「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(344ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method, the woody board having the pattern of the cross-section as a pattern layer capable of being visually recognized from outside is manufactured by cutting a laminated body such that the cross-section of at least two layer of the laminate body constituted by laminating a plurality of woody fiber boards can be visually recognized from outside.例文帳に追加

複数の木質繊維板が積層してなる積層体の少なくとも２つの層の断面が外部から視認できるように前記積層体を切断することによって、前記断面の模様を外部から視認できる模様層として有する木質板を製造する方法。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An electrode pattern is formed by such method that, after p-type semiconductor layers 3 and 4 are formed on a silicon substrate 1 and an n-type semiconductor layer 5 is formed on the p-type semiconductor layer, the n-type semiconductor layer is removed with a predetermined pattern by using laser abrasion so as to expose the p-type semiconductor layer.例文帳に追加

シリコン基板１上に、ｐ型半導体層３、４を形成し、ｐ型半導体層上に、ｎ型半導体層５を形成した後、レーザ・アブレーションを用いて、所定のパターンで、ｎ型半導体層を除去し、ｐ型半導体層を露出させて、電極パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, satisfactory exposure latitude, good line width roughness and post-exposure delay stability (PED), and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、真空引き置き安定性（ＰＥＤ）を同時に満足するパターンを形成することが可能な感活性光線または感放射線樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The metallic foil 1 is manufactured by a method including at least such processes that resist ink is pattern- printed on a metallic sheet raw roll by rotary printing, a surface of the pattern- printed metallic foil sheet raw roll is processed by etching, and the resist ink is removed.例文帳に追加

こうした金属箔シート１は、金属箔シート原反上に、輪転印刷によってレジストインキをパターン印刷する工程と、パターン印刷された金属箔シート原反の表面をエッチング加工する工程と、レジストインキを除去する工程とを少なくとも有する方法で製造される。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can attain high sensitivity, a favorable pattern shape, favorable roughness characteristics and reduction of residue defects, and to provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin film therefrom and a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, with which a pattern having good corner proximity and fewer developing defects can be formed, and which causes little elution of an acid into an immersion liquid and shows proper properties to the immersion liquid, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a motor power supply apparatus which considers a time-dependent change pattern of the torque and the number of revolutions of a driving motor with a large load change and sets an electricity accumulating device and a power circuit in conformity with the time-dependent change pattern, thereby miniaturizing the electricity accumulating device and the power circuit, and to provide a method of producing the motor power supply apparatus.例文帳に追加

負荷変動の大きい駆動モータのトルクと回転数の時間変化パターンを考慮して、これに合わせて蓄電装置と電源回路を設定し、これにより蓄電装置と電源回路を小型化することができるモータ電力供給装置とその生産方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness property, and resolution of isolated space patterns, and allows formation of a pattern having a good profile, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立スペースパターンの解像性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a web with a positioning mark capable of printing the positioning mark at a point having a constant positional relation with a pattern on the web on which the pattern is coated with colorless ink, an adhesive, etc., and easily automating after-working of cutting, sealing, etc.例文帳に追加

無色のインキや接着剤などにより図柄が塗工された原反上の、図柄と一定の位置関係を有する箇所に位置合わせマークが印刷され、断裁やシールなどの後加工を容易に自動化することができる位置合わせマーク付き原反の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing a color filter comprises: an exposure step of exposing a total pattern to a photosensitive film; a developing step of forming a patterned film 30b by developing the total pattern-exposed photosensitive film; and a washing step of washing the patterned film 30b.例文帳に追加

全体パターンを感光膜に対して露光する露光工程と、全体パターンが露光された感光膜を現像してパターニングされた膜３０ｂを形成する現像工程と、パターニングされた膜３０ｂを洗浄する洗浄工程と、を備えるカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.例文帳に追加

微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for injection molding a light guide plate by using a synthetic resin by manufacturing a metal plate easy to mold a recess pattern part of the guide plate and having a pattern for efficiently reflecting a light and mounting the metal plate on one or both side surfaces of a cavity of a mold.例文帳に追加

導光板の凹状パターン部が成形しやすく、かつ、光を効率的に反射するパターンを有する金属板を作製し、該金属板を金型のキャビティ部の片面または両面に装着して、合成樹脂を用いて導光板を射出成形する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an acid transfer resin film-forming composition which obtains an acid transfer resin film superior in the selectivity of acid diffusion and in removability, and to provide an acid transfer resin film formed that uses the composition, and a pattern forming method which enables pattern formation by an existing photolithography process that uses the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the combination printing plate in which an overlapped part with a printing pattern forming part 4a of the screen 3 is eliminated, the overlapped part 3' with the printing pattern forming part 4a of the screen 3 is cut by fusion and eliminated by pressing a hot wire 9 heated at a specified temperature thereon.例文帳に追加

