium and the like, and capable of manufacturing such finely patterned products at low cost and high speed.例文帳に追加
電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a memory element wherein a recording mark whose edge part is clear and which is fine as compared with a pattern by a conventional method can be formed, to provide a recording and reproducing method to a recording layer and to provide a recording device.例文帳に追加
従来の方法によるパターンと比較して、記録マークのエッジ部分が明瞭で、かつ、より微細な記録マークを形成することができるメモリ素子、記録層に対する記録再生方法、及び記録装置を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition excellent in strippability of a resist thereof and capable of improving adhesion and resolution; and to provide a photosensitive element using the same, a method for fabricating a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加
レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、及びプリント配線板の製造法を提供。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method, capable of controlling the pattern of a rugged structure to be formed on a surface of a substrate with high accuracy and avoiding waste of particles, and to provide the substrate processed by the method.例文帳に追加
基板表面に形成されるべき凹凸構造のパターンを高精度に制御することができ、粒子の無駄をなくすことができる基板処理装置、基板処理方法、及びこの方法によって処理された基板を提供すること。 - 特許庁
In the liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, the lift-off defects are minimized by forming a protective layer pattern using a sputtering method at the time of the lift-off process which is the core process of the 3 mask process.例文帳に追加
本発明は液晶表示装置及びその製造方法に係り、3マスク工程の核心工程であるリフトオフ工程時スパターリング法を利用して保護膜パターンを形成することによってリフトオフ不良を最小化する。 - 特許庁
To provide a pattern matching method and a device suitable for collating a feature amount including a vector quantization (VQ) distortion after vector quantization and its decoding, to its probability model; and to provide its normalizing method and device suitable for the feature amount.例文帳に追加
ベクトル量子化およびその復号を経てVQ歪みを含む特徴量を、その確率モデルと照合する際に好適なパターンマッチング方法および装置、ならびに前記特徴量に好適な正規化方法および装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor integrated circuit that eliminates the hold error of an FF by changing only a wiring pattern even during designing and manufacturing without including a dummy circuit, and to provide a designing method and a manufacturing method therefor.例文帳に追加
ダミー回路を備えることなく、設計時や製造時においても、配線パターンのみの変更によりFFにおけるホールドエラーを解消することができる半導体集積回路、ならびに、その設計方法および製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a microstructure in which microdomain structures can be formed by a chemical registration method in an arbitrary pattern arrangement or at intervals different from a characteristic period do of microdomains of a high molecular block copolymer.例文帳に追加
化学的レジストレーション法を用いて、高分子ブロック共重合体のミクロドメインの固有周期doとは異なる任意のパターン配置あるいは間隔でミクロドメイン構造を形成可能な微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide: a method for manufacturing a photosensitive laminate showing favorable plating durability and developing property in which a high-definition pattern can be efficiently formed; a printed wiring board using the above photosensitive laminate; and a method for manufacturing the board.例文帳に追加
耐めっき性及び現像性が良好で、高精細なパターンを効率よく形成可能な感光性積層体の製造方法、及び前記感光性積層体を使用したプリント配線板及びその製造方法の提供。 - 特許庁
In particular, when the method is applied for forming a pattern in a chemically amplified resist having a fluorocarbon resin suitable for an F2 laser as the exposure light source, the method is effective to improve dimensional uniformity and to improve the resist profile.例文帳に追加
特に本発明は、前記露光光源がF2レーザを用いた際に好適なフッ素樹脂を成分とする化学増幅型レジストのパターン形成方法に適用すると寸法均一性改善とレジスト形状改善に対して有効である。 - 特許庁
To provide an energy beam irradiating apparatus which can isolate an energy beam generator and an energy beam irradiating unit without using a thin film, such as a titanium, a silicon, etc.; and to provide an energy beam irradiating method using the apparatus and a pattern forming method.例文帳に追加
チタンやケイ素等の薄膜を用いることなく、エネルギー線発生部とエネルギー線照射部とを隔絶できるエネルギー線照射装置を提供し、該装置を用いたエネルギー線照射方法およびパタン作成方法を提供する。 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER COMPOUND FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF THE POLYMER COMPOUND, COMPOUND FOR USE IN MANUFACTURE OF THE POLYMER COMPOUND, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法、該高分子化合物の製造に使用される化合物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a method for forming a film by which a metal film having a predetermined pattern can easily and inexpensively be formed, to provide a metal film formed by the above method, and to provide electronic parts and an electronic apparatus having the metal film.例文帳に追加
