「photo film」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

A photo-cured pattern is formed using the composition on the inner face of a glass panel, graphite is applied to the entire face and dried, and then the photo-cured pattern and the resulting graphite film on the pattern are removed to produce the objective graphite screen for a color cathode ray tube.例文帳に追加

この水溶性感光性組成物を用いてガラスパネル内面に光硬化パターン形成した後、黒鉛を全面に塗布、乾燥後、前記光硬化パターンとその上の黒鉛被膜を剥離除去してカラーブラウン管用黒鉛スクリーンを作成する。 - 特許庁

This ultraviolet light-curing type ink consisting of a reactive diluent, a photo-polymerizable oligomer and a photo-polymerization initiator is obtained by containing the ultraviolet light-curing type ink having cured coated film physical properties such as ≥30% tensile strain and ≤7.0 Mpa tensile stress, together with a foaming agent.例文帳に追加

反応性希釈剤と、光重合性オリゴマーと、光重合開始剤からなる紫外線硬化型インキであって、引張ひずみ３０％以上で且つ引張応力７．０Ｍｐａ以下の硬化塗膜物性を有する紫外線硬化型インキに発泡剤を含有した紫外線硬化型の発泡インキ。 - 特許庁

When predetermined pixels 3 in the initial state are irradiated with light of a first wavelength which bends the photo-bendable film 5, the photo-bendable films 5 in the irradiated pixels 3 bend and transmission of light is allowed to record an image.例文帳に追加

この初期状態から光屈曲性フィルム５を屈曲させる第１の波長の光を所定の画素３に照射すると、照射された画素３内の光屈曲性フィルム５が屈曲して光の透過が可能となり画像が記録される。 - 特許庁

To provide a composition for photo-alignment films, which has excellent durability to light and the like, and can impart an alignment-controlling ability to liquid crystal molecules in a slight light irradiation amount, to provide a photo-alignment film, to provide a method for producing the same, to provide a liquid crystal cell, and to provide a liquid crystal display.例文帳に追加

光等に対する優れた耐久性を有し、少ない光照射量で液晶分子に対する配向制御能を付与することができる光配向膜用組成物、並びに、光配向膜及びその製造方法、液晶セル及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A pixel part A of a solid-state imaging device comprises: a photo diode PD formed on a semiconductor substrate 101; a first insulating film 150 having a recess 117 on its upper portion above the photo diode PD; and a second insulating film 160 formed on the first insulating film 150 so as to fill the recess 117.例文帳に追加

固体撮像装置の画素部Ａは、半導体基板１０１に形成されたフォトダイオードＰＤと、該フォトダイオードＰＤの上側部分に凹部１１７を有する第１の絶縁膜１５０と、該第１の絶縁膜１５０の上に、凹部１１７を埋め込むように形成された第２の絶縁膜１６０とを有している。 - 特許庁

To provide a film read technology capable of stably interpreting bar codes even when an illumination light system is equipped, the system providing a much more decreased and unequal luminous quantity distribution to a bar code area arranged at ends of a photo film in the width direction in comparison with a photographing image area located in the middle of the photo film.例文帳に追加

写真フィルムの幅方向端部に配置されているバーコードエリアに対しては写真フィルムの中央部に配置されている撮影画像エリアに比べてより低下した不均等な光量分布を与えるような照明光学系を装備していても、安定したバーコードの解読が可能となるフィルム読取技術を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated film suitable for a dry film photo resist (DFR) or so called a coverless DFR which satisfies the transparency capable of being used for a high resolution DFR, UV transmission property and handling property (slippage), eliminates a process for providing a protective film on a photo resist layer and contributes to the reduction of an industrial waste.例文帳に追加

高解像度ＤＦＲに使用し得る透明性、ＵＶ透過性と取扱い製（滑り性）を満足し、フォトレジスト層の上に保護フィルムを設ける工程を省略し、かつ産業廃棄物の軽減に寄与するドライフィルムフォトレジスト（ＤＦＲ）、いわゆるカバーレスＤＦＲに有用な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

