「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(97ページ目) - Weblio英語例文検索

of kabuki actors, the action of drawing a pattern on one's face with coloured paints in order to exaggerate one facial expressions 例文帳に追加

歌舞伎役者が,表情を誇張するため,紅や青の絵の具で,顔面に模様を描くこと - EDR日英対訳辞書

a pattern drawn on the face with red or blue coloured paints to exaggerate the appearance of a kabuki actor 例文帳に追加

歌舞伎役者が表情を誇張するため,紅や青の絵の具で顔面に描いた模様 - EDR日英対訳辞書

Therefore, a command from the main base 41 does not generate a malfunction on the picture pattern display base 44.例文帳に追加

このため、主基板４１からのコマンドが図柄表示基板４４で誤作動を生じない。 - 特許庁

Further, a reflection type mask is obtained by forming a pattern on the absorbing medium of the reflection type mask blank.例文帳に追加

また、この反射型マスクブランクの吸収体膜にパターンを形成して反射型マスクを得る。 - 特許庁

To accurately detect a defect of a pattern in a unit region repeatedly disposed on a substrate.例文帳に追加

基板上に繰り返し設けられる単位領域のパターンの欠陥を精度よく検出する。 - 特許庁

The position of the hole that is formed in the bonding layer coincides with that of a bump on the first conductive pattern.例文帳に追加

接着層に形成された穴の位置は、第１導体パターン上のバンプの位置と一致する。 - 特許庁

A mask pattern for decimation processing having different decimation rate is prepared depending on the density of an original image.例文帳に追加

原画像の濃度に応じて間引き率の異なる間引き処理用のマスクパターンを用意する。 - 特許庁

In the step 2, a liquid sulfurated silicone rubber 24 at room temperature is allowed to flow on the pattern layer of the mold 10.例文帳に追加

ステップ２は、液状の室温の硫化シリコーンゴム２４を金型１０のパターン層に流す。 - 特許庁

As a result, an emission distribution pattern A of the light is lied on an almost whole area of the transparent substrate 2.例文帳に追加

その結果、光の出射分布パターンＡは透明基板２のほぼ全域に渡ることとなる。 - 特許庁

A main pattern 101 transferred by exposure is laid on a transmissive substrate 100.例文帳に追加

透過性基板１００の上に、露光により転写される主パターン１０１が設けられている。 - 特許庁

Thus, the binarization pattern can be easily corrected and confirmed on a monitor.例文帳に追加

これらにより、２値化パターンをモニタ上で容易に修正および確認することができるようになる。 - 特許庁

The removed portions form a pattern that many dots 7 are scattered on the thin film.例文帳に追加

除去部の形成は、薄膜を多数のドット７ が散在するパターンにパターニングするように、行った。 - 特許庁

A lyophilic pattern having a ring-like lyophilic portion is formed on a base material surface.例文帳に追加

これにより基材表面にリング状の親液部を有する親液性パターンが形成される。 - 特許庁

STRUCTURE AND METHOD FOR PRINTING ON MEDIUM SURFACE WITH DOT PATTERN PRINTED AND FORMED THEREON, AND READING METHOD THEREOF例文帳に追加

ドットパターンを印刷形成した媒体面の印刷構造、印刷方法、およびその読取方法 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH RESIST PATTERN IS FORMED例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

A conductive pattern 13 of prescribed form is formed on the surface of the insulating layer 12.例文帳に追加

そして、所定の形状の導電パターン１３が、絶縁層１２の表面に形成されている。 - 特許庁

Further, development or others are carried out and a pattern 130a is formed on the resist layer 130.例文帳に追加

さらに現像等の処理を行い、レジスト層１３０上にパターン１３０ａを形成する。 - 特許庁

The embossing system 30 is an apparatus for forming the rugged pattern on the original roll 20 by embossing.例文帳に追加

エンボス加工システム３０は、エンボス加工によって原反２０に凹凸柄を形成する装置である。 - 特許庁

A pattern of protrusions and recesses (recess 7a) is formed on the surface of the translucent conductive layer 7.例文帳に追加

