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pattern on patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29471件
Within a scribe line 13, a dummy pattern 14 is formed in the vicinity of an overlap accuracy measuring mark comprising a first layer pattern 11 formed on a semiconductor substrate and a second layer pattern 12 as a resist pattern and, as the result, the resist pattern 10 in the vicinity of the overlap accuracy measuring mark is arranged to be symmetrical to the overlap accuracy measuring mark.例文帳に追加
スクライブライン13内において、半導体基板上に形成された第1層のパターン11とレジストパターンで形成される第2層のパターン12とからなる重ね合わせ精度測定マークの周辺にダミーパターン14を形成することにより、重ね合わせ精度測定マークの周辺のレジストパターン10を重ね合わせ精度測定マークに対して対称に配置する。 - 特許庁
The method for forming a resist pattern includes steps of forming a photoresist pattern from a resist film with exposure and development, swelling a resist insoluble layer formed on the front surface of the photoresist pattern with the vapor of resist solvent sprayed from a nozzle 12 within the thermal flow apparatus 10, and shrinking the photoresist pattern attained by swelling the resist insoluble layer by heating the same pattern with a hot plate 11 for thermal flow.例文帳に追加
レジストパターン形成方法は、露光及び現像により、レジスト膜からフォトレジストパターンを形成する工程と、サーマルフロー装置10内で、フォトレジストパターンの表面に形成されたレジスト難溶化層を、ノズル12から噴霧するレジスト溶剤の蒸気で膨潤させる工程と、レジスト難溶化層を膨潤させたフォトレジストパターンを、ホットプレート11で加熱し、サーマルフローさせてシュリンクする工程とを有する。 - 特許庁
The phase-change memory element includes a word line extended in one direction on a substrate, a first semiconductor pattern disposed on the word line, a node electrode disposed on the first semiconductor pattern, a Schottky diode formed between the first semiconductor pattern and the node electrode, and a phase-change resistor disposed on the node electrode.例文帳に追加
基板上に一方向に延伸しているワードラインと、ワードライン上に位置する第1半導体パターンと、第1半導体パターン上に位置するノード電極と、第1半導体パターンとノード電極との間に形成されたショットキーダイオードと、ノード電極上に位置する相変化抵抗体と、を備える半導体メモリ素子。 - 特許庁
A similar pattern applying means 103 has the function of forming customer evaluation data 108 on the whole customers by using the similar pattern data recorded on the similar pattern recording means 102, and data 107 on a purchase history on customers other than the sampling customers among the plurality of customers becoming the population.例文帳に追加
類推パターン適用手段103は、該類推パターン記録手段102に記録された類推パターンデータと、母集団となる複数の顧客のうちサンプリング顧客以外の顧客に関する購買履歴に関するデータ107とを用いて、全顧客に関する顧客評価データ108を生成する機能を有する。 - 特許庁
The imprint method performs multiple times: a step of transferring an indented pattern on an imprint material by bringing the indented pattern formed on the template into contact with the imprinted material on a substrate; and a step of imaging the indented pattern formed on the template after the transferring step, or the imprint material.例文帳に追加
実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。 - 特許庁
The method for printing the pattern on a processing base comprises the steps of placing a screen formed with a screen print pattern mask on the base, then coating the overall surface of the screen with an ink, thereafter spraying the ink by a high pressure gas from a mesh part of the screen to a printer material, and dropping the ink on the base, thereby printing the pattern on the base.例文帳に追加
スクリーン印刷パターンマスクを形成したスクリーンを加工基板上に載せ、その後スクリーンの全面にインクを塗布し、そしてその後、高圧ガスによりインクを前記スクリーンにおけるメッシュ部分から機材に吹き付け、これによりインクを加工基板上に落として、加工基板上にパターン印刷を行うことを特徴とする。 - 特許庁
Specifically, when superposing a projection image of a mask pattern on a reticle 20 on a transfer pattern on a semiconductor substrate 21 using a reduced projection exposure method, the rotational shift in an exposure shot region is corrected in accordance with a measurement value of a transitional shift in the exposure shot region in a transfer pattern on the semiconductor substrate.例文帳に追加
