「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(100ページ目) - Weblio英語例文検索

The power supply controller 100 abstracts the features of the power consumption pattern of each plug socket part as a unit, and educes the relation between the power consumption value and the time from the features of this power consumption pattern, and makes a power supply pattern, based on this relation, and supplies each plug socket part with power, based on the power supply pattern.例文帳に追加

電源供給制御装置１００が、単体で各コンセント部の電力消費パターンの特徴を抽出し、この電力消費パターンの特徴から消費電力値と時間との関係を抽出し、この関係に基づいて電源供給パターンを作成して、該電源供給パターンに基づいて各コンセント部に対して電源供給を行う。 - 特許庁

Thus, since the number of the variation pattern commands to be prepared on the side of the main control part 200 can be made smaller than the number of the variation patterns to be executed in a performance pattern display means, the processing loads of selecting the variation pattern command on the main control part 200 are reduced, and the storage capacity of the variation pattern command is saved.例文帳に追加

これによって、主制御部２００側で予め用意しておく変動パターンコマンドの数を、演出図柄表示手段で実行される変動パターンの数よりも減らすことができるため、主制御部２００における変動パターンコマンドの選択処理負荷を低減できると共に、変動パターンコマンドの記憶容量を節約できる。 - 特許庁

The evaluation test device of the silicide film manufacturing process provided with a first pattern A comprising the crossing resistance pattern of a polycide layer formed on the field area 500 of the semiconductor board 500 and a second pattern B comprising the bridge resistance pattern of the polycide layer and the silicide layer formed on the active area 500a of the semiconductor board 500 is constituted.例文帳に追加

半導体基板５００のフィールド領域５００ｂ上に形成されたポリサイド層の交叉抵抗パターンから成る第１パターンＡと、半導体基板５００のアクティブ領域５００ａ上に形成されたポリサイド層及びシリサイド層のブリッジ抵抗パターンから成る第２パターンＢと、を備えたシリサイド膜製造工程の評価試験装置を構成する。 - 特許庁

In the etching method for etching a semiconductor substrate 1 to form a pattern, a pseudo pattern 3 is provided on the region of the semiconductor substrate 1 other than a region on which a desired pattern is formed, the end point of etching of the pseudo pattern 3 is monitored simultaneously with the etching, and the etching is terminated when the end point reaches a predetermined depth D.例文帳に追加

半導体基板１をエッチングしてパターンを形成するエッチング方法において、半導体基板１に形成する所望のパターンの領域以外に疑似パターン３を設け、エッチングと同時に疑似パターン３のエッチングの終点を監視し、この終点が所定の深さＤになったときに、エッチングを終了させることを特徴とする。 - 特許庁

The mask consists of plural masks for multiple exposure, into each of which at least one mark is formed, the mark pattern that consists of the marks of each mask is formed on a substrate plate, mask alignment in the succeeding processes using this mark pattern, and the pattern is formed by copying the mask pattern that is formed on the mask into the semiconductor substrate.例文帳に追加

また、前記マスクが多重露出のための複数のマスクからなり、前記複数のマスクの夫々に少なくとも１つのマークを形成し、夫々のマスクのマークからなるマークパターンを半導体基板に形成し、このマークパターンを用いて以降の工程のマスクの位置合わせを行ない、該マスクに形成されたマスクパターンを半導体基板に転写してパターンを形成する。 - 特許庁

On the side of reception, since a signal corresponding to the error pattern data is generated by the separated error pattern signal and subtracted from the received added output by a subtraction circuit 13, only a specified reception subscriber capable of generating the error pattern data based on the error pattern signal can read the relevant transmission data, and the confidentiality of communication can be secured.例文帳に追加

受信側では、分離した誤りパターン信号により、誤りパターンデータに対応した信号を生成し、減算回路１３において、受信加算出力から減算するので、誤りパターン信号に基づき誤りパターンデータを生成できる特定受信加入者のみが、該当の送信データを読み取ることができ、通信の秘匿性が確保できる。 - 特許庁

The exposure mask includes a substrate 10 having a mask pattern 11 as an exposure object, a monitoring pattern 12 disposed on the substrate 10, and a polarized light controlling element 20 disposed in the optical path of the monitoring pattern 12 on the substrate 10 and partially changing the polarization direction of polarized light illumination by 90 degrees irradiating the monitoring pattern 12.例文帳に追加

本発明では、露光対象となるマスクパターン１１を有する基材１０と、基材１０に設けられるモニタ用パターン１２と、基材１０におけるモニタ用パターン１２の光路上に設けられ、モニタ用パターン１２へ照射される偏光照明の一部の偏光方向を９０度変化させる偏光制御素子２０とを備える露光用マスクである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part.例文帳に追加