スクリーン３の印刷パターン形成部４ａと重なる部分を除去するようにしたコンビネーション印刷用版の製造方法において、上記スクリーン３の印刷パターン形成部４ａと重なる部分３′を、所定の温度に熱せられた熱線９を押し当てることにより溶断除去する。 - 特許庁

In the method for manufacturing temperature sensor elements each made of a thermocouple formed by joining two types of different materials to each other, a hook type pattern layer 1 and a hook type pattern layer 2 are formed by directly overlying a substrate 3 by screen printing in such a way that one may be overlaid on the other and then thermally treated.例文帳に追加

２種の異なる材料が接合されてなる熱電対からなる温度センサ素子の製造方法であって、かぎ型パターン層１およびかぎ型パターン層２を重ね合うようにスクリーン印刷により直接基板３上に積層形成した後、熱処理する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent PED (post exposure time delay) stability and allowing formation of a pattern with a good profile, and to provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＰＥＤ安定性に優れ、形状が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of judging the flow pattern of vapor-liquid two- phase flow in which the flow pattern of a vapor-liquid two-phase flow in piping, the inside of which cannot be observed visually, can be judged objectively with high correct rate (accuracy) from the outside without having any effect on the piping and its flow.例文帳に追加

内部が目視観察できない配管内の気液二相流のフローパターンを、配管およびその流れに影響を与えることなく、外部から高い正解率（精度）で、客観的に判別することができる気液二相流のフローパターン判別方法を提供する。 - 特許庁

An inhibit run length/inhibit pattern detecting section 21 detects an inhibit run length which is smaller than the lower limit value set by the run length coding method by one and a first inhibit run length which is positioned immediately before the inhibit run length and larger than the lower limit value from a bit pattern contained in the converted digital data.例文帳に追加

禁止ランレングス／禁止パターン検出部２１は、変換されたデジタルデータが含むビットパターンから、ランレングス符号化方式で設定された下限値よりも１だけ短い禁止ランレングスと、その直前に位置しかつ下限値よりも大きな第１ランレングスとを検出する。 - 特許庁

The method of etching a carbon-containing film includes a step of forming a mask pattern on a carbon-containing film to partially expose the top surface of the carbon-containing film, and anisotropically etching the carbon-containing film with a plasma of a mixture gas composed of O_2- and Si-containing gases using the mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

炭素含有膜上に炭素含有膜の上面を一部露出させるマスクパターンを形成し、マスクパターンをエッチングマスクとして利用して、Ｏ_２、及びＳｉ含有ガスからなる混合ガスのプラズマによって炭素含有膜を異方性エッチングする炭素含有膜エッチング方法である。 - 特許庁

A method of generating the modulation image on the basis of a source image to be modulated is disclosed to locate the pattern at the position of an image at which the pattern can interfere with a person viewing an illegitimate copy of a video sequence (e.g., photographed by a video camera).例文帳に追加

本発明に従って、映像シーケンス（例えば、ビデオカメラにより撮影された）の違法複写を見ている人を妨害することが可能である、画像の位置においてパターンを位置付けるように、変調されるソース画像に基づいて変調画像を生成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern detecting device and a pattern detecting method for suitably detecting an object to be recognized by suppressing the increase of processing costs, even when the size of an object to be recognized in image is different, depending on the image, and when the object to be recognized exists, while tilting.例文帳に追加

画像中の認識対象の大きさが画像によって異なっており、また当該認識対象が傾いて存在している場合であっても、処理コストを増加を抑えて、当該認識対象を好適に検出することができるパターン検出装置及びパターン検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a mold for nano-imprints, which forms a metal mold by reproducing a pattern on a resin layer when the production of a resin reproduction plate by methods such as an imprint while utilizing a high degree of freedom of the shape of a fine pattern using a silicon etching master is difficult.例文帳に追加

シリコンエッチングマスタを用いることによる微細パターン形状の自由度の高さを活かしつつ、インプリント等の方法で樹脂複製版を作製するのが困難な場合に、樹脂層にパターンを複製して金属モールドを形成するナノインプリント用モールドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of the decorative film having a transferring pattern layer through a peel ply on a base material sheet, the pattern layer is formed by piling up a colored layer printed with an inkjet printing equipment, and a hiding layer printed with a heat sensitive ribbon printing equipment.例文帳に追加