When a gate electrode 8a is patterned, once a first gate electrode is extended through the upper part of a contact hole to the upper part of a gate insulating film 3 with a first photo resist film 21 as a mask, and then, etching in the transverse direction with a second photo resist film 22 as a mask to retreat a pattern to a desired position, a gate electrode 8a is formed.例文帳に追加

ゲート電極８ａをパターニング形成する際に、一旦、第１のホトレジスト膜２１をマスクにして最初のゲート電極をコンタクト孔上を経てゲート絶縁膜３上まで延在させた後、第２のホトレジスト膜２２をマスクにして横方向にエッチングして、所望位置までパターンを後退させてゲート電極８ａを形成することを特徴とする。 - 特許庁

In this photo-sensitive film for a color filter, formed by laminating (a) a transparent supporter film, (b) a cushion layer, (c) a colored photo-sensitive resin layer and (d) a protective film, in this order, a layer composed by including an ethylene-propylene copolymer having a copolymerizing ratio of ethylene of 60-90 wt.% is used as (b) the cushion layer.例文帳に追加

（ａ）透明支持体フィルム、（ｂ）クッション層、（ｃ）着色された感光性樹脂層及び（ｄ）保護フィルムの順に積層されたカラーフィルター用感光性フィルムにおいて、（ｂ）クッション層としてエチレンの共重合比が６０〜９０重量％であるエチレン−プロピレン共重合体を含有してなる層を用いる。 - 特許庁

To provide a laminated film suitable for a dry film photo resist (DFR), that is a coverless DFR which satisfies the transparency capable of being used for a high resolution DFR, UV transmission property and handling property (slippage), eliminates a process for providing a protective film on a photo resist layer and contributes to the reduction of an industrial waste.例文帳に追加

高解像度ＤＦＲに使用し得る透明性、ＵＶ透過性と取扱い性（滑り性）を満足し、フォトレジスト層の上に保護フィルムを設ける工程を省略し、かつ産業廃棄物の軽減に寄与するドライフィルムフォトレジスト（ＤＦＲ）、いわゆるカバーレスＤＦＲに有用な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

The photo- catalyst is titanium oxide particle partly coated its surface with calcium phosphate or a porous material surface-coated with a titanium oxide film and further coated a part of the titanium oxide film surface with calcium phosphate.例文帳に追加

光触媒としては、表面の一部がリン酸カルシウムで被覆された酸化チタン粒子、又は多孔体の表面が酸化チタン膜で被覆され、さらに酸化チタン膜表面の一部がリン酸カルシウムで被覆されたものを用いる。 - 特許庁

The photo mask is disposed on the upper layer side of the long-wavelength light reflective film, and includes a mask pattern formed by using an absorption film which absorbs the EUV light and the long wavelength light.例文帳に追加

また、フォトマスクは、前記長波長光反射膜の上層側に配置されるとともに前記ＥＵＶ光および前記長波長光を吸収する吸収膜を用いて形成されたマスクパターンを有している。 - 特許庁

This ubideccarenone preparation improved in photo stability is obtained by adding whey calcium and a natural pigment to the capsule film for filling the ubideccarenone, and filling the ubideccarenone into the capsule film.例文帳に追加

ユビデカレノン充填用のカプセル皮膜に、乳清カルシウムと天然色素とを添加し、このカプセル皮膜にユビデカレノンを充填することにより光安定性が向上したユビデカレノン製剤が得られる。 - 特許庁

The photo film transistor is able to have a high photoconductivity using the amorphous GST film containing chalcogenide element as a photoconductive layer.例文帳に追加

これにより、カルコゲナイド系元素を含む非晶質状態のＧＳＴ膜を光伝導層として用いて、非常に高い光伝導性を有することができる。 - 特許庁

The photoelectron emission plate 1 is constructed by providing a barrier film having barrier performance on a substrate and by providing on the barrier membrane an emitting film for emitting photoelectrons by photo-irradiation.例文帳に追加

