| 意味 | 例文 |
pattern systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3674件
To provide a door order acceptance support system which enables an order reception side to prepare a material and a component to be used for a production through an order placed according to a preliminarily set ordering pattern which defines a range to allow a design and each component to be changed from a standard door.例文帳に追加
標準品からデザイン、それぞれのパーツを変更できる範囲を決めて予め発注パターンを設定して発注すれば、受注側も使用する材料やパーツ類を準備し製造することができるドアの受注支援システムを提供する。 - 特許庁
An optical system 1 is provided with a light source 2, a pattern formation means 3 arranged on an optical axis of the light source, for forming slit light by the light from the optical source, and a floodlighting lens 4 for condensing the slit light toward a measuring object.例文帳に追加
光源2と、光源の光軸上に配置され、上記光源からの光によりスリット光を形成するためのパターン形成手段3と、スリット光を測定対象物に対して集光するための投光レンズ4とを備える光学系1を設ける。 - 特許庁
In this recording system, a test pattern to be used in the process to correct the color drift is constituted of a plurality of pieces of patch data showing the varying printing ratio of coloring materials maintained to a small size and each piece of the patch data is recorded so that it is arranged so as to allow the continuous variation of color casts.例文帳に追加
色ずれを補正する処理に用いられるテストパターンを、小さいサイズで保持された色材の印字比率が異なる複数のパッチデータによって構成されるものとし、各パッチデータが連続的に色味が変動するように配置するよう記録する。 - 特許庁
To provide a control method of an ESPAR (Electronically Steerable Passive Array Radiator) antenna that can obtain an excellent converged value capable of obtaining an excellent evaluation function value with the smaller number of repetition times than that of a conventional control method when the major beam of an antenna system is directed to a desired wave and the null pattern is directed to an interference wave.例文帳に追加
エスパアンテナの制御方法において、所望波に対して主ビームを向けかつ干渉波に対してヌルを向けるときに、従来例に比較して少ない反復回数で良好な評価関数値を得ることができ良好な収束値を得る。 - 特許庁
The method for operating the computer input device with the context-awareness function includes steps for detecting sound source data from a sound source control module 104 of a computer system and driving an input device 114 based on the sound source data to generate a corresponding light emission pattern.例文帳に追加
コンテキストアウェアネス機能を備えるコンピュータ入力装置の操作方法は、コンピュータシステムの音源制御モジュール104からの音源データを検出するステップと、音源データを基に、入力装置114を駆動し、対応した発光パターンを生成するステップと、を含む。 - 特許庁
This alternation detection system 100 is configured to refer to coordinate information on the basis of position coordinates on a dot pattern included in entry information, and to extract entry start time and entry end time to each field being the configuring element of an item from the entry information.例文帳に追加
改竄検出システム100は、記入情報に含まれるドットパターン上の位置座標に基づいて座標情報を参照することにより、記入情報から、項目の構成要素である各フィールドへの記入開始時刻と記入終了時刻を抽出する。 - 特許庁
To provide an embroidery sewing control system capable of simply and reliably selecting a series of sewing procedures and sewing data in sewing an embroidery pattern and capable of easily collecting production control data such as sewing history data during the sewing work.例文帳に追加
刺繍模様を縫製する際の一連の縫製手順や縫製データの選択を簡便且つ確実に行うことができ、加えて、縫製作業中の縫製履歴データ等の生産管理データを容易に収集可能な刺繍縫製管理システムを提供すること - 特許庁
To provide a system for controlling a generated code quantity from an image signal coder that reduces the generated code quantity so as to prevent occurrence of a buffer overflow while avoiding image deterioration even when the coder receives an image with many information quantities such as a fine image pattern and a fast moving image and a target code quantity of a buffer section is small.例文帳に追加