基材シート上に剥離層を介して転写用の図柄層を有する加飾用フィルムの製造方法であって、インクジェット印刷装置によって印刷される着色層と、感熱リボン印刷装置によって印刷される隠蔽層とを重ねることにより、図柄層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁

A manufacturing method of the SAW device comprises a pattern formation process for forming a conductor pattern including an interdigital electrode on a piezoelectric wafer in which the SAW device should be formed, and providing the alignment mark on the piezoelectric wafer; and a cutting process for cutting the piezoelectric wafer to divide the piezoelectric wafer.例文帳に追加

ＳＡＷ装置を形成すべき圧電ウェハ上に櫛形電極を含む導体パターンを形成すると共に、圧電ウェハ上にアライメントマークを設けるパターン形成工程と、圧電ウェハを切断して圧電ウェハを分割する切断工程とを含むＳＡＷ装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a good pattern shape excellent in roughness characteristics without film reduction or trailing, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性に優れ、且つ、膜減りや裾引きのない良好なパターン形状を形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which obtains a more exact adhesive amount by correcting reflected light output from a pattern used when calculating the adhesive amount by estimating reflection output from an image carrier covered with the pattern, and also to provide a control method, a control program, and a recording medium.例文帳に追加

付着量を算出する際に用いるパターンからの反射光出力を、パターンに覆われた像坦持体の反射出力を推測することで、補正し、より正確な付着量を求めることが出来る画像形成装置、制御方法、制御プログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the coating method, a multi-color pattern coating, having a hue with the same degree as that of a dark color part and containing two or more coloring particles having different hues, is applied to a substrate having the dark color part and bright color part so that the coloring particles are coated in a spotted pattern.例文帳に追加

本発明の塗装方法は、暗色部と明色部を有する基材に対し、暗色部と同程度の色相を有し、かつ、異なる色相を有する２種以上の着色粒子を含む多彩模様塗料を、着色粒子が斑点状となるように塗付することを特徴とする。 - 特許庁

In a calculation method for delay time of multi-valued logic, among logic varying patterns obtained from a truth table of notable cells, patterns varying at one level in an input logic are stored into a pattern file 4 for execution of circuit simulation and patterns varying at more than one level in the input logic are stored into a pattern file 5 for non-execution of circuit simulation.例文帳に追加

着目セルの真理値表から得られる論理変化パターンのうち入力論理が１レベル変化するパターンを回路シミュレーション実行パターンファイル４に、入力論理が複数レベル変化するパターンを回路シミュレーション非実行パターンファイル５にそれぞれ記憶する。 - 特許庁

The method includes a process (S12) of preparing a correction data for correcting a distortion of the image obtained from an image acquisition section; a process (S22) of acquiring a contour data of a desired pattern obtained from the image acquisition section; and a process (S23) of correcting the contour data of the desired pattern by using the correction data.例文帳に追加

画像取得部によって得られる画像の歪みを補正するための補正データを用意する工程（Ｓ１２）と、画像取得部によって得られた所望パターンの輪郭データを取得する工程（Ｓ２２）と、補正データを用いて所望パターンの輪郭データを補正する工程（Ｓ２３）と、を備える。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film from which a favorable resist pattern having high resolution can be obtained even on a support having a part made of copper on its surface, and to provide a method for manufacturing a thick film resist pattern.例文帳に追加

上面に銅によって形成された部分を有する支持体上においても高解像性を有し、良好なレジストパターンを得ることが可能な厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供することを提供すること。 - 特許庁

The thin film etching method includes steps of forming a thin film on a substrate, aligning a mask having a predefined pattern above the thin film, and selectively removing the thin film by irradiating the mask with a femtosecond laser on the front surface thereof to produce the defined pattern.例文帳に追加

基板上に薄膜を形成する段階と、この薄膜上部にパターン形状が定義されたマスクを整列する段階と、このマスクに定義されたパターン形状を有するように前面にフェムト秒レーザーを照射して薄膜を選択的に除去する段階とを備える。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory test pattern forming method by which an accurate semiconductor memory test pattern can be made based on semiconductor memory designer's semiconductor memory test specifications and its verification is facilitated and the semiconductor memory test specifications can also be formed.例文帳に追加