有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the electron beam-plotting technique for independently turning on and off each of a plurality of electron beams for scanning to plot a desired pattern on a sample, the deviation between a pattern that is plotted by each of the plurality of electron beams and the desired pattern to be plotted is controlled by shifting the position of pattern data that are drawn by each of the plurality of electron beams.例文帳に追加

複数の電子ビームの各々を独立にオンオフし走査して試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンと描画すべき前記所望のパターンとのずれを、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンのパターンデータの位置をシフトすることにより制御する。 - 特許庁

The apparatus is provided with a distance detecting device 6 equipped with a test pattern irradiating part 21 for irradiating a test pattern prepared for detecting the projection distance between the projection lens 11 and the projection screen, and also, equipped with an imaging part 22 for imaging the test pattern irradiated on the projection screen, for detecting the projection distance based on the test pattern imaged by the imaging part 22.例文帳に追加

投射レンズ１１と投射面との間の投射距離を検出するためのテストパターンを照射するテストパターン照射部２１と、投射面上に照射されたテストパターンを撮像するための撮像部２２とを有しこの撮像部２２によって撮像されたテストパターンから投射距離を検出するための距離検出装置６を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal photograph includes steps of preparing a substrate, applying a photoresist film thereon, exposing and developing the film by using a patterned film as a mask to pattern the photoresist film to form a photoresist pattern having a pattern corresponding to the film, forming a seed film on the substrate and the photoresist pattern, and producing a metal film on the seed film by LIGA techniques.例文帳に追加

金属写真の製作方法は、基板を提供して、それにフォトレジスト膜を塗布し、パターンを有するフィルムをマスクとして露光現像工程を行って、フォトレジスト膜をパターン化して、フィルムに対応するパターンのあるフォトレジストパターンを形成し、基板とフォトレジストパターンにシード膜を形成し、ＬＩＧＡ技術でシード膜に金属膜を形成するステップを含む。 - 特許庁

The FPC board 3 is provided with the conductor pattern 32 on the upper surface of a base film 31, and a land connection pattern 35 formed on the lower surface of the base film 31 oppositely to each land pattern 20B and being connected electrically with the conductor pattern 32 through a through-hole 33 wherein the upper surface is coated with a resist film 34.例文帳に追加

また、ＦＰＣ基板３は、ベースフィル３１の上面部に設けられる導体パターン３２と、ベースフィルム３１の下面部の各ランドパターン２０Ｂに対向する位置に形成されてスルーホール３３を介してこの導体パターン３２と電気的に接続されるランド接続パターン３５とが設けられ、上面部がレジスト膜３４で被覆されている。 - 特許庁

The method of manufacturing a printed circuit board includes: a process of forming a circuit pattern by discharging conductive ink on a carrier through inkjet printing; a process of heating and sintering the circuit pattern; and a process of transferring the circuit pattern by stacking the carrier on an insulation layer such that the circuit pattern is buried in the insulation layer.例文帳に追加

本発明に係る印刷回路基板の製造方法は、インクジェット方式を用いてキャリアに導電性インクを吐出して回路パターンを形成する工程と、回路パターンを加熱して焼結する工程と、回路パターンが絶縁層に埋め込まれるように、絶縁層にキャリアを積層して回路パターンを転写する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A conductive material precursor having at least a silver halide emulsion layer on an insulating substrate is subjected to exposure and development so that a silver pattern part containing a resin component and/or a non-silver pattern part containing a resin component are prepared, and then, a crosslinking agent for crosslinking the resin component is made to act on the silver pattern part and/or the non-silver pattern part.例文帳に追加

絶縁性基板上に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する導電性材料前駆体を露光、現像処理することで、樹脂成分を含有する銀パターンおよび／または樹脂成分を含有する非銀パターン部を設け、その後、該銀パターンおよび／または非銀パターン部に、該樹脂成分を架橋する架橋剤を作用させる。 - 特許庁

A direction angle of an individual pattern light forming the projected pattern light is calculated by the computer 3, based on an intensity value of the projected pattern light detected from the picked-up image, an intensity distribution is divided, a depth distance is calculated based on a phase value in each measuring point of a divided pattern, and the three-dimensional information is thereby obtained precisely.例文帳に追加

コンピュータ３により、撮像された画像から検出された投影パターン光の強度値から投影パターン光を形成している個別パターン光の方向角が算出されるとともに強度分布が分割され、分割されたパターンの各計測点における位相値から奥行き距離が算出されるので、精度の高い三次元情報を得ることができる。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