この透光性導電層７の表面に凹凸のパターン（凹部７ａ）が形成されている。 - 特許庁

On the surface of the flexible printed board 16, a protective film 32 covering a conductive pattern 27 is formed.例文帳に追加

フレキシブルプリント基板１６の表面には、導電パターン２７を覆う保護膜３２が形成される。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process in which the metal film is etched by a first reactive etching with the resist pattern as a mask to form a metal film pattern, a process where a transparent substrate is etched by a second reactive etching with the resist pattern and the metal film pattern as masks to form a pattern on the transparent substrate, and a process for removing the metal film pattern.例文帳に追加

第１の反応性エッチングにより前記金属膜を前記レジストパターンをマスクとしてエッチングし金属膜パターンを形成する工程と、第２の反応性エッチングにより前記透過性基板を前記レジストパターンと前記金属膜パターンとをマスクとしてエッチングし前記透過性基板上にパターンを形成する工程と、前記金属膜パターンを除去する工程と、を具備することを特徴とする位相変調素子の製造方法である。 - 特許庁

This method of manufacturing the sub master mold 20 from a master pattern mold 30 for imprint having grooves corresponding to the minute pattern includes a minute pattern dimension fluctuation process of performing dry etching using oxygen gas with respect to a resist layer 4 which is formed on a hard mask layer formed on a substrate 1 for the sub master mold and to which the minute pattern of the master pattern mold 30 is transferred.例文帳に追加

微細パターンに対応する溝が設けられたインプリント用の元型モールド３０からサブマスターモールド２０を製造する方法において、前記サブマスターモールド用の基板１上にはハードマスク層が形成され、前記ハードマスク層上に形成され且つ元型モールドの微細パターンが転写されたレジスト層４に対して、酸素ガスを用いたドライエッチングを行う微細パターン寸法変動工程を有する。 - 特許庁

An electromagnetic wave shield sheet has a conductive part 10 between an electromagnetic wave shield pattern A formed on one surface 102 of a base material 1 having ink permeability and an electromagnetic wave shield pattern B formed on the other surface 103 of the base material 1, and is formed with an electromagnetic wave shield pattern C of a lattice-like shape by the electromagnetic wave shield pattern A and the electromagnetic wave shield pattern B.例文帳に追加

インキ浸透性のある基材１の一方の面１０２に形成された電磁波遮蔽パターンＡと、その基材１の他方の面１０３に形成された電磁波遮蔽パターンＢとの導通部分１０をその基材１の内部に有し、その電磁波遮蔽パターンＡとその電磁波遮蔽パターンＢとにより格子状の電磁波遮蔽パターンＣが形成されている電磁波遮蔽シートにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

A pattern formation method includes the steps of: placing a target object on the substrate; bringing the uneven pattern 21 into contact with the target object using the imprinting template 110 made of a resin having the uneven pattern formed on the pedestal base 10; and releasing the imprinting template 110 from the target object and imprinting the pattern shape of the uneven pattern 21 onto the object after the object is cured.例文帳に追加

基板上に被転写物を設ける工程と、台座基板１０に形成された樹脂による凹凸パターンを有するインプリント用テンプレート１１０を用い、凹凸パターン２１を被転写物に接触させる工程と、被転写物を硬化させた後、インプリント用テンプレート１１０を被転写物から離型し、被転写物に凹凸パターン２１の形状を転写する工程と、を備えたパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide conductive paste capable of forming an excellent conductive pattern by an intaglio offset printing method, having both excellent transferability of the print pattern from an intaglio to an object and excellent transferability of the print pattern from the transfered object to a print object, and to provide a forming method for the conductive pattern using it, for forming the excellent conductive pattern on the printed object.例文帳に追加

印刷パターンの、凹版から転写体への転写性と、転写体から被印刷物への転写性の両方に優れ、凹版オフセット印刷法によって、これまでにない良好な導電性パターンを形成できる導電性ペーストと、それを用いた、被印刷物上に良好な導電性パターンを形成するための導電性パターンの形成方法とを提供する。 - 特許庁