即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板21上の転写パターンへレチクル20上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 - 特許庁
An electrode pattern 40 for display, a first voltage applying circuit to apply voltage between the electrode pattern 40 for display and a transparent electrode 80, and a wiring pattern 60 to electrically conduct between the first voltage applying circuit and the electrode pattern 40 for display are mounted on the rear face 10b side of a substrate 10.例文帳に追加
基板10の裏面10b側に、表示用電極パターン40と、この表示用電極パターン40と透明電極80との間に電圧を印加するための第1電圧印加回路と、この第1電圧印加回路と表示用電極パターン40とを電気的に導通させる配線パターン60とが設けられている。 - 特許庁
A rugged pattern 18 corresponding to preformat information (for example, a servo signal), a rugged pattern 20 corresponding to the manufacturing history information of the master disk, and a rugged pattern 22 corresponding to the positioning information associated with the rugged pattern position corresponding to the manufacturing history information are formed on the master disk 10.例文帳に追加
【解決手段】マスターディスク10には、プリフォーマット情報(例えばサーボ信号)に対応する凹凸パターン18と、マスターディスクの製造履歴情報に対応する凹凸パターン20と、製造履歴情報に対応する凹凸パターン位置に関連づけた位置決め情報に対応する凹凸パターン22と、がパターン形成されている。 - 特許庁
To provide a new semiconductor pattern formation device that suppresses a minute vibration of a holding substrate and achieves high pattern position precision in a semiconductor circuit pattern formation device, having a means for forming a circuit pattern of a semiconductor device on the surface of a substrate, and a means for holding the substrate when forming patterns.例文帳に追加
本発明は、基板の表面に半導体装置の回路パターンを形成する手段とパターン形成時に前記基板を保持する手段とを有する半導体回路パターン形成装置において、保持基板の微少な振動を抑制し、高精度なパターン位置精度を実現した新規な半導体回路パターン形成装置にある。 - 特許庁
For example, if a unit pattern has no corresponding function in a certain use mode setting, the unit pattern is displayed as such, or if a unit pattern represents different equipment depending on the set use mode, the corresponding equipment is displayed as the unit pattern.例文帳に追加
たとえば、設定された使用モードに応じて対応する機能が存在しない単位図形について、その単位図形の表示をその旨がわかるような表示としたり、設定された使用モードに応じて対応する機器が異なる単位図形について、その単位図形の表示を、対応する機器を示すような表示とする。 - 特許庁
To provide a pattern coater capable of not only forming an uncoated pattern having a fixed spacing on a web such as a paper, a non-woven fabric, a film and a gauge as previously practiced, but also rendering a gap of the uncoated pattern variable in the same apparatus and forming the uncoated pattern in a slanting direction continuously at a low cost.例文帳に追加
紙、不織布、フィルム、ガーゼなどのウェブに対し、従来行われてきた一定間隔の未塗工パターンを設けることはもとより、同一の装置で未塗工パターンの間隙を可変させることや、コーティング面に連続で斜めに未塗工パターンを安価に設けることを可能なパターン塗工機を提供する。 - 特許庁
After the lapse of prescribed time, a special pattern G10 showing the lottery result of this time is made to appear from the mouth of the sun B11, that special pattern G10 becomes gradually bigger as leaving away from the mouth of the sun B11 and when the pattern becomes maximum, it is finally displayed on the lower part of the screen as a determined pattern G13.例文帳に追加
そして、所定時間経過後に、太陽B11の口から今回の抽選結果を示す特別図柄G10が出現し、その特別図柄G10は、太陽B11の口から遠ざかるにつれて次第に大きくなり、最大になったところで、画面の下部に確定図柄G13として確定表示される。 - 特許庁
When a display state in the variable display device 310 becomes the one disadvantageous to the player after becoming the ready-for-winning state, a hiding pattern for hiding a ready-for-winning pattern in the variable display device 310 appears on condition that a predicting pattern is displayed in the normal pattern display device 140.例文帳に追加
可変表示装置310における表示態様がリーチ態様を経た後に遊技者にとって不利な表示態様になったとき、普通図柄表示装置140に予告図柄が表示されることを条件に、可変表示装置310におけるリーチ図柄を隠蔽する隠蔽図柄を出現させる。 - 特許庁
