「pattern processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern forming device 1 detects a position or the like of a head 29 of the processing part 2 by the camera 7 and detects an impact position or the like of ink on the substrate 13 by the camera 21.例文帳に追加

パターン形成装置１は、カメラ７により加工部２のヘッド２９の位置等を検出し、カメラ２１により基板１３におけるインクの着弾位置等を検出する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus wherein a valve opening and closing pattern can be written into a valve controller without requiring manpower, and logging a high-speed switching operation of valves can be logged.例文帳に追加

人手を介さずにバルブ制御装置にバルブ開閉パターンを書き込むことができ、バルブの高速な切り替え動作をロギングできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of executing updating processing of speed fluctuation pattern, even without carrying out an image forming operation that would have a belt member undergo a single rotation.例文帳に追加

ベルト部材が一回転するような画像形成動作が行われなくても、速度変動パターン更新処理を実施することのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of precisely transferring a pattern while suppressing environmental variation even if a liquid flows out of a substrate when exposure processing is performed by a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁

Next, the position information is converted into a bit pattern on the basis of pixel data corresponding to the position of the central point of each calculated module (S404), and data module search processing is finished.例文帳に追加

次に、算出した各モジュールの中心点の位置に対応する画素データに基づいて、ビットパターンに変換し（Ｓ４０４）、データモジュール探索処理を終了する。 - 特許庁

In advance notice selection processing (Step S717), it is determined whether a fluctuation time is reduced or not from a fluctuation display pattern command sent from a main board 101.例文帳に追加

予告選択処理（ステップＳ７１７）において、主基板１０１から送信された変動表示パターンコマンドにもとづいて変動時間を短縮するか否かを判別する。 - 特許庁

At an advance notice selection processing (step S717), based on a variable display pattern command transmitted from the main board 101, it is judged whether the variation time should be shortened or not.例文帳に追加

予告選択処理（ステップＳ７１７）において、主基板１０１から送信された変動表示パターンコマンドにもとづいて変動時間を短縮するか否かを判別する。 - 特許庁

Subsequently, the magnetic layer is subjected to cutting processing with the nanoparticle film as a mask (c), and the nanoparticle film is removed to form a fine pattern 2 with a recessed and protruding shape on the magnetic layer (d).例文帳に追加

その後、ナノ粒子膜をマスクにして磁性層を切削加工し（ｃ）、ナノ粒子膜を除去して磁性層に凹凸形状を持った微細パターン２を形成する（ｄ）。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical device having a micro uneven pattern which can be formed in various three-dimensional shapes with good processing precision and made into a thin film.例文帳に追加

種々の３次元形状を加工精度がよく形成でき、薄膜化できるマイクロ凹凸パターンを有する光学素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Non-electrolytic plating processing is conducted to a wiring pattern 12 provided on a base substrate 10 by utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に無電解メッキ処理を行う。 - 特許庁

The authentication device performs authentication processing of the authentication information and transmits the results of authentication of the authentication information and woven pattern information corresponding to the authentication information to the image forming apparatus.例文帳に追加

認証装置は認証情報を認証処理し、画像形成装置に認証情報の認証結果および認証情報に対応する地紋情報を送信する。 - 特許庁

A trench is formed in the insulation layer 18 with pattern processing, and a via opening part is formed in the trench to reach one of the inner semiconductor device structure through the insulation layer.例文帳に追加

トレンチを絶縁層内にパターン加工で形成し、バイア開口部をトレンチ内に絶縁層を通して下側の半導体装置構造のうちの一つまで形成する。 - 特許庁

An image forming apparatus 100 forms a toner pattern on an intermediate transfer belt 11 as pre-processing of tone correction, and calculates as to which cycle has the largest density unevenness.例文帳に追加

画像形成装置１００は、階調補正の前処理として、中間転写ベルト１１上にトナーパターンを作成し、どの周期の濃度ムラが最も大きいかを算出する。 - 特許庁

In the genetic algorithm processing part 4, the adaptability of each gene is discriminated based on the multi-valued dither output level of each pattern to advance optimization of the multi-valued dither matrix.例文帳に追加