本発明の目的は、容易かつ安価に所定パターンの金属膜を形成し得る成膜方法、かかる成膜方法により形成された金属膜、この金属膜を備える電子部品および電子機器を提供すること。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a mounting substrate having a high yield, reduced manufacturing costs, and a short lead time, to provide a mounting substrate having a fine conductive pattern manufactured by the foregoing manufacturing method, and further to provide a master substrate for manufacturing the mounting substrate.例文帳に追加
歩留まりが高く、製造コストを抑制し、リードタイムを短くできる実装基板の製造方法と、この方法で製造された微細な導電パターンを有する実装基板およびそれを製造するためのマスター基板を提供する。 - 特許庁
In the method for preparing the mold for precision casting with a lost wax method, slurry is spray-coated to the fine shape part on the surface of the wax pattern and dried to form a coating part, and thereafter, each layer on and after the first layer is formed.例文帳に追加
精密鋳造用鋳型をロストワックス法により作製する方法において、ワックス模型の表面の形状細部にスラリーをスプレー塗布し、乾燥してコーティング部を形成した後、第1層以降の各層を形成した。 - 特許庁
The method for manufacturing the laminated electronic component includes a step of forming an internal electrode pattern layer 12a on a surface of a support sheet 20 elongated in a longitudinal direction using a printing method and drying it with a predetermined temperature.例文帳に追加
長手方向に沿って細長い支持シート20の表面に、内部電極パターン層12aを印刷法により形成して所定の乾燥温度で乾燥させる工程を有する積層型電子部品の製造方法である。 - 特許庁
To provide a wiring board and a manufacturing method thereof, and an element mount board and a manufacturing method thereof whereby the low profile and the uniformized thickness of an insulating member of a body to be transferred are attained together with a transfer step of a conductor pattern.例文帳に追加
導体パターンの転写工程時に、合わせて被転写体である絶縁材の薄型且つ厚さの均一化が図れる配線基板及びその製造方法、素子実装基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern by which a resist film can be made thin by using a lower layer film formed by a coating method, the required mask thickness is maintained, and the difference caused by conversion in processes is suppressed to process the objective film with high dimensional accuracy.例文帳に追加
塗布法により成膜できる下層膜を用いてレジスト膜の薄膜化を図るとともに必要なマスク厚を確保し、加工変換差を抑制して寸法精度よく被加工膜を加工し得るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device that prevents a resist pattern shape from becoming an inverted tapered shape, while a resist sidewall is prevented from being rounded and a resist bottom opening is prevented from varying in opening length, and to provide a method of manufacturing a mask.例文帳に追加
レジスト側壁が丸みをおびること及びレジストボトム開口長が変動することを防止しつつ、レジストパターン形状が逆テーパ形状となることを回避する半導体装置の製造方法及びマスクの製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a stripe coating machine capable of changing a pattern of a stripe coating film simply without labor and suitable for improving an operation rate of the machine, and a stripe coating method and a blade rotation mechanism for use in the machine and the method.例文帳に追加
手間なく簡単にストライプ状塗膜のパターンを変更することができ、装置の稼働率の向上を図るのに好適なストライプ塗布装置、ストライプ塗布方法、その装置と方法に用いられるブレード回転機構を提供する。 - 特許庁
To provide a method of evaluating quality of a reproduction signal from a viewpoint of detection margin of a Viterbi decoder in a PRML system in which a target level is varied in accordance with the reproduction signal, and a method of evaluating quality for a signal pattern comprising combination of the minimum run lengths from the viewpoint of edge shift.例文帳に追加
目標レベルが再生信号に応じて変化するPRML方式において,ビタビ・デコーダの検出余裕の観点から再生信号の品質を評価する方法及びそれを搭載した光ディスク装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an air permeable sheet capable of manufacturing the air permeable sheet not producing strike-through and having a printing pattern excellent in fastness applied thereto, and a manufacturing method of an absorbent article using the air permeable sheet.例文帳に追加
裏抜けを発生させず、堅牢性に優れた印刷模様が施された通気性シートの製造が可能な通気性シートの製造方法、及び該通気性シートを用いた吸収性物品の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a surface processing method for enabling plasma to be generated at a desired location in an easy construction to perform surface processing at a desired location, and to provide a surface processing apparatus, a pattern forming substrate, a method for manufacturing an electrooptical device, and an electrooptical device.例文帳に追加
プラズマを簡単な構成で所望の箇所に発生し所望の箇所に表面処理ができる表面処理方法、表面処理装置、パターン形成用基板、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。 - 特許庁
To control the amount of a photoresist remaining in a channel region to be uniform and to reduce projections at an end of a semiconductor layer, in relation to a method for forming a pattern using a photoresist composition and to a method for manufacturing a thin film transistor display panel.例文帳に追加
フォトレジスト組成物を用いたパターンの形成方法、薄膜トランジスタ表示板の製造方法に関し、チャンネル領域に残っているフォトレジストの量を均一にして、半導体層の末端の突出を減少させる。 - 特許庁
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