The pattern transfer mask 10 is manufactured by correction including shift in the X and Y directions, rotation around the Z axis, and magnification in the X and Y directions and/or orthogonality of a circuit pattern P so that the circuit pattern P overlaps on the all defects DF in the mask blank as an intermediate material before forming the pattern.例文帳に追加
パターン転写用マスク10は、パターン形成前の中間材であるマスクブランクスの全ての欠陥DFに回路パターンPが重なるように、回路パターンPのXY方向へのシフト、Z軸回りの回転、及び、XY方向の倍率及び/又は直交を含む補正を行って作製されている。 - 特許庁
On the other hand, when any of retained variation displays is judged a blank and a variation pattern used for variation display of the last discrimination information is a REACH variation pattern, the game is controlled not to select a REACH variation pattern or to lower a probability to select a REACH variation pattern than an ordinary game.例文帳に追加
一方、保留されている変動表示のいずれもがハズレとなるとの判定がなされており、かつ、前回の識別情報の変動表示に用いられた変動パターンがリーチ変動パターンであったときには、変動パターンとして、リーチ変動パターンを選択しない又は選択する確率を低くするように制御する。 - 特許庁
To provide an ink for forming a conductor pattern with excellent delivery stability of a liquid drop capable of preventing generation of a crack and disconnection on the formed conductor pattern, to provide a conductor pattern with high reliability, and to provided a wiring substrate with high reliability provided with such a conductor pattern.例文帳に追加
液滴の吐出安定性に優れ、形成される導体パターンでのクラック、断線の発生を防止することができる導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、このような導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供すること。 - 特許庁
At the time of position detection for detecting the projected image of the first reticle pattern RP1 through the first sensor pattern, light quantity change within a region whose area is fixed in the projected image of the second reticle pattern RP1 is monitored through the second sensor pattern, and the result of the position detection is specified based on the monitored result.例文帳に追加
前記第1レチクルパターンRP1の投影像を前記第1センサパターンを介して検出する位置検出時には、前記第2センサパターンを介して前記第2レチクルパターンRP1の投影像における一定面積の領域内の光量変化を監視し、その監視結果に基づいて前記位置検出の結果を規格化する。 - 特許庁
The pattern forming device 1 is provided with a stage 3 for holding a substrate 9, a discharging part 42 for discharging a pattern-forming material toward the substrate 9, an ionizer 45 for imparting ions to the discharged pattern-forming material, and a charge measurement part 46 for measuring charge volume of the pattern-forming material on the substrate 9.例文帳に追加
パターン形成装置1は、基板9を保持するステージ3、基板9に向けてパターン形成材料を吐出する吐出部42、吐出されたパターン形成材料にイオンを付与するイオナイザ45、および、基板9上のパターン形成材料の帯電量を測定する電荷測定部46を備える。 - 特許庁
The coated surface inspection apparatus is provided with: a contrast pattern 8 opposed to the coated surface; an irradiation means for irradiating the coated surface with inspecting light based on the contrast pattern 8 from the contrast pattern 8; and an imaging means 4 for imaging the contrast pattern 8 by receiving the inspecting light irradiated from the irradiation means and reflected at the coated surface.例文帳に追加
塗装面に対向するように配置された明暗パターン8、明暗パターン8に基づく検査光を明暗パターン8から塗装面に照射する照射手段、照射手段から照射され塗装面で反射した検査光を受けて明暗パターン8を撮像する撮像手段4を備える。 - 特許庁
The correction value calculation device includes: a correction pattern forming part for forming a correction pattern in a yellow color to a medium; a correction pattern read part for acquiring color information in blue by reading the correction pattern; and a correction value calculation part for calculating the correction value of the density of the yellow color on the basis of the color information of the blue.例文帳に追加
イエローで補正用パターンを媒体に形成する補正パターン形成部と、前記補正用パターンを読み取ることによって、ブルーの色情報を取得する補正パターン読取部と、前記ブルーの色情報に基づいて、前記イエローの濃度の補正値を算出する補正値算出部と、を備える。 - 特許庁