光電子放出板１を、基板上にバリア性を有するバリア膜を設け、前記バリア膜の上に光照射により光電子を放出する放出膜を設ける構成とした。 - 特許庁

A writability imparting layer comprising vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, an acrylic resin having a hydrophilic group and power is provided on a support film of a photo-film unit or a masking material.例文帳に追加

写真フィルムユニット又はマスク材の支持体フィルム上に、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体、親水性基を有するアクリル樹脂及び粉体からなる筆記性付与層を設ける。 - 特許庁

Thus, by the lithography for forming the groove 9a in the first insulating film 4a, a photo resist film (not illustrated) can be made small in thickness.例文帳に追加

このように形成することにより、第一絶縁膜４ａに溝９ａを形成するためのリソグラフィにおいて、フォトレジスト膜（不図示）の膜厚を薄くすることができる。 - 特許庁

After an opening is formed in the oxide film 11 by photo-etching, an anisotropic etching step is carried out with a mask of the oxide film 11 to form a trench 12 in the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

そして、フォトエッチングにより酸化膜１１を開口させたのち、酸化膜１１をマスクとした異方性エッチングを施し、半導体基板１０にトレンチ１２を形成する。 - 特許庁

The semiconductor substrate 60b, formed with the sublimation preventive film 64, is rested in a photolithography machine, to expose the resist film 62 to light by radiating a ultraviolet ray through a photo-mask 66.例文帳に追加

昇華防止膜６４が形成された半導体基板６０ｂを露光装置に載置し、フォトマスク６６を介して紫外線を照射し、レジスト膜６２の露光を行う。 - 特許庁

Removing the metal film deposited on a photo resist by lift-off thereafter can obtain the circuit board wherein no burr takes place at the ends of the metal film 36.例文帳に追加

この後、リフトオフによりフォトレジスト上に堆積した金属膜を基板から除去すると、金属膜３６の端部にバリの無い回路基板が得られる。 - 特許庁

A photoresist film 2 is formed in a central region RC and a peripheral region RP on the supporting substrate 1 while surface tension raising treatment is applied on the surface of the photo-resist film 2 in the central region RC.例文帳に追加

支持基板１上の中央領域ＲＣおよび周縁領域ＲＰにフォトレジスト膜２が形成されており、その中央領域ＲＣにおけるフォトレジスト膜２の表面に表面張力上昇処理が施されている。 - 特許庁

To allow a photoreactive polymer film to efficiently exhibit optical anisotropy by a photo-reorientation phenomenon and, at the same time, to orient a lyotropic liquid crystal by utilizing this optical anisotropy and to provide an oriented dye film.例文帳に追加

光反応性高分子膜を、効率的に光再配向現象により、光学的異方性を発現させ、且つこれを利用してリオトロピック液晶を配向させるとともに、配向色素膜を形成する。 - 特許庁

Then, a resist mask 8 is formed on the conductive protection film 7 by a photo-resist method, and ions are doped on the conductive protection film 7 and the upper part electrode 6 through an opening part between the resist masks 8.例文帳に追加

そして、フォトレジスト法によりレジストマスク８を導電性保護膜７上に形成し、レジストマスク８間の開口部を通じて導電性保護膜７及び上部電極６にイオンをドープする。 - 特許庁

A photo mask 20 is used to expose a smoothing film 9, and thereafter, a recessed part 9b is formed by development a pixel electrode 10 is formed on the smoothing film 9 where this recessed part 9b has been formed.例文帳に追加

平坦化膜９をフォトマスク２０を用いて露光し、その後現像することにより凹部９ｂを形成し、この凹部９ｂが形成された平坦化膜９に画素電極１０を形成する。 - 特許庁

To provide a method for patterning a transparent conductive film by which an excessive photo lithography step can be eliminated, high productivity be realized, and a high-quality multilayer thin film be also realized.例文帳に追加

余分なフォトリソグラフィー工程を省略し高生産性を実現すると同時に高品質の多層薄膜を実現することができる透明導電膜のパターニング方法を提供することを目的とする - 特許庁