遺伝的アルゴリズム処理部４内では各パターンの多値ディザ出力レベルを元に各遺伝子の適応度判定が行なわれ、多値ディザマトリックスの最適化が進められる。 - 特許庁

To provide a photo mask pattern data creating method for efficiently selecting a cell conducting OPC (Optical Proximity Correction) processing and specifying a cell considered to be equivalent to the cell.例文帳に追加

ＯＰＣ処理を行うセルを効率よく選択し、そのセルと等価であるとみなされるセルを特定するフォトマスクパターンデータの作成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an inspection device efficiently and reliably checking a conductor area and a via interval in a conductor pattern without requiring any complicated processing.例文帳に追加

複雑な処理を必要とすることなく、導体パターン内の導体面積及びビア間隔のチェックを効率的かつ確実に行うことが可能な検査装置を提供する。 - 特許庁

The first two-fluid nozzle 9 delivers a nitrogen gas at a small flow rate, so that processing to prevent damage on a pattern can be executed for a wafer W.例文帳に追加

第１二流体ノズル９からは小流量で窒素ガスが吐出されるようになっており、パターンへのダメージを抑制した処理をウエハＷに施すことができる。 - 特許庁

PATTERN DATA, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, LOGO IMAGE OUTPUT APPARATUS, VOICE OUTPUT DEVICE, VIDEO IMAGE OUTPUT DEVICE, LOGO PICTURE OUTPUT METHOD, LOGO PICTURE OUTPUT PROGRAM AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

パターンデータ、情報処理装置、ロゴ画像出力装置、音声出力装置、映像出力装置、ロゴ画像出力方法、ロゴ画像出力プログラムおよび記録媒体 - 特許庁

The pattern CPU 311 implements an overwrite flesh for sequentially redeveloping the raw image data developed in the resident areas partially between the normal processing operations.例文帳に追加

そして、図柄ＣＰＵ３１１は、常駐エリアに展開された素材画像データに対して通常処理の合間に部分的に順次再展開する上書きリフレッシュを実施する。 - 特許庁

The processing control part 15 samples the phonetic signal that is provided by the amplifier 13 at specified hours and compares it with a cutting signal pattern stored in a storage unit 14.例文帳に追加

処理制御部１５は、増幅器１３から供給される音声信号を所定時間サンプリングし、記憶部１４に記憶された切削信号パターンと比較する。 - 特許庁

A character, a mark or a pattern to be transferred and formed to the surface of a molded product is carved in the surface (2) before the laser processing of the electroforming master (1) using a laser beam (4).例文帳に追加

電鋳マスタ（１）のレーザ加工前の表面（２）に、成型品の表面に転写形成されるべき文字、記号又は模様を、レーザビーム（４）を用いて刻印する。 - 特許庁

The signal processing unit decides a pitch and sound volume from a signal pattern and a level received by the light receiving unit array, and sequentially outputs the decided sound from the sound source unit.例文帳に追加

信号処理ユニットは、受光ユニット列の受信した信号パターンとレベルから音高、音量を決定し、決定した音を逐次音源ユニットから出力する。 - 特許庁

To provide a method for reducing defects, particularly pattern collapse of semiconductor devices occurring during the manufacturing process without sacrificing a throughput, and to provide a processing solution therefor.例文帳に追加

製造中に生じる半導体デバイスの欠陥、特にパターンのつぶれを、スループットを犠牲にすることなく低減するための方法とそのための処理溶液を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing apparatus for a thermoplastic sheet by which wrinkles and bends at both end parts of the sheet can be prevented from occurring when an embossing pattern is formed on the thermoplastic sheet.例文帳に追加

熱可塑性シートにエンボスパターンを形成する際に、シートの両端部のシワや折れ曲がりを防止することが可能な熱可塑性シートの加工装置を提供する。 - 特許庁

This translucent processing is repeated, thereby sequentially opaquely displaying only the pattern to be established and translucent displaying the other special patterns.例文帳に追加