When the pattern of a photomask 4 is transferred on a semiconductor wafer using a scanner, transfer regions 7A and 7b, provided on different regions on the photomask 4 and constituted of the same pattern, are superposed on the same region on the wafer to contrive to expose the regions 7A and 7B.例文帳に追加

フォトマスク４のパターンをスキャナを用いて半導体ウエハ上に転写する際に、フォトマスク４の異なる領域に設けられた同一のパターン構成の転写領域７Ａ，７Ｂを、半導体ウエハの同一領域に重ねて露光するようにした。 - 特許庁

Then, a pattern is formed on the circuit board P to detect the conducting state of the both footboards 32, which are welded on a land of this pattern, and thus, the first connector C1 is fixed on the circuit board P.例文帳に追加

そして、回路基板Ｐ上に両脚部３２の導通状態を検知可能なパターンを形成し、このパターン上のランドに脚部３２をはんだ付けするこにより第１コネクタＣ１を回路基板Ｐに固定した。 - 特許庁

The image display in provided with a step for displaying a character from the memory on the display device, a step for generating an arbitrary pattern at coordinates on the display device, and a step for superposing the arbitrary pattern on the character from the memory.例文帳に追加

表示装置上にメモリからの文字を表示するステップと、前記表示装置上の座標に任意のパターンを作り出すステップと、前記メモリからの文字へ任意のパターンを重ね合わせるステップとを備えるようにする。 - 特許庁

On the resource side, the first on/off-pattern is compared with the second on/off-pattern and if they are matched with each other within a predetermined allowable range, the connection request is granted by forming a first comparison output.例文帳に追加

リソース側では、第１のオン／オフパターンと第２のオン／オフパターンの比較を行い、第１および第２のオン／オフパターンが所定の許容範囲内で一致するときは、第１の比較出力を形成し、接続要求を許可する。 - 特許庁

Image, formed previously on a recording sheet, can be concealed by forming a concealment pattern, based on the concealment pattern data at an image forming section, on the side of the recording sheet where the image is formed.例文帳に追加

そして、画像形成部において、記録用紙の画像が形成された面に対して隠蔽パターンデータに基づいて隠蔽パターンを形成することで、記録用紙に予め形成された画像を隠蔽することができる。 - 特許庁

Further, the correction value is acquired based on the density of pixels determined by printing a correction pattern on the medium and measuring the density of the pixels located on the same line of the correction pattern.例文帳に追加

そして、補正値は、補正用パターンを媒体上に印刷するとともに、補正用パターンの同じライン上の位置にある複数画素の濃度を測定し、この測定された複数画素の濃度に基づいて、取得される。 - 特許庁

The first terminal electrode 17 is connected to a feeding line formed on the printed board 20 and connected to a ground pattern formed on the printed board 20 through an inductance pattern formed on the printed board 20.例文帳に追加

第１の端子電極１７は、プリント基板２０上に形成された給電ラインに接続されると共に、プリント基板２０上に形成されたインダクタンスパターンを介してプリント基板上のグランドパターンに接続されている。 - 特許庁

The apparatus which detects a foreign body on a repetitive pattern part on a wafer by a refractive index change-type lens array, a spatial filter and a pattern-information removal circuit is provided, and the foreign body on the wafer being conveyed can be inspected.例文帳に追加

また、屈折率変化型のレンズアレイ、空間フィルタ、パターン情報除去回路により、ウェハ上の繰り返しパターン部上の異物を検出する装置を提供し、搬送途中のウェハ上異物検査を可能にした。 - 特許庁

Moreover, a uniform pattern can be obtained on the wafer by measuring an opening/closing ratio within the region influenced by flare can be measured based on the amount of flare of lens and then correcting (S8) the line widths of the mask pattern based on this opening/closing ratio.例文帳に追加

また、レンズのフレア量により、フレアの影響を受ける領域内にて開閉比を測定し、この開閉比により、マスクパターンの線幅を補正（Ｓ８）することにより、ウェーハ上部に均一なパターンが得られる。 - 特許庁

The display part displays the pattern on the display area in the cleaning mode for cleaning the input area, and the control part enhances the transparency of the pattern on the partial area, based on the signal of specifying the partial area.例文帳に追加

入力領域の清掃を行うための清掃モード時において、表示部は、パターンを表示領域に表示し、制御部は、部分領域を特定する信号に基づいて、部分領域上のパターンの透明度を上げる。 - 特許庁