A photo processing apparatus 1 includes: a film scanner 20 and a flat bed scanner 30 inputted with images; and a printer 2 for printing out the images inputted to the film scanner 20 and the flat bed scanner 30.例文帳に追加

写真処理装置１は、画像を入力するフィルムスキャナ２０及びフラットベッドスキャナ３０と、フィルムスキャナ２０やフラットベッドスキャナ３０により入力した画像をプリントするプリント機２とを備える。 - 特許庁

In the fourth step, the photo resist film is removed, and while the silicon oxide film is used as a mask, the main surface of the semiconductor is etched together with the I-type semiconductor layer.例文帳に追加

第４工程は、上記ホトレジスト膜を除去して上記酸化シリコン膜をマスクとして上記Ｉ型半導体層を含めた上記半導体主面をエッチングする。 - 特許庁

The optical multilayer film 3 is deposited and formed in an optical member 2, and a second optical member 5 is adhered to an optical multilayer film adhesion surface 2a in the first optical member 2 via a photo- setting type adhesive layer 4.例文帳に追加

光学多層膜３は第１の光学部材２に被着形成されており、第１の光学部材２の光学多層膜被着面２ａには光硬化型接着剤層４を介して第２の光学部材５が接着されている。 - 特許庁

A transparent electrode 2 is formed on a front glass board 1, and a photosensitive metal film 11 is formed in such a way as to cover the electrode 2, and the metal film 11 is exposed to light using a photo-mask 12 having an opening 13 with a first width.例文帳に追加

前面ガラス基板１上に透明電極２を形成し、透明電極２を覆って感光性の金属膜１１を形成し、第１の幅の開口部１３を有するフォトマスク１２を用いて金属膜１１を露光する。 - 特許庁

To obtain a stable anti-corrosion effect by bringing the oxidation potential for irradiating a titanium oxide film with light to the more basic side in performing photo-cathordic corrosion protection to a metallic material using titanium oxide film.例文帳に追加

酸化チタンからなる被膜を用いて金属材料を光カソード防食するのに際し、酸化チタン被膜への光照射時の酸化電位を一層卑な方向へと低下させ、安定した防食作用を実現できるようにする。 - 特許庁

In exposing during the second or a final photo resist pattern forming time, the film is exposed by an exposure amount to a degree that a part of the thinned film 18 can be removed by development.例文帳に追加

２回目又は最終回のフォトレジストパターン形成工程における露光では、薄くなったフォトレジスト膜１８部分を現像により除去できる程度の露光量で行う。 - 特許庁

A light source 111 of the film scanner 100 emits a visible light (R, G, B) and an infrared ray to the photo film 2 where the color component is decomposed into the infrared ray component and the visible light component.例文帳に追加

フィルムスキャナ１００の光源１１１からは可視光（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と赤外光とが照射されて、写真フィルム２の色成分が赤外成分と可視成分に分解される。 - 特許庁

A second light beam irradiating part 30 irradiates a light beam Lb that is transmitted through the photo resist film reflected on a surface of an oxide film, and has a specified wavelength from a second irradiation direction Tb toward the inspection position P.例文帳に追加

第２の光ビーム照射部３０は、フォトレジスト膜を透過可能で、かつ酸化膜の表面で反射可能な所定の波長を有する光ビームＬbを検査位置Ｐに向けて第２の照射方位＜Ｔb＞から照射する。 - 特許庁

Finally, the photo-sensitive film 4 is removed, and the micro opening pattern in the substrate is formed between the lower layer 2 and the third film 5.例文帳に追加

最後に感光性膜４を選択除去することによって、下層２と第三の膜５の間に基板への微細な開口パターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide an optical film which has small photo elasticity coefficients and is excellent in terms of exhibiting properties of the phase difference and attachability to a polarizer, a polarizing plate including the optical film and a liquid crystal display apparatus.例文帳に追加

光弾性係数が小さく、位相差の発現性に優れ、偏光子との貼合性に優れた光学フィルム、これを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The granular film 6 (granular magneto-optical thin film) is interposed between a (SiO2/Ta2O5)n layer 4 and a (Ta2O5/SiO2)n layer 5, and the 1-dimensional photo nic crystal (magneto-optical body) 1 is composed.例文帳に追加