半導体メモリ設計者の半導体メモリ試験仕様にもとづいて正確な半導体メモリ試験パターンを作成することができ、その検証を容易になし得ると共に、半導体メモリ試験仕様書も生成することができる半導体メモリ試験パターンの作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and its use capable of forming a pattern comprising a polyimide coat of ≥20 μm thickness with high resolution upon development after exposure through a photomask, particularly to provide a method for forming a pattern comprising such a polyimide coat.例文帳に追加

フォトマスクを介して露光させた後、現像することによって、高解像度にて厚み２０μｍ以上のポリイミド被膜からなるパターンを形成することができる感光性樹脂組成物とその利用、特に、そのようなポリイミド被膜からなるパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

In the imaging image of the periodicity pattern, a threshold (n) is determined based on the maximum pixel value (n) in a region (n) of periods (n=1,2, and the like), and the region (n) is binarized with the threshold (n) to obtain an area (n) in the periodicity pattern-inspecting apparatus and method.例文帳に追加

周期性パターンの撮像画像において周期ｎ（ｎ＝１，２，・・・）の領域ｎにおける最大画素値ｎに基づいてしきい値ｎを定め、そのしきい値ｎで前記領域ｎを２値化することにより面積ｎを導出するようにした周期性パターン検査装置と方法。 - 特許庁

In the pattern arrangement method by which a device pattern is arranged in a device region 10 and process patterns 14a, 14b are arranged in a scribing line region 12 surrounding the device region, the process patterns 14a, 14b are arranged in a region outward away from the center line 13 of the scribing line region 12.例文帳に追加

デバイス領域１０にデバイスパターンを配置し、デバイス領域を囲うスクライブライン領域１２にプロセスパターン１４ａ、１４ｂを配置するパターン配置方法において、プロセスパターン１４ａ、１４ｂをスクライブライン領域１２の中心線１３よりも外側の領域に配置する。 - 特許庁

To provide a method of forming a phosphor pattern for a plasma display panel capable of stabilizing a phosphor form and improving a production efficiency in coating a phosphor paste, and in a case of forming a phosphor pattern through a screen printing process, capable of extending a life of a screen plate.例文帳に追加

蛍光体ペースト塗布時の蛍光体形状の安定化および生産効率の向上が可能であり、さらに、スクリーン印刷法を使用して蛍光体パターンを形成する場合にはスクリーン版の長寿命化が可能なプラズマディスプレイパネルの蛍光体パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating an acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent, and (d) a thermally acid generating agent, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

（ａ）特定の繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

By the manufacturing method of a transparent substrate with a circuit pattern, a circuit pattern is formed on the transparent substrate by the irradiation of a laser beam of a wavelength of 1,064 nm on the transparent substrate with a thin film having a transparent conductive film with a carrier concentration of 5×10^19/cm^3 or higher on the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板上にキャリア濃度が５×１０^１９／ｃｍ^３以上である透明導電膜を有する薄膜付き透明基板に、波長が１０６４ｎｍのレーザ光を照射して前記透明基板上に回路パターンを形成する、回路パターン付き透明基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed circuit board, which is effective in thinning of line and high precision of a circuit pattern in a build-up printed wiring board capable of high density wiring and high density mounting, by preventing thickening of etching margin of the circuit pattern caused by copper plating used in interlayer connection.例文帳に追加

高密度配線および高密度実装が可能なビルドアッププリント配線板において、層間接続のための銅めっきにより配線パターンのエッチング代が厚くなるのを阻止し、細線化と配線パターンの高精度化にも有効なプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and manufacturing system of a plasma display panel, by which positional misalignment can be determined with proper accuracy at any given location in the panel, and the substrates can be glued together with a high accuracy, because the actual transparent electrode pattern and rib pattern in a cell can be observed without relying on an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークによらず、セル内の実透明電極パターンとリブパターンとを観察可能であるため、精度良くまたパネル内の任意の箇所において位置ずれを確認でき、高精度の基板貼り合わせが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法及び製造システムを実現する。 - 特許庁

To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.例文帳に追加

光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and a visual inspection method capable of defect detection even in a domain other than a repeated pattern domain without generating a reference image, when detecting a defect appearing in the appearance of a substrate on whose surface an electric pattern is to be formed or has been formed.例文帳に追加

表面に電気的パターンが形成される、又は形成された基板の外観に現れる欠陥を検出する際に、基準画像を生成することなく、繰り返しパターン領域以外の領域においても欠陥検出が可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