To accurately detect a position of an alignment mark of a mask and a position of an alignment mark of an underlying pattern on a substrate by accurately focusing an image capturing device on the alignment mark of the mask and the alignment mark of the underlying pattern on the substrate.例文帳に追加

画像取得装置の焦点をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークに精度良く合わせて、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁

In this RFID tag, the circuit chip formed with a loop-like antenna coil on its principal face and the tag sheet formed with an antenna pattern on its principal face are prepared, and the circuit chip is mounted on the principal face of the tag sheet such that the circuit chip does not overlap the antenna pattern.例文帳に追加

ループ状のアンテナコイルが主面に形成された回路チップと、アンテナパターンが主面に形成されたタグシートとを用意し、回路チップをタグシートの主面にアンテナパターンと重ならないように搭載する。 - 特許庁

By controlling the flight of the spacers on the basis of the read-out information on the array pattern synchronously with the transit of a certain array pattern under the counter electrode 5, the spacers can be exactly dispersed on the black matrix.例文帳に追加

ある配列パターンが対向電極５を通過するのに同期して、その配列パターンの読み取り情報に基づいたスペーサーの飛翔を行うので、スペーサーを正確にブラックマトリックスの上方に散布することができる。 - 特許庁

On a polysilicon film 4 on a semiconductor substrate 1, a resist pattern 5a of a line shape is formed in a memory cell region S, and a dummy resist pattern 5b is formed on a region P excepting the memory cell region S.例文帳に追加

半導体基板１上のポリシリコン膜４上において、メモリセル領域Ｓではライン状のレジストパターン５ａが形成され、メモリセル領域Ｓ以外の領域Ｐではダミーのレジストパターン５ｂが形成される。 - 特許庁

Ultra-fine particles are jetted from a nozzle 11 and deposited on a substrate 3 via a plate-shaped mask 2 on which an opening pattern is formed, thereby forming on the substrate 3 the thin film having a shape corresponding to the opening pattern.例文帳に追加

開口パターンが形成された平板状のマスク２を介して、ノズル１１から噴射された超微粒子を基板３上に堆積させ、前記開口パターンに対応する形状の薄膜を基板３上に成膜する。 - 特許庁

In the image forming apparatus, an image pattern is formed on a photoreceptor and transfer material, and environmental contrast potential to be set is adjusted based on information on the image pattern read by a reading means.例文帳に追加

本発明の画像形成装置は、感光体上及び転写材上に画像パターンを形成し、読み取り手段によって読み取った画像パターンの情報に基づいて、設定予定の環境コントラスト電位を調整する。 - 特許庁

To improve plating property for a conductive pattern by removing glass constituent lifted on a conductive pattern on the surface of a substrate accompanying the calcination of a low-temperature calcination ceramic substrate while avoiding damage on the substrate due to chemical treatment.例文帳に追加

化学処理による基板への損傷を回避しつつ、低温焼成セラミック基板の焼成に伴い基板表面の導体パターンに浮き出すガラス成分を除去し、該導体パターンへのめっき性を良好にする。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by forming an emboss pattern on a film based on the polyester resin (a) and providing a surface protective layer comprising a coating film of the two pack type curable urethane resin on the emboss pattern.例文帳に追加

下記ポリエステル系樹脂（ａ）を主成分とするフィルムに、エンボス模様を形成し、前記エンボス模様上に、２液硬化型ウレタン樹脂の塗膜からなる表面保護層を設けたことを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

A pattern image P formed on a running body is imaged on a light incident face of the photodetector 100, and the pattern image P on the light incident face is moved in the x-axis direction in accordance with running of the running body.例文帳に追加

走行体に形成されたパターンの像Ｐが光検出器１００の光入射面上に結像され、走行体の走行に応じて、光入射面上のパターン像Ｐはｘ軸方向に移動する。 - 特許庁

To provide a printed matter with a character on a part of a color pattern in which by applying no restriction on a color pattern constituting the printed matter and constituting with a fine character utilizing a part of the color pattern, it is constituted of only the color pattern by the naked eyes, but it can be recognized only by those who know the information that the fine character exists on the genuine article.例文帳に追加

印刷物を構成する彩紋模様に制限をかけず、彩紋の一部を利用した微小な文字で構成することで、肉眼では単に彩紋模様が構成されているように認識されるが、その情報を知っている者に限り、真正品には当該微小文字の存在が認識可能な彩紋の一部に文字を有した印刷物を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device has a circuit substrate; a semiconductor chip disposed on a first main surface of the circuit substrate; a wiring pattern provided on the first main surface for performing signal transfer with the semiconductor chip; a power supply pattern provided on the first main surface between the chip and the wiring patter; and metallic thin wires for connecting the chip, the wiring pattern, and the power supply pattern.例文帳に追加