絵柄が細かい、動きが多い等の情報量が多い画像が入力され、かつバッファ部の目標符号量が小さいような場合でも、画像劣化を避けつつ、発生符号量を低減し、バッファのオーバーフローの発生を防止する。 - 特許庁
To enable a user to easily select a desired sewing pattern for both of sewing data originally stored by a sewing machine, which are stored in a system ROM, or the like, and sewing data added by a memory cell such as a user ROM.例文帳に追加
本発明の課題は、システムROMなどに記憶されたミシンが本来記憶している縫製データと、ユーザROMなどの記憶素子によって追加した縫製データのいずれであっても、ユーザが所望の縫製パターンを簡単に選択できるようにすることである。 - 特許庁
To provide a hot stamping plate for obtaining a hot stamping, in which one pattern between two patterns can be clearly visually recognized by means of the direction of illumination and viewing angle even in the case that two or more patterns are present under the state being overlapped with each other, and its processing system.例文帳に追加
2つ以上の絵柄が重なって存在するような場合においても、照明の方向や見る角度によって2つ以上の絵柄の内の1つを明瞭に視認できる箔押しを得るための箔押し用版およびその製版システムを提供する。 - 特許庁
Also the aligner, being an aligner having an optical system containing a diffraction optical element such as a BO element to project the original plate pattern illuminated with light from the light source on the substrate, is characterized by having the diffraction optical element.例文帳に追加
また、本発明の露光装置は、光源からの光で照明した原版のパターンを基板上に投影するため、BO素子のような回析光学素子を含む光学系を有する露光装置において、本発明の回折光学素子を有することを特徴とする。 - 特許庁
This system includes a circuit for determining the places of synchronized word bits in the bit stream packets and this circuit includes a circuit which compares a bit test pattern vector 32 and the sample vector 34 of bits from the bit stream packets with each other several times.例文帳に追加
このシステムはビットストリーム・パケットの中の複数の同期化ワード・ビットの場所を決定するための回路(30)を含み該回路はビット・テスト・パターン・ベクトル(32)と、ビットストリーム・パケットからのビットのサンプル・ベクトル(34)との間で何回かの比較を実行するための回路(36)を含む。 - 特許庁
The trouble pattern creating apparatus extracts components which transmit the respective log messages from a plurality of log messages which an information system having a plurality of components outputs within a predetermined period, and calculates a degree of association between the extracted components.例文帳に追加
障害パターン生成装置は、複数の構成要素を有する情報システムが所定期間内に出力した複数のログメッセージから、当該ログメッセージ各々を発信した構成要素を抽出し、抽出された構成要素間の関連度を算出する。 - 特許庁
Pattern of a master mask 11 is reduction projected onto a mask substrate 13 using a reduction projection optical system 12, e.g. EUVL, and unmagnified exposure is performed by means of an electron beam or hard X-rays using an unmagnified mask 13' made of the mask substrate 13.例文帳に追加
EUVLと同等の縮小投影光学系12を用いて、マスターマスク11のパターンをマスク基板13上に縮小投影し、マスク基板13から作成される等倍マスク13’を用いて、電子ビームあるいは硬X線による等倍露光を行う。 - 特許庁
A lighting tool system 100 for a vehicle includes: a lighting tool for an vehicle 70 in which a cutoff line extended in the vehicle width direction can be moved in the vertical direction in a light distributing pattern for a low beam; and a control part which controls the movement quantity of the vertical direction of the cutoff line.例文帳に追加
車両用灯具システム100は、ロービーム用配光パターンにおいて車幅方向に延びるカットオフラインを上下方向に移動可能な車両用灯具70と、カットオフラインの上下方向の移動量を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁
To realize a method for calibrating the irradiation time of an electron beam in a variable area electron beam lithography system in which irradiation time error of the electron beam for a material being written can be corrected in the blanking operation of electron beam and a pattern can be written more accurately.例文帳に追加