When a display state in the variable display device 310 becomes the one disadvantageous to the player after becoming the ready-for-winning state, a prescribed hiding pattern for hiding a ready-for-winning pattern in the variable display device 310 appears on condition that a prescribed predicting pattern is displayed in the normal pattern display device 140.例文帳に追加
可変表示装置310における表示態様がリーチ態様を経た後に遊技者にとって不利な表示態様になったとき、普通図柄表示装置140に所定の予告図柄が表示されることを条件に、可変表示装置310におけるリーチ図柄を隠蔽するための所定の隠蔽図柄を出現させる。 - 特許庁
Linewidth on an active layer is set so as to be Li in the mask pattern of the first layer, and set so as to be L' in the mask pattern of the second layer, and anisotropic etching using the mask pattern of the second layer and anisotropic etching using the mask pattern of the first layer are successively carried out so that a hat shape gate can be formed by self-align.例文帳に追加
活性層上における線幅を、第1層のマスクパターンではLi、第2層のマスクパターンではL’となるように設定し、第2層のマスクパターンを用いた異方性エッチング、第1層のマスクパターンを用いた異方性エッチングを順に行うことにより、ハットシェープゲートをセルフアラインで形成できる。 - 特許庁
An adjusting part 203 inputs the actions of a robot based on the time series pattern outputted by the output part 202 and the time series pattern to be acquired from direct teaching by a user about the actions, and adjusts the time series pattern to be outputted by the output part 202 according to the inputted time series pattern.例文帳に追加
調整部203は、出力部202から出力された時系列パターンに基づくロボットの行動とその行動に対するユーザによる直接教示から得られる時系列パターンを入力するとともに、入力した時系列パターンに応じて、出力部202が出力する時系列パターンを調整する。 - 特許庁
The defect inspection method for a resist pattern includes (a) a step of forming the resist pattern on a semiconductor substrate, (b) a step of etching the semiconductor substrate with the resist pattern used as a mask, and (c) a step of inspecting the etched semiconductor substrate for a defect as a substitute of the resist pattern.例文帳に追加
本発明のレジストパターンの欠陥検査方法は、(a)半導体基板上にレジストパターンを形成する工程と、(b)前記レジストパターンをマスクとして用いて半導体基板をエッチングする工程と、(c)レジストパターンの代替えとして前記エッチング後の半導体基板の欠陥検査を行う工程を備える。 - 特許庁
A first drive signal for ejecting ink is applied to a piezoelectric element for the ON pattern of a print pattern, and a second drive signal for oscillating a meniscus at the forward end of a nozzle so that the meniscus does not dry up but not ejecting ink is applied to the piezoelectric element for the OFF pattern of the print pattern.例文帳に追加
印刷柄のONパターンに対してはインクを吐出する第1駆動信号を圧電素子に印加し、印刷柄のOFFパターンに対してはノズル先端のメニスカスを乾燥させない程度にメニスカスを振動させるがインクを吐出しない第2駆動信号を圧電素子に印加する建築板印刷装置。 - 特許庁
The conductive pattern forming method comprises transferring the printing pattern formed by filling the conductive paste in a recessed portion of an intaglio plate to the surface of a base material via the surface of the transfer printer whose surface is formed of a silicone rubber to form the conductive pattern corresponding to the pattern of the intaglio plate on the surface of the base material.例文帳に追加
導電パターンの形成方法は、上記導電性ペーストを凹版の凹部に充てんして形成した印刷パターンを、その表面をシリコーンゴムにて形成した転写体の表面を介して基材表面に転写させて、基材表面に、凹版のパターンに対応した導電パターンを形成する。 - 特許庁
The initial resist pattern 22 in the lattice shape is anisotropically etched by using a method for plasma etching etc., to form a lattice-shaped resist pattern 23 which is reduced in line width and further the plasma etching is carried on to form a resist pattern 24 in a pillar shape and a pillar-shaped resist pattern 25 of desired shape at an intersection part.例文帳に追加
プラズマエッチングなどの手法を用いて、格子状の初期レジストパターン22を等方的にエッチングし、線幅が縮小された格子状レジストパターン23を、さらに、プラズマエッチングをさらに進め、交点部にピラー形状のレジストパターン24及び所望の寸法のピラー形状レジストパターン25を形成する。 - 特許庁
As the coated article, the substrate provided with the decoration pattern formed by the recession/projection surface is coated in the pattern surface facing in a constant direction; and further, coating by different colors on every pattern surface facing in a constant direction is applied onto the substrate provided with the decoration pattern formed with the recession/projection surfaces.例文帳に追加