回路基板と、回路基板の第１主面に配置された半導体チップと、第１主面に配置された、半導体チップに対して信号の送受信を行う配線パターンと、第１主面のうち半導体チップと配線パターンの間に配置された電源パターンと、半導体チップと配線パターン及び電源パターンとをそれぞれ接続する金属細線とを有する。 - 特許庁

In an exposing method of projecting an exposure light image of a pattern formed on a mask onto a substrate to form a transfer pattern of the pattern on the substrate, the transfer pattern is measured, and the exposure light image is adjusted according to a mask expansion/contraction correction value calculated based on a mask expansion/contraction variation amount calculated by correcting a predetermined contribution amount when projected for a result of measurement.例文帳に追加

マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して前記基板に前記パターンの転写パターンを形成する露光方法であって、前記転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスクの伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて前記露光光像を調整する。 - 特許庁

A striped pattern of the phosphor formed on the substrate is imaged, and the direction of the striped pattern of the phosphor is detected from an image signal acquired by imaging, and image data on at least two spots related to the direction of the pattern from the image signal are compared, and the defect of the pattern is detected based on the comparison result.例文帳に追加

基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像し、撮像により得られる画像信号から上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出し、上記画像信号から上記パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較し、上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出することからなるパターン欠陥検査方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device, using a damascene wiring forming method of forming a wiring pattern by selectively burying a metal film in a trench or hole pattern formed on an insulation film, comprises a step of forming a metal film on the entire surface including the trench or hole pattern, forming a film on the metal film, and polishing off this formed film and the metal film outside the trench or hole pattern.例文帳に追加

絶縁膜に形成された溝もしくは孔パターン内に選択的に金属膜を埋め込むことにより配線パターンを形成するダマシン配線形成法を用いた半導体装置の製造方法において、前記溝もしくは孔パターンを含む全面に金属膜を形成し、前記金属膜上に皮膜を形成し、この皮膜と溝もしくは孔パターン外の金属膜とを研磨除去する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the artificial lipid membrane on the micropore of the substrate, lipid pattern 5 is formed on the circumference of the micropore 4 formed on the substrate 1, the lipid pattern 5 is expanded by means of the electroformation method, the expanded lipid pattern is allowed to fuse together, and the fused lipid pattern of the each micropore further expands and form a dome-shaped lipid membrane 7 with no organic solvent.例文帳に追加

基板の微小孔上の人工脂質膜の作製方法において、基板１に形成された微小孔４の外周に脂質パターン５を形成し、この脂質パターン５をエレクトロフォーメーション法により膨らませ、この膨らんだ脂質パターンは溶合し、この溶合した前記微小孔毎の脂質パターンは更に膨張しドーム形状の無有機溶媒の脂質膜７を作製する。 - 特許庁

The image data processing apparatus 4 specifies the position of the dot pattern on the basis of the positional information of the dot pattern after 50% reduction magnification calculated by the ground tint pattern position storage device 18, paints out the position (S16) and outputs the image data to a plotter 7 (S17).例文帳に追加

画像データ処理装置４は、地紋位置記憶装置１８で算出した５０％縮小変倍後のドットパターンの位置情報を基にドットパターンの位置を特定し、その個所を塗り潰して（Ｓ１６）、プロッタ装置７にて出力する（Ｓ１７）。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive composition which forms a fine pattern without causing chipping and undercut of a pattern edge even with a small amount of light exposure or generating undissolved residues and scum on a pattern edge in development.例文帳に追加

低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能である新規な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

A deposition pattern restoration device is provided with a removal means 107 for irradiating the deposition pattern of a top layer among the respective deposition patterns formed in layers on a substrate 83 with ion beams and removing at least a part of the deposition pattern of the top layer.例文帳に追加

基板８３上に層状に形成された各成膜パターンのうち最上層の成膜パターンにイオンビームを照射して、少なくとも前記最上層の成膜パターンの一部を除去する除去手段１０７を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The purpose is attained, in such a manner that signs of error are arranged in an error pattern, the error pattern is logically connected to one matrix or plural matrices, and the matrix/matrices includes/include information on the error pattern of the physical errors.例文帳に追加

上記課題は、エラー徴候はエラーパターンに配列され、エラーパターンは１つ又は複数のマトリクスに論理的に結合され、これらのマトリクスは既知の物理的エラーのエラーパターンに関する情報を含むことを特徴とするによって解決される。 - 特許庁