電子ビームのブランキング動作における電子ビームを被描画材料に照射する時間の誤差を補正することが可能で、より正確なパターンを描画できる可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの照射時間校正方法を実現する。 - 特許庁
In the electronic file printing system that prints out an electronic file stored in a memory, it is characteristic by printing the reproduction information for reproducing the printing on the printed matter together with a visualized character code pattern that is legible by anyone.例文帳に追加
メモリに格納されている電子ファイルを印刷出力する電子ファイル印刷システムにおいて、印刷物に、誰もが判読できる可視化された文字記号パターンとともに、印刷を再現するための印刷再現情報を印刷することを特徴とするもの。 - 特許庁
To compensate aberration due to lens heating, the compensation device can be used in a projection system with a lighting mode and a pattern type causing intensive off-axis localized pupil filling.例文帳に追加
補正デバイスは、レンズ加熱によって引き起こされた収差を補正するため、特に、強い軸外局在瞳充填(off−axis localised pupil filling)をもたらす照明モードおよびパターンタイプと共に投影システム内で使用されることができる。 - 特許庁
To provide a highly reliable multilayer wiring board preventing occurrence of creases or folds by providing a proper dummy pattern even if a gap occurs between wiring layers in a wiring layer area when producing a multilayer wiring board through a roll laminate system.例文帳に追加
ロールラミネート方式で多層配線板を作製する際、配線層領域で、配線層間に間隔が生じても適正なダミーパターンを設けることにより、シワ、折れ曲がり等の発生を防止でき、信頼性に優れた多層配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁
The remote control signal transmitting section 11 that receives this command, transmits from a light-emitting diode LED an infrared remote control signal of a signal pattern corresponding to the relevant transmission channel stored in a learning function section 13 and remotely controls predetermined controlled system equipment 3.例文帳に追加
この指令を受けたリモコン信号送信部11は学習機能部13で記憶している当該送信チャンネルに対応した信号パターンの赤外線リモコン信号を発光ダイオードLEDより送信させ、所定の操作対象機器3をリモコン操作するのである。 - 特許庁
Introduction of the multi- dimensional beam pattern establishes the base of a 3D ultrasound imaging system comprising a small multi-dimensional sensor layout and a device to be arranged at site, and a three-dimensional image with high resolution is generated in real time.例文帳に追加
本発明に従った多次元ビームパターンを導入すると、小型多次元センサ配列と現場に配備できる小型処理装置とからなる本発明に従った3D超音波映像システムの基盤となり、リアルタイムで高解像度の3次元映像を生成する。 - 特許庁
The electric power steering device is provided with a danger determination part 142 for finally determining the dangerous driving state and giving warning to a driver when a danger driving notice is input from a navigation system when it is determined whether or not a steering pattern of the vehicle is in the dangerous state.例文帳に追加
車両の操舵パターンが危険状態であるか否かを判定したときに、ナビゲーションシステムから危険運転通知が入力されていた場合に、危険運転状態と最終判定し、運転者に警告を与える危険判定部142を備える。 - 特許庁
Based on the read data of a test pattern 200, the output density corresponding to an input pixel value at a measurement point is measured and plotted in the coordinate system of the input pixel value-output density, and then the output density is complemented between the measurement points thus obtaining a measured density curve 204.例文帳に追加
テストパターン200の読取データに基づいて、入力画素値に対応した測定点における出力濃度を測定し、入力画素値−出力濃度の座標系にプロットし、各測定点間の出力濃度を補完して測定濃度曲線204を得る。 - 特許庁
The system measures the characteristics of a transmission line by a reception error rate and a received signal level for a fixed form pattern signal before data communication origination, and feeds back the measurement result to a transmitter side, while signal processing is reestablished at a receiver side.例文帳に追加
伝送線路の特性を、データ通信開始前の定型パターン信号の受信誤り率と受信信号レベルで測定し、測定結果を送信側にフィードバックすると共に、受信側の信号処理も設定しなおすことで、最適な信号伝送処理を提供する。 - 特許庁