A display control means for controlling the variable display device performs initial pattern display in the variable display corresponding to a command from a game control means at the time of the power supply, and in the case of receiving a fluctuation pattern command from the game control means before an initial pattern is displayed, interrupts control for displaying the initial pattern and shifts to fluctuation control based on the fluctuation pattern command.例文帳に追加

可変表示装置を制御する表示制御手段は、電源投入時に、遊技制御手段からのコマンドに応じて可変表示における初期図柄表示を行うが、初期図柄が表示される前に遊技制御手段から変動パターンコマンドを受信した場合には、初期図柄を表示するための制御を中断して、変動パターンコマンドにもとづく変動制御に移行する。 - 特許庁

By preparing 202 an intermediate pattern based on a special filter, then generating 204 the pattern of the dither matrix for which the elements provided with the value equal to 1 are less than the intermediate pattern, then generating 206 the pattern of the dither matrix for which the elements provided with the value equal to 0 are less than the intermediate pattern and further, adding all the generated patterns, the dither matrix is generated 208.例文帳に追加

ディザーマトリクスは、まず、特別なフィルタに基づいて中間パターンを作成することによって生成し、次に、１に等しい値を有する要素が中間パターンより少ないディザーマトリクスのパターンを生成し、次に、０に等しい値を有する要素が中間パターンより少ないディザーマトリクスのパターンを生成し、さらに、生成された全てのパターンを加算することにより形成される。 - 特許庁

In a game machine such as a Pachinko machine or an arrange ball machine, the pattern fluctuation to perform fluctuation by using a plurality of patterns for lottery display can be displayed on a display part, and an alarm part is provided for alarming about the continuation of pattern fluctuation when a state of not recognizing switching from a certain pattern for lottery display to the next pattern for lottery display occurs during the pattern fluctuation.例文帳に追加

パチンコ機やアレンジボール機等の遊技機に関し、複数個の抽選表示用図柄を用いて変動を行う図柄変動を表示部で表示可能に構成するとともに、ある抽選表示用図柄から次の抽選表示用図柄に切り替わることを認識できない状態が図柄変動中に発生すると図柄変動の継続中を報知する報知部を備える。 - 特許庁

Further, after the laminated film of the transfer film is formed by transferring so as to abut the inorganic pigment layer on a substrate and the resist layer is subjected to exposure processing, a resist pattern is manifested by carrying out development processing, an inorganic pigment pattern and a phosphor pattern corresponding to the resist pattern are formed, and firing processing is carried out, thereby simply and efficiently forming the inorganic pattern.例文帳に追加

また、前記転写フィルムの積層膜を、基板上に無機顔料層が当接するように転写して形成し、レジスト層を露光処理した後、現像処理してレジストパターンを顕在化させ、該レジストパターンに対応する無機顔料パターンおよび蛍光体パターンを形成し、焼成処理することにより、無機パターンを簡便かつ効率的に形成することができる。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

The pattern fixing process favorably contains a process in which a photosensitive organic material is impregnated in the pattern layer, a process in which the pattern layer impregnated with the photosensitive organic material is exposed to light, a process in which the carbon nanotube is exposed by removing the photosensitive organic material on the surface of the pattern layer, and a process in which the photosensitive organic material in the pattern layer is cured.例文帳に追加

パターン固定工程は、感光性有機材料をパターン層内に含浸させる工程と、感光性有機材料が含浸したパターン層を露光する工程と、パターン層表面の感光性有機材料を除去してカーボンナノチューブをパターン層表面に露出させる工程と、パターン層内部の感光性有機材料を硬化させる工程と、を含むことが好ましい。 - 特許庁

To provide a magnetic pattern recognition method, its device, an information recording medium and a composite processor capable of recognizing a magnetic pattern of a bent state and a magnetic pattern of a non-bent state which are printed on check paper by converting the peak interval of a detecting magnetic waveform acquired from the magnetic pattern into a bar interval pattern.例文帳に追加