（SiO_2 /Ta_2O_5）^n 層４及び（Ta_2O_5 /SiO_2）^n 層５の間にグラニュラー膜６（グラニュラー磁気光学薄膜）を介装して１次元フォトニック結晶（磁気光学体）１を構成した。 - 特許庁

To provide a photographic film unit with a lens attached thereto with a part of a plurality of photo shooting modes arranged on the photographic film unit with the lens attached thereto made nonusable with no additional cost.例文帳に追加

コストをかけず、レンズ付きフイルムユニット設けられた複数の撮影モードの一部を使用不可能にしたレンズ付きフイルムユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal alignment film excellent in alignment regulating capacity and excellent also in moisture and light resistances, and to provide a method for manufacturing the liquid crystal alignment film by a photo-alignment method.例文帳に追加

配向規制力に優れ、且つ耐湿性及び耐光性に優れる液晶配向膜、及び、光配向法による該液晶配向膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating film-forming composition capable of forming a transparent photo-catalytic film having a high hardness and excellent in scratch resistance while maintaining the designing property and transparency of a base material by using a low cost wet method.例文帳に追加

低コストの湿式法で、基材の意匠性や透明性を保持しつつ、高硬度を有し、耐スクラッチ性が優れる、透明な光触媒膜を形成できる塗膜組成物を提供すること。 - 特許庁

Therefore the photographic film unit 2 having the multifunction lens attached thereto and provided with the night view self-synchronous photo shooting mode is easily modified into a photographic film unit with a standard lens attached thereto.例文帳に追加

これにより、夜景シンクロ撮影モードを備えた多機能型レンズ付きフイルムユニット２が標準型レンズ付きフイルムユニットに容易に変更できる。 - 特許庁

To prevent the generation of a photo-resist residue which is not removed after development, and at the same time, to prevent the increase of a dielectric constant caused by the moisture absorption of a porous insulating film when metal wiring is formed in the insulating film by dual damascene.例文帳に追加

デュアルダマシンによって絶縁膜内に金属配線を形成する際に、現像後に除去されないフォトレジスト残存物の生成を防止すると共に、多孔性絶縁膜の吸湿による誘電率の上昇を防止する。 - 特許庁

A photo film 22b having a film speed of ISO 3200 has been loaded and has been configured such that a proper EV based on ISO 100 becomes less than "8", thus photographing is made possible without using stroboscopic light.例文帳に追加

写真フイルム２２ｂは、フイルム感度ＩＳＯ３２００のものが装填されており、ＩＳＯ１００を基準とした適正ＥＶ値が「８」未満となるようにされており、ストロボ光を用いずに撮影できるようにされている。 - 特許庁

This floor material surface covering body 4 composed of a plastic film 2 provided with a hardened paint film 3 of a photo-cured covering composition is placed (stuck) on a floor material 1.例文帳に追加

床材１の上に、光硬化された被覆組成物の硬化塗膜３を設けたプラスティックフィルム２からなる床材表面被覆体４を載置（貼付）する。 - 特許庁

To provide a photo-polymeric composition for a color filter, small in film loss at the time of development, small in change of chromaticity, giving a smooth coating film, and little causing base contamination.例文帳に追加

現像時の膜減りが少なく、色度変化も小さく、平滑な塗膜が得られ、かつ地汚れの発生の少ない、カラーフィルター用光重合性組成物を提供する。 - 特許庁

The degree of chirality (the magnitude of optical rotation) induced in a photo-responsive thin film material (especially the azobenzene thin film) by the irradiation of elliptically polarized light depends on an irradiation amount with light, a wavelength of light and an ellipticity and an azimuthal angle of the elliptically polarized light.例文帳に追加

楕円偏光の照射によって光応答性薄膜材料（特にアゾベンゼン薄膜）に誘起されるキラリティの度合い（光学回転の大きさ）は、光の照射量や波長、また、楕円偏光の楕円率と方位角に依存する。 - 特許庁