To prevent a print defective substrate from being produced owing to a position shift of a substrate on a palette by a system which positions one screen mask above a plurality of substrates mounted on the palette and screen-prints a predetermined pattern on the plurality of substrates together at a time.例文帳に追加
パレット上に搭載した複数の基板の上方に1枚のスクリーンマスクを位置させて複数の基板に一括して所定のパターンをスクリーン印刷するシステムにおいて、パレット上の基板の位置ずれ等に起因する印刷不良基板の生産を未然に防止する。 - 特許庁
The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.例文帳に追加
本発明の露光装置EXは、露光対象の基板Pに回路パターンを露光する露光部と、基板Pを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークAMに光を通して基板Pの位置を検出するアライメント系4を備える。 - 特許庁
The reticle 18 held on a reticle stage 19 and a wafer 25 held on a wafer stage 26 are moved by the stages 19 and 26 respectively in a Y direction, and the projection image of the pattern on the reticle 18 by a projection optical system 24 is successively transferred on the wafer 25.例文帳に追加
レチクルステージ19上に保持されたレチクル18と、ウエハステージ26上に保持されたウエハ25は、ステージ19,25によりY方向に沿って移動され、レチクル18のパターンの投影光学系24による投影像がウエハ25上に逐次転写される。 - 特許庁
After variably displaying special symbols, the notification system lights the infrared LED 69a at the lighting pattern corresponding to the numerical value of the random number r2 and previously notifies the formation of "winning of the probability variation" or "regular win" using the infrared rays (S140 and S150).例文帳に追加
そして、特別図柄を変動表示させたのち、乱数r2の数値に対応する点灯パターンにて赤外線LED69aを点灯させ、「確変当たり」もしくは「通常当たり」の発生を赤外線を用いて事前に報知する(S140及びS150)。 - 特許庁
To provide a qualification obtaining support system and a qualification support program, creating an attendance plan of a trainee using a learning pattern of a successful candidate and estimating the learning level to improve the percentage of obtaining the qualification.例文帳に追加
本発明は、合格者の学習パターンを用いて受講者の受講計画を作成すると共に、学習レベルを予測することにより資格取得率を向上させることのできる資格取得支援システム及び資格支援プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁
The scanning exposure apparatus 100 uses a down scaling projection optical system 104 for projecting a pattern scaled down to 1/6 or 1/8 in a laser beam irradiating area 103 of a mask 102 on a wafer 105 mounted on a wafer stage 106.例文帳に追加
本発明のスキャン型露光装置100では、マスク102におけるレーザ光照射領域103内のパターンは、縮小投影光学系104によって、1/6又は1/8に縮小されてウエハステージ106に載せられたウエハ105上に投影される。 - 特許庁
In the press system removing water from the web by composing one or more press nips between two rolls 30A, 32A, a press nip NA installs the grooved pattern comprising crossing grooves 11A, 11B or 21A, 21B on a cover 22 of one or more rolls 30A, 32A composing the nip or a belt 12.例文帳に追加
少なくとも1つのプレスニップを2つのロール30A、32Aの間に構成してウェブから水を除去するプレス方式において、プレスニップNAは、それを構成する少なくとも1つのロール30A、32Aのカバー22またはベルト12に、交差する溝11A、11Bまたは21A、21Bから成る溝模様を設けている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a three-dimensional device, by which a desired three-dimensional figure can be formed in a thick film resist with high accuracy by deriving a transfer function of an exposure system by use of a test reticle and designing a mask pattern using the transfer function as a feedback.例文帳に追加
テストレチクルを用いて露光システムの伝達関数を導出し、この伝達関数をマスクパターンの設計にフィードバックさせて、厚膜レジストに所望する三次元形状を精度よく形成することが可能な三次元デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image processing system which acquires image data from specified reading regions (patches)even when the position and the size of color regions (patches) constituting a gradation pattern outputted from a printer change according to setting conditions such as printer resolution, etc.例文帳に追加
プリンタから出力された階調パターンを構成する各色領域(パッチ)の位置および大きさが、プリンタの解像度等の設定条件に応じて変化した場合でも、所定の各読み取り領域(各パッチ)から画像データが取得できる画像処理システムを提供する。 - 特許庁