磁気パターンの取得した検出磁気波形のピーク間隔をバー間隔パターンに変換することによって、チェック用紙上に印刷された折り曲げられた状態の磁気パターン及び折り曲げれていない状態の磁気パターンを、数字及び記号として認識する磁気パターンの認識方法、情報記録媒体、磁気パターン認識装置及び複合処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method for forming a resist pattern on a support by two or more patterning operations using a chemically-amplified resist composition, to reduce damage from the second patterning to the first resist pattern formed by the first patterning, and a resist composition useful for forming the first resist pattern in the resist pattern forming method.例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物を用い、パターニングを２回以上行って支持体上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、２回目のパターニングが、１回目のパターニングで形成した第一のレジストパターンに与えるダメージを低減できるレジストパターン形成方法、および該レジストパターン形成方法における第一のレジストパターン形成用として有用なレジスト組成物の提供。 - 特許庁

The method for preparing metal powder includes the steps of: providing a base substrate 100; forming a pattern layer 110, having a concavo-convex pattern of a predetermined shape, on the base substrate 100; forming a metal film 120a separated from the pattern layer 110 by the concave-convex pattern 111; and separating the metal film 120a from the pattern layer 110, thereby naturally patterning the metal film 120a in the predetermined shape.例文帳に追加

ベース基板１００を用意し、該ベース基板１００上に一定な形状の凹凸パターン１１１のパターン層１１０を形成し、該パターン層１１０上に該凹凸パターン１１１により互いに分離された金属薄膜１２０ａを形成し、該パターン層１１０から該金属薄膜１２０ａを分離することによって自然に該金属薄膜１２０ａを該一定な形状にパターニングする。 - 特許庁

In case of comparing an input waveform data pattern with a plurality of internal waveform data patterns whose pattern start time is different, when there exists a plurality of internal waveform data patterns whose number of errors is smaller than a prescribed value, a feature section data pattern generation part 28 generates a feature section data pattern including the code of a feature section including a prescribed time based on the pattern start time of the plurality of internal waveform data patterns.例文帳に追加

入力波形データパターンと、パターン開始時刻が異なる複数の内部波形データパターンとの比較において、エラー数が所定より小さい内部波形データパターンが複数存在する場合に、特徴区間データパターン生成部２８は、複数の内部波形データパターンのパターン開始時刻に基づいて、所定の時刻を含む特徴区間の符号を含む特徴区間データパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern formed body, which allows high precision pattern formation, in which aftertreatment subsequent to exposure is unnecessary and further which is without fear of any adverse effect of a photocatalyst on the pattern formed body itself because no photocatalyst is contained inside the manufactured pattern formed body in the manufacturing of the pattern formed body.例文帳に追加

本発明は、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の光触媒による影響の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The TMR element manufacturing method is provided with: a resist pattern formation process for forming a resist pattern on a generated TMR film; a first ion milling process for performing the ion milling using the resist pattern as a mask; a slimming process for slimming the resist pattern; and a second ion milling process for performing the ion milling of the TMR film again using the slimmed resist pattern as the mask.例文帳に追加

本発明のＴＭＲ素子製造方法は、生成したＴＭＲ膜上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、レジストパターンをマスクとしてＴＭＲ膜をイオンミリングする第１イオンミリング工程と、レジストパターンのスリミングを行うスリミング工程と、スリミングされたレジストパターンをマスクとしてＴＭＲ膜を再びイオンミリングする第２イオンミリング工程と、を備えるよう構成する。 - 特許庁

A morpheme analysis of an input sentence to be patterned is taken, the name of a pattern taking grammatical role that the natural language pattern takes is estimated according to the morpheme analysis result, and information on the morphemes obtained by the morpheme analysis is expanded at the parts of the pattern constitution elements while made to correspond to the estimated pattern name, thereby generating the natural language pattern.例文帳に追加

そして、パターン化の対象となる入力文に対し形態素解析を行い、形態素解析結果に基づき、自然言語パターンが果たす文法的役割を表すパターン名を推定し、推定されたパターン名に対応付け、パターン構成要素の部分に、形態素解析による形態素の情報を展開させることにより自然言語パターンを生成することを特徴とする。 - 特許庁