この半透明化処理が繰り返し実行されることで、確定対象図柄のみを順次不透明表示とし、その他の特別図柄を半透明表示することになる。 - 特許庁

The image processing section processes images captured by an imaging means to permit the recognition and chase of a blood vessel pattern of the conjunctiva and/or sclera.例文帳に追加

画像処理部は、眼球の結膜及び／又は強膜の血管模様を認識及び追跡可能なように撮像手段により撮像される画像を画像処理する。 - 特許庁

In the case of depressing the stop key when producing the resist pattern (S26) and arithmetically processing the resist correction value (S38) are performed, renewal of the resist correction value is immediately interrupted.例文帳に追加

レジストパターン作成（Ｓ２６）、レジスト補正値演算処理（Ｓ３８）が行なわれているときに、ストップキーが押下された場合には、直ちにレジスト補正値の更新を中断する。 - 特許庁

A sub CPU executes task setting processing associated with a designated variation pattern, and sets a task corresponding to an input instruction command as a task to be executed.例文帳に追加

サブＣＰＵは、指定された変動パターンに対応付けられたタスク設定処理を実行し、入力した指示コマンドに対応するタスクを実行するタスクとして設定する。 - 特許庁

In a single image reconfiguration processing part 104, the compound eye image of the imaged blood vessel pattern is reconfigured into a single image by using parallax between the ommatidium images.例文帳に追加

単一画像再構成処理部１０４において、撮像された血管パターンの複眼像は、その個眼像間の視差を利用して単一画像に再構成される。 - 特許庁

Then, each test pattern is displayed at the ROI position of the medical image to be displayed and the adjustment processing of the display gradation characteristic of the medical image displaying apparatus is executed (a step S4).例文帳に追加

次に、表示対象となる医用画像のＲＯＩ位置に各テストパターンを表示し、医用画像表示装置の表示階調特性調整処理を行う（ステップＳ４）。 - 特許庁

A control section 52 carries out processing for restraining the feature pattern or the measuring region from being set as the region out of guarantee according to the result of determination.例文帳に追加

制御部５２は、この判定の結果に応じて、特徴パターンまたは測定領域が保証外領域に設定されるのを抑制するための処理を実行する。 - 特許庁

To shorten the measurement time in three-dimensional shape measurement using a grid pattern projection method and to simplify the computing processing for improving measurement precision.例文帳に追加

格子パタン投影法を用いた３次元形状測定において、測定時間を短縮すると共に、演算処理を簡略化して測定精度を向上させること。 - 特許庁

To additionally load an existing paper sheets processing device with a function for reading transparency peculiar to a paper sheet or random change pattern of recess and projection in a surface of the paper sheet at low costs.例文帳に追加

用紙固有の透明度又は表面の凹凸のランダムな変化パターンを読み取る機能を既存の用紙処理装置に追加搭載することを低コストに実現する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of surely preventing defects in various patterns based on lithography by preventing the unwanted decomposited products from occurring in a hydrophobic treatment and by suppressing resist pattern defects.例文帳に追加

疎水化処理時における不要な分解物の発生を防止し、レジストパターン欠陥を抑止して、リソグラフィーに基づく各種パターンの欠陥発生を確実に抑止する。 - 特許庁

The feature point determination processing part 145 determines a feature point corresponding to a component end point on the basis of a positional relationship of candidate points and an arrangement pattern of features of candidate points.例文帳に追加

特徴点判定処理部１４５は、候補点の位置関係、および、候補点の特徴の配列パターンに基づいて、部品の端点に対応する特徴点を判定する。 - 特許庁

To prevent occurrence of an image defect by suppressing deformation of a screen pattern when an image processing is applied to compensate misalignment for an image which is already screen processed.例文帳に追加

スクリーン処理済みの画像に対してレジずれを補正するための画像処理を施した場合におけるスクリーンパターンの変形を抑制し、画質欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a template with which a protrusion pattern of large area can be formed efficiently by NIL with high precision, and to provide a manufacturing method, a patterning method and a processing method.例文帳に追加

ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。 - 特許庁

Since the range to calculate cumulative distance values is restricted to the predetermined range, the voice recognizing pattern matching is processed by a little memory capacity and processing amount.例文帳に追加

累積距離値を算出する範囲を予め定めた範囲に限定しているため、より少ないメモリ容量・処理量で、音声認識のパターンマッチング処理を実行できる。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measuring instrument to efficiently execute a distance-calculating processing based on pattern irradiation images photographed with a plurality of cameras.例文帳に追加

複数のカメラによって撮影されたパターン照射画像に基づく距離データ算出処理をより効率的に実行する３次元形状計測装置を提供する。 - 特許庁

Only a defect image part is extracted by a difference processing of an absorption current image of inspection wiring and a reference wiring pattern image, and it is overlapped with an SEM image.例文帳に追加

検査配線の吸収電流像と、基準配線パターン像との差分処理で欠陥像部分のみを抽出し、さらにこれをＳＥＭ像に重畳する。 - 特許庁

To provide a practical pattern matching search method in a character recognition method for a handwritten character having a lost portion, mitigating problems in nonlinear normalization processing.例文帳に追加

欠損手書き文字に関する文字認識手法に関して、非線形正規化処理における問題を緩和すると共に、実用可能なパターンマッチング検索方法を提供すること - 特許庁

In a second coating process of forming a finger wiring pattern crossing a bus wiring pattern on a substrate by linearly supplying paste onto a principal surface of a substrate and the bus wiring pattern from a nozzle, curing processing for curing the coating liquid is carried out on the paste supplied onto the principal surface of the substrate (step S54), and light irradiation of the paste supplied onto the bus wiring pattern is stopped (step S52).例文帳に追加

ノズルから基板の主面およびバス配線パターン上にペーストを線状に供給して、基板上にバス配線パターンと交差するフィンガー配線パターンを形成する第２塗布工程おいて、基板の主面に供給されたペーストに対して当該塗布液を硬化させる硬化処理を実行し（ステップＳ５４）、バス配線パターン上に供給されたペーストに対しては光照射を停止する（ステップＳ５２）。 - 特許庁

To provide a light-emitting device in which a circuit pattern having a glossy surface can be obtained without requiring plating or etching processing, and processes can be reduced and simplified as a result, a high-density circuit pattern can be easily formed, and the circuit pattern having the glossy surface can be efficiently formed by avoiding the formation of a glossy surface on a circuit pattern which does not need gloss.例文帳に追加

めっき加工やエッチング加工を行うことなく光沢面を有する回路パターンを得ることができて工程を数少なくして簡略化することができ、また、高密度の回路パターンを容易に形成することができ、さらに、光沢が不要な回路パターンには光沢面が形成されないようにして効率よく回路パターンの表面を光沢面に形成することができる発光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for processing a dried laver sheet enabling easy punching of the dried laver sheet to form a rough pattern and even a refined pattern such as characters, animals, vegetables and letters, the utilization of the surrounding part in the form left after the punching of the characters, etc., and the development of fragrance and to provide an apparatus for the processing of dried laver sheet.例文帳に追加

本発明はキャラクター、動植物、文字等の大雑把な輪郭から、微細な輪郭でも容易に干しのりを切り抜くことができるとともに、周囲もキャラクター等が切り抜かれた形状を保って利用することができ、かつ香ばしさも出すことができる干しのりの加工方法および干しのりの加工装置を得るにある。 - 特許庁

This semiconductor device comprises a correction discrimination detection circuit 11 for generating a detection signal if the variance of the pattern processing exceeds a predetermined allowable range while monitoring the variance of the pattern processing depending on the variance of the manufacturing process, and a characteristic correction circuit 12 for correcting electric characteristics of the subject circuit based on the detection signal of the correction discrimination detection circuit.例文帳に追加

製造プロセスのばらつきに依存するパターン加工のばらつきをモニターし、パターン加工のばらつきが所定の許容範囲を越えた場合に検知信号を生成する補正判別検知回路１１と、補正判別検知回路の検知信号を受けて対象回路の電気的特性を補正する特性補正回路１２とを具備する。 - 特許庁