This aligner has a light source 1, an illumination optical system 6 for illuminating a pattern drawn on a mask 5 by a light source light, and a projection optical system 11 for projecting the illuminated pattern to a substrate 13.例文帳に追加
光源1と、マスク5に描かれたパターンを光源光で照明する照明光学系6と、照明されたパターンを基板13に投影する投影光学系11を有する露光装置であって、光源1から基板13までの全体または一部を外気から遮蔽する容器7、14、17と、容器に接続された不活性ガスの供給ラインおよび排出ラインと、容器上若しくは容器と圧力的に等価な位置および/または供給若しくは排出ライン上若しくは供給若しくは排出ラインと圧力的に等価な位置に圧力調整手段21〜23を具備する。 - 特許庁
To provide a retrieval system for medical information and a program for carrying out the system for accurately extracting a case group and a diagnosis name group of high similarity by using the appearance pattern of a symptom as a retrieval key to retrieve from a case information database accumulated in large quantities in a medical institution, and comparing the mutual similarity of symptom lists.例文帳に追加
医療機関に大量に蓄積されている症例情報データベースに対して、症状の出現パターンを検索キーとして検索を行い、症状リスト同士の類似度を個別に比較することによって、類似度の高い症例群や診断名群を正確に抽出する医療情報の検索システム及びそのシステムを実行するためのプログラムを提供する。 - 特許庁
The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁
In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加
液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁
The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁
Namely, since it is possible to prevent the phenomenon that the circumferential portion of the pattern images formed via the projection type optical system is shielded and cannot pass through the photosensitive aperture by changing the aperture used for the measurement, the optical characteristic of the projection type optical system can be calculated with higher accuracy without relation to the focusing condition.例文帳に追加
すなわち、ピンホールパターンの結像状態に応じて、計測に用いる開口を変更することにより、投影光学系を介して形成されるパターン像の周縁部が受光用開口を通過せずに遮られてしまうという事態を防止することができるので、結像状態にかかわらず、投影光学系の光学特性を高精度に算出することが可能となる。 - 特許庁
Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加
そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系PLの光軸AXに対して傾斜した方向から基板W上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板W上に、投影光学系PLを介してパターンが転写される。 - 特許庁
By limiting the ON/OFF count per unit time of a control pulse, which is outputted from a pulse pattern determination means 13 by a turbulence generation signal Vf of a turbulence detection means 40 of an AC system, a converter outputs a voltage according to a voltage command, thus continuing operation by controlling the fluctuation of an AC current, even if disturbances are generated in AC system is disturbed.例文帳に追加
交流系統の擾乱検出手段40の擾乱発生信号Vfにより、パルスパタン決定手段13から出力する制御パルスの単位時間あたりのオンオフ回数の制限を制御することで、変換器が電圧指令通りの電圧を出力することができ、交流系統に擾乱が生じても交流電流の変動を制御して運転を継続することができる。 - 特許庁
In the multiplex computer system comprising computers 10 and 20 which have the same function and an operation managing device 30 which totally manages those computers, the operation managing device 30 is provided with an operation simulation part 35, which simulates the operation of the operation managing device 30 according to a predetermined operation pattern to test the computer system.例文帳に追加
同一機能を有する複数台の計算機10、20と、これら各々の計算機を統括して管理する運転管理装置30からなる多重化計算機システムであって、運転管理装置30に操作模擬部35を設け、この操作模擬部35によりあらかじめ決められた操作パターンで運転管理装置30の操作の模擬を行い、計算機システムの試験を行うようにしたものである。 - 特許庁
A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁
This printer comprises: a nozzle 12 for ejecting a holographic recording material in a dot pattern onto paper 3; a hologram recording optical system 100 for recording interference fringes by simultaneously applying a plurality of laser beams onto the holographic recording material ejected by the recording material nozzle; and a scanning drive unit for moving the nozzle 12 and the optical system 100 relatively with respect to a supporting body.例文帳に追加