塗装品として、凹凸面により形成された装飾模様を刻設した基材に、一定方向に面する模様面に塗装を施すことを特徴とし、また、凹凸面により形成された装飾模様を刻設した基材に、一定方向に面する模様面毎に異なる色による塗装を施すことを特徴とする。 - 特許庁
Since a mirror base 3 is just inserted vertically into a groove 20 formed on a substrate 1 and it is enough to plate the intersection part where a 1st wiring pattern 22 and a 2nd wiring pattern 23 cross each other at right angles, the bonding operation between the 1st wiring pattern 22 and the 2nd wiring pattern 23 is not necessary and the manufacture becomes simple.例文帳に追加
基板1に形成された溝20にミラーベース3を垂直に挿入し、第1の配線パターン22と第2の配線パターン23とが直交する交差部をめっきするだけでよいので、第1の配線パターン22と第2の配線パターン23との間のボンディング作業が不要となり、製造が容易となる。 - 特許庁
The image forming apparatus for forming an image on the basis of image data attached with design pattern image data representing design patterns manifested by copying discriminates whether or not the image data are attached with the design pattern image data and limits image processing affecting the attached design pattern image data when it is discriminated that the design pattern image data are attached to the image data.例文帳に追加
複写により顕像化される地紋を示す地紋画像データを付加した画像データに基づき画像を形成する画像形成装置で、地紋画像データが付加されるか否かを判定し、地紋画像データが付加されると判定された場合に、付加される地紋画像データに影響する画像処理を制限する。 - 特許庁
In this case, the special pattern display device performs the demonstration pattern fluctuation 117 of a super ready-to-win state until receiving the TID instruction command (TID=0) 191, then selects a second half performance based on a fluctuation pattern ID and TID and performs the demonstration pattern fluctuation 118 of the selected second half performance C0 for τ_0 seconds.例文帳に追加
この場合、特別図柄表示装置は、TID指示コマンド(TID=0)コマンド191を受信するまで、スーパーリーチのデモ図柄変動117を行い、次いで変動パターンIDとTIDとに基づいた後半演出を選択し、選択した後半演出C0のデモ図柄変動118をτ_0秒間行う。 - 特許庁
To provide a polysiloxane resin composition for forming a reversed pattern and being properly embedded in a gap of a mask pattern which is excels in resistance to dry etching and in preservation stability, without being mixed with a mask pattern formed on a substrate to be processed, and to provide a method for forming the inverted pattern which uses the composition.例文帳に追加
被加工基板上に形成されたマスクパターンとミキシングすることがなく、かつこのマスクパターンの間隙に良好に埋め込むことができ、ドライエッチング耐性及び保存安定性に優れる反転パターン形成用のポリシロキサン樹脂組成物及びこれを用いた反転パターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide ink for conductor pattern formation, which can be stably ejected from a droplet ejection head and can prevent defective conduction from occurring on a formed conductor pattern, to provide the conductor pattern having high reliability, and to provide a wiring board which is provided with such a conductor pattern and has high reliability.例文帳に追加
液滴吐出ヘッドから安定して吐出することができるとともに、形成される導体パターンに導通不良が発生するのを防止することができる導体パターン形成用インクの提供、信頼性の高い導体パターンの提供、および、このような導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供。 - 特許庁
Furthermore, the semiconductor device 100 has a second organic insulation film 3 formed on the first metal pattern, an aperture (opening 15) formed in the second organic insulation film 3 to reach the first metal pattern, and a second metal pattern (seed metal 19 and a barrier metal 5) connected with the first metal pattern through the aperture.例文帳に追加
更に、第1の金属パターン上に形成された第2の有機絶縁膜3と、第2の有機絶縁膜3に形成され第1の金属パターンに達する開口部(開口部15)と、この開口部を介して第1の金属パターンに接続された第2の金属パターン(シードメタル19及びバリアメタル5)を有する。 - 特許庁
A transfer layer pattern 3 is formed by pressing a mold; then, a patterned film 4 is formed on the transfer layer pattern 3; and thereafter, the transfer layer pattern 3 is removed, and etching is performed from the association interface (indicated by a dotted line) at the formation of the patterned film 4 to etch the patterned film 4 into a final pattern 7.例文帳に追加