A data generating apparatus converts a description format of basic pattern CAD data into XML to generate pattern formation data 91, adds a rule addition index 912 representing pattern formation conditions and an object pattern element to the pattern formation data 91, and further adds a correction rule as a correction rule part 913 acquired from a database, based on the rule addition index 912.例文帳に追加

データ生成装置では、基礎パターンＣＡＤデータの記述形式がＸＭＬに変換されてパターン形成用データ９１が生成され、パターン形成用データ９１には、パターン形成条件および対象パターン要素を示すルール付加用インデックス９１２が付加され、さらに、ルール付加用インデックス９１２に基づいてデータベースから取得された補正ルールが補正ルール部９１３として付加される。 - 特許庁

The method includes the step of preparing an object file management framework for establishing a standard interface between a vender-supplied pattern compiler and the module type test system, receiving a pattern source file, preparing a pattern object metafile on the basis of the pattern source file by using the object file management framework, and testing the device to be tested, through the test module by using the pattern object metafile.例文帳に追加

ベンダ供給パターンコンパイラとモジュール式試験システムとの間に標準インターフェースを確立するためのオブジェクトファイル管理フレームワークを作成すること、パターンソースファイルを受信すること、オブジェクトファイル管理フレームワークを用いて、パターンソースファイルに基づいてパターンオブジェクトメタファイルを作成すること、及びパターンオブジェクトメタファイルを用いて試験モジュールを通して被試験デバイスを試験する。 - 特許庁

The resist pattern forming method comprises the steps of forming a resist film on a substrate, exposing the resist film so as to form a pattern, developing the resist film, applying radiation to the whole surface or part of the surface of the resist pattern after developed, and baking the resist pattern after the radiation irradiation to vary a size of the pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上にレジスト膜を形成する工程と、パターンを形成するように該レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程と、該現像後のレジストパターンの全面または一部面に放射線を照射する工程と、該放射線照射後のレジストパターンにベークを施して該パターンの寸法を変化させる工程とを包含する、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist pattern by using the above resist composition on a surface to be processed and then applying a resist pattern thickening material to cover the surface of the resist pattern, and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching with the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に前記レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うようにレジストパターン厚肉化材料を塗布することにより該レジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、該厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

When a base material 2, a colored layer 3 and a pattern layer 4 are successively laminated and a surface protective layer 7 is formed on the pattern layer by using an ionizing radiation curable resin compsn., a cured uniform coating film layer 5 and a negative pattern 6 lower in permeability or a liquid repelling positive pattern having a property repelling paint are interposed between the pattern layer and the surface protective layer.例文帳に追加

基材２、着色層３、および模様層４を順に積層した上に、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて表面保護層７を形成する際に、間に、硬化した一様均一な塗膜層５と、その上に、浸透性がより低いネガパターン６または塗料をはじく性質のある撥液性ポジパターンを介在させることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a pattern forming body, capable of forming a pattern highly accurately upon manufacturing a pattern forming body and not requiring any treatment after exposure while capable of forming a pattern directly based on digital data such as AD or the like and a device, employed upon forming the pattern, is comparatively inexpensive and is facilitated in handling.例文帳に追加

パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつＣＡＤ等のデジタルデータに基づいて直接パターンを形成することが可能であり、さらにパターン形成に際して用いる装置が比較的安価で取り扱いやすい装置であるパターン形成体の製造法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The method of lithography patterning includes: forming a first resist pattern including a plurality of openings, on a substrate 110; forming a second resist pattern including at least one opening between the plurality of openings of the first resist pattern; and removing the first resist pattern to expose a part of the substrate 110 covered by the first resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィパターンの形成方法は、複数の開口を含む第１のレジストパターンを基板１１０上に形成する工程と、第１のレジストパターンの複数の開口の間に、少なくとも１つの開口を含む第２のレジストパターンを形成する工程と、第１のレジストパターンを除去し、第１のレジストパターンで覆われている基板１１０の一部を露出させる工程と、を含む。 - 特許庁