用紙3に対し、ホログラフィック記録材料を点状に吐出するノズル12と、記録材料ノズルが吐出したホログラフィック記録材料上に複数のレーザ光を同時に照射して干渉縞を記録するホログラム記録光学系100と、ノズル12とホログラム記録光学系100とを、支持体に対し相対的に移動させる走査駆動装置とを備えて印刷装置を構成する。 - 特許庁
The base station apparatus discriminates a terminal with high necessity of searching of other channel and a terminal with low necessity of searching of other channel and changes a compressed mode pattern on the basis of the result of discrimination so as to minimize a frequency of non- transmission period as a whole mobile communication system thereby minimizing the reduction in the system capacity in the compressed mode.例文帳に追加
他チャネルのサーチ動作の必要性が高い端末装置と、当該サーチ動作の必要性が低い端末装置とを判別し、当該判別結果に基づいてコンプレストモードパターンを変化させることにより、移動体通信システム全体として、非送信区間の頻度を最小限とすることができ、コンプレストモードによるシステム容量の低下を最小減に抑えることができる。 - 特許庁
The reflection type projection optical system which projects a pattern arranged on an object surface to an image surface through a reflection mirror is telecentric on both of the object surface side and the image surface side, and the object surface and the image surface are arranged to be inclined to a plane perpendicular to an optical axis of the reflection type projection optical system so as to satisfy the Scheimpflug condition.例文帳に追加
本発明は、物体面に配置されたパターンを反射鏡を介して像面に投影する反射型投影光学系であって、前記物体面側と前記像面側との両方でテレセントリックであり、かつ、前記物体面と前記像面とを、シャインプルーフの条件を満たすように、前記反射型投影光学系の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾けて配置した。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for forming an image capable of deforming the image in a predetermined range while holding a rough profile shape so as not to largely collapse a previously prepared pattern to deform the image by a reaction diffusion system by using a computer.例文帳に追加
コンピュータを用いて反応拡散系による画像変形を行うにあたり、あらかじめ用意した模様が大きく崩れないように大まかな輪郭形状を保ったまま、所定の範囲で画像変形を行うことが可能な画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁
The system has a capturing mechanism 15 capturing a droplet L discharged from the discharging head 1, a positioning mechanism positioning the captured droplet L at a specified position on the substrate and a removing mechanism removing at least a part of the pattern drawn on the substrate with the positioned droplet L.例文帳に追加
吐出ヘッド1から吐出された液滴Lを捕捉する捕捉手段15と、捕捉した液滴Lを基板上の所定位置に位置決めする位置決め手段と、位置決めされた液滴Lにより基板上に描画されたパターンの少なくとも一部を除去する除去手段とを15とを備える。 - 特許庁
Further, a computer system includes a processor, a data storing device coupled to the processor, a computer executable code for specifying the movement patterns of teeth using the two-dimensional array; and a computer executable code for generating the treatment path for moving the teeth according to a specified pattern.例文帳に追加
さらに、プロセッサと、プロセッサに結合されたデータ格納デバイスと、2次元アレイを用いて歯の移動パターンを特定するコンピュータ実行可能コードと、特定されたパターンに従って歯を移動させるための処置経路を生成するコンピュータ実行可能コードとを備える、コンピュータシステムが提供される。 - 特許庁
A battery control method for a hybrid car employs a traveling pattern by which the range of the residual capacity is changed to charge and discharge a battery 1 for supplying electric power to the motor 2 driving the hybrid car on the basis of the map information and travel position information obtained from a navigation system 7.例文帳に追加
ハイブリッドカーのバッテリ制御方法は、地図情報と、ナビゲーションシステム7から得られる走行位置情報に基づいて、ハイブリッドカーを駆動するモーター2に電力を供給するバッテリ1の充放電を許容する残容量範囲を変更する走行パターンとしている。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|