モールドを押し付けて形成した転写層パターン3を形成し、転写層パターン3に被パターン形成膜4を形成し、その後、転写層パターン3を除去して、被パターン形成膜4形成時の会合界面(点線部)からエッチングを進行させて、被パターン形成膜4をエッチングして最終パターン7を形成する。 - 特許庁
This method of generating an uneven pattern is provided as a method of forming patterns in which uneven patterns in a template are filled with resist materials, and the depth of the uneven pattern formed in the template is adjusted or the uneven pattern is divided based on the relation between the size or shape of the uneven pattern and the charge time of the resist material.例文帳に追加
テンプレートの凹凸パターンにレジスト材料を充填するパターン形成方法に用いられる凹凸パターンの生成方法であって、凹凸パターンの寸法又は形状とレジスト材料の充填時間の関係に基づいて、テンプレートに形成する凹凸パターンの深さを調整する、又は、凹凸パターンを分割する。 - 特許庁
A threshold is determined based on the extraction position of a collation pattern extracted from a reduced image and the size of the collation pattern (S109), and when the collation pattern is determined to be a face (S106), and the determined threshold is larger than a predetermined value, the collation pattern is determined to be a face area (S110).例文帳に追加
縮小画像から抽出した照合パターンの抽出位置と、この照合パターンのサイズとに基づいて閾値を求め(S109)、照合パターンが顔であると判断し(S106)、且つ求めた閾値が所定の値よりも大きい場合に、この照合パターンが顔の領域であると判断する(S110)。 - 特許庁
This method of manufacturing a wiring board includes a sheet-forming step of forming an insulating sheet, a pattern forming step of forming a predetermined pattern on the insulating film by using photosetting photosensitive paste by means of screen printing method, and an exposing step of curing the pattern by projecting light toward the pattern.例文帳に追加
本製造方法は、絶縁性シートを形成するシート作成工程と、上記絶縁性シートに、スクリーン印刷法により、光により硬化する感光性ペーストを、予め定められたパターンに形成するパターン形成工程と、上記パターンに向けて露光することで該パターンを硬化させる露光工程と、を備える。 - 特許庁
A pattern is transferred to a resist film 12 on a wafer 11 with a reduced-projection exposure method, using a half-tone phase shift mask, formed by a translucent phase shift pattern comprising a thin film pattern 2a which has the function of dimmer body and a resist pattern 3a, having the function of photosensitive composite for adjusting the phase.例文帳に追加
減光体としての機能を有する薄膜パターン2aと、位相調整用の感光性組成物としての機能を有するレジストパターン3aとを有する半透明位相シフトパターンが形成されたハーフトン位相シフトマスクを用いた縮小投影露光法によって、ウエハ11上のレジスト膜12にパターンを転写する。 - 特許庁
A conductive pattern 6 consisting of a center pattern 7 with a number of first segment patterns 8 formed in all directions and a circular pattern 9 with a number of second segment patterns 10 formed in all directions surrounding the center pattern 7 and interposed between each two first segment patterns 8 at an inner periphery part is formed on a printed wiring board 2.例文帳に追加
プリント配線基板2に、多数個の第1セグメントパターン8が放射状に形成されたセンタパターン7と、このセンタパターン7を囲み内周部に各第1のセグメントパターン8間に介在する多数個の第2のセグメントパターン10が放射状に形成された環状パターン9とからなる導体パターン6を形成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a color filter in which when a pattern is formed by photolithography using a colored photosensitive resin composition, the side faces of the edges of the pattern are shaped by removing an uncured colored photosensitive resin composition remaining on the side faces and the edges of the pattern are shaved to make the pattern fine.例文帳に追加
着色感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターンを形成する際に、前記パターンの端部側面に残存する未硬化の着色感光性樹脂組成物を除去し、整形することに加え、パターンの端部から削り取ることで精細化するカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
[2] The method for forming a resist pattern includes a step for obtaining a resist film by applying the negative type photosensitive composition defined by [1] on a base material, a step for pattern-exposing the obtained resist film, and a step for forming a resist pattern by developing the resist film after the pattern-exposure and by dissolving and removing the unexposed resist film.例文帳に追加
[2][1]記載のネガ型感光性組成物を基材上に塗布してレジスト膜を得る工程と、得られたレジスト膜をパターン露光する工程と、パターン露光後のレジスト膜を現像して未露光部のレジスト膜を溶解除去してレジストパターンを形成する工程とを有することを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 特許庁
The image forming apparatus generates first image data whose background has been eliminated that was to be eliminated of background pattern and second image data whose background has not been eliminated from image data, generated on the basis of the original attached with a design pattern, comprising a latent image pattern and the background pattern in copying the original in the background elimination off state.例文帳に追加
下地除去オフ状態での原稿の複写に際し、潜像パターンと背景パターンとからなる地紋が付加された原稿に基づき作成された画像データから、背景パターンを除去すべく下地除去された第1の画像データと、下地除去されていない第2の画像データとを作成する。 - 特許庁
The vibrating cloth 1 has cloth 2 on which a prescribed wire pattern 3 is formed by conductive materials and can be vibrated by electromagnetic force to be applied to the wire pattern 3 by generating a magnetic field crossing the wire pattern 3 by using a magnetic field generation means 6 and supplying drive current to the wire pattern 3.例文帳に追加
導電材により所定の導線パターン3が形成された布地2を有し、磁界発生手段6を用いて導線パターン3を横切る磁界を発生させるとともに導線パターン3に駆動電流を供給することで導線パターン3に加わる電磁力により振動し得る振動クロス1を解決手段とする。 - 特許庁
The method of forming the conductive baked material pattern is the method of forming the conductive baked material pattern by forming a pattern of the resin composition containing the base metal on a base material and by baking the pattern in the atmosphere, and a temperature elevation speed at baking is 10 °C/min. or more.例文帳に追加
本発明にかかる導電性焼成物パターンの形成方法は、基材上に卑金属を含む樹脂組成物のパターンを形成し、そのパターンを大気中で焼成して導電性焼成物パターンを形成する方法であって、焼成時の昇温速度が10℃/分以上であることを特徴とする。 - 特許庁
The multilayer board, where a wiring pattern is formed on the surface or inner layer comprises: an inner layer wiring pattern 8 having a carbon connection section 28 that can be cut by applying laser beams 1; and a surface layer wiring pattern 9 connected to the inner layer wiring pattern 8 via through holes 14, 16.例文帳に追加
表面及び内層に配線パターンが形成された多層基板において、レーザ光1の照射により切断することが可能なカーボン接続部28を有する内層の配線パターン8と、内層の配線パターン8にスルーホール14、16を介して接続されてある表面の配線パターン9とを備える。 - 特許庁
A digital watermark pattern generating part 4 generates a digital watermark pattern by segmenting a section on a random pattern in an original pattern storing part 6 indicated by location information corresponding to embedding information sent from an embedding information storing part 10, and embeds it into image data sent from an original image storing part 12.例文帳に追加
電子透かしパターン生成部4は、埋め込み情報格納部10から送られてくる埋め込み情報に対応する位置情報で示される元パターン記憶部6内のランダムパターン上の領域を切り出して電子透かしパターンを生成し、これを元画像格納部12から送られてくる画像データに埋め込む。 - 特許庁
Further, on the second glass plate 2, the common electrode wiring 5_c which is part of the common electrode pattern 5 is formed in a space between the segment electrode wirings 4_b(segment electrode pattern 4 in the area 32) which are a part of the segment electrode pattern 4 disposed without overlapping the common electrode pattern 5.例文帳に追加
また、第2のガラス基板2には、セグメント電極パターン4のうちコモン電極パターン5と重ならないように配置される部分であるセグメント電極引き廻し配線4_b(領域32内のセグメント電極パターン4)間の隙間領域に、コモン電極パターン5の一部であるコモン電極引き廻しダミー配線5_cが形成されている。 - 特許庁
The control section of this electronic equipment 10 makes the analyzing section analyze whether a comparison voice pattern is included in an inputted voice signal or not, takes out an appropriate response voice pattern from the response voice pattern storing area 34 based on the result, and makes the voice output section output the response voice pattern.例文帳に追加
この電子機器10の制御部は、入力された音声信号に比較音声パターンが含まれているか否かを解析部によって解析させ、その結果に基づいて応答音声パターン記憶エリア34から適切な応答音声パターンを取り出し、その応答音声パターンを音声出力部によって出力させる。 - 特許庁
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