「photo film」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photo-curing and a heat-curing composition having excellent preservation stability and developability and forming a cured film having various excellent characteristics such as electrical insulating properties, heat resistance and adhesiveness without causing discoloring and curing shrinkage of a cured coated film and to provide a printed wiring board having an insulating layer formed between a solder resist and/or a conductor circuit layers with the cured product thereof.例文帳に追加

保存安定性、現像性に優れると共に、硬化塗膜の着色、硬化収縮を生じることもなく、電気絶縁性、耐熱性、密着性等の諸特性に優れた硬化皮膜を形成できる光硬化性・熱硬化性組成物、及びその硬化物によりソルダーレジスト及び／又は導体回路層間の絶縁層が形成されたプリント配線板を提供する。 - 特許庁

A CCD scanner 14 alternately execute the photo detection of the visible ray by the CCD arrays 70R, 70G and 70B of a line CCD 30 and the photodetection of infrared rays by a CCD array 70IR while carrying a photographic film at a prescribed speed, to read the visible picture and an infrared picture nearly at the same position on the photographic film.例文帳に追加

ＣＣＤスキャナ１４では、写真フィルムを所定の速度で搬送しながら、ラインＣＣＤ３０のＣＣＤアレイ７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂによる可視光の受光とＣＣＤアレイ７０ＩＲによる赤外線の受光を交互に行い、写真フィルム上の略同一位置の可視画像と赤外線画像の読み込みを行う。 - 特許庁

The antireflection film including a low refractive index layer on a transparent film base is characterized in that the low refractive index layer includes at least: alkoxysilane compound (a) having epoxy group; sulfonium salt acid generator (b); silica fine particle (c) having outer shell layer and porous or hollow interior; ionizing radiation curable resin (d); and photo-radical polymerization initiator (e).例文帳に追加

透明フィルム基材上に低屈折率層を含む反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層が少なくとも（ａ）エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子、（ｄ）電離放射線硬化型樹脂、（ｅ）光ラジカル重合開始剤、からなることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

Circular light shielding sections 25 are formed with the shape of matrix in regions corresponding to pillar-type electrode forming regions on an exposure mask 24 for exposing a negative type dry photo resist film for forming a plating resist film for the pillar-type electrode, while light shielding sections 26 for forming grooves for parting the resist are formed in regions except the electrode forming regions.例文帳に追加

柱状電極形成用のメッキレジスト膜を形成するためのネガ型のドライフォトレジストフィルムを露光するための露光マスク２４には、柱状電極形成領域に対応する領域に円形状の遮光部２５がマトリクス状に形成され、それ以外の領域にレジスト分断用溝形成用遮光部２６が形成されている。 - 特許庁

In this way, the antireflection film of the junction area for the division part 8 outside of the light receiving area 12 and the cathode is protected against etching, etc. with the polysilicon film 14, so that crystal defects or impurity density variations are suppressed; and devices with built-in high performance, high quality photo diodes can be formed.例文帳に追加

これにより、受光領域１２外の分割部８とカソードとのジャンクション領域の反射防止膜がポリシリコン膜１４によってエッチング等から保護されるようになるため、この領域での結晶欠陥の発生や不純物濃度の変動等が抑えられ、高性能かつ高品質のフォトダイオード内蔵型半導体装置が形成される。 - 特許庁

A transparent layer 46 comprises the protrusions and a flat part 45 which are formed by subjecting a transparent photosensitive resin layer provided on color pixels 42 to exposure treatment via a density distribution mask PM1 and development treatment and parts of a transparent conductive film 43 above the protrusions are removed by photo etching applied to a transparent conductive film provided on the entire upper surface of the transparent layer.例文帳に追加

透明層４６は、着色画素４２上に設けた透明感光性樹脂層への濃度分布マスクＰＭ１を介した露光、現像処理によって形成された突起と平坦部４５からなり、透明導電膜４３は透明層の上面の全面に設けた透明導電膜へのフォトエッチングによって突起上の部分は除去されている。 - 特許庁

CCD 10 includes: a semiconductor substrate 15 on which a photo diode 11 and a charge transfer part 14 are formed; an insulating film 16; a transfer electrode 17 constituting a vertical transfer path 13 together with a charge transfer part 14; a light shielding film 18 positioned in the upper part of the transfer electrode 17 and the semiconductor substrate 15; a color filter 24; and a micro lens 25.例文帳に追加

ＣＣＤ１０は、フォトダイオード１１及び電荷転送部１４が形成された半導体基板１５と、絶縁膜１６と、電荷転送部１４とともに垂直転送路１３を構成する転送電極１７と、転送電極１７及び半導体基板１５の上方に位置する遮光膜１８と、カラーフイルタ２４と、マイクロレンズ２５とを備える。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor that can enhance characteristics of a thin-film transistor and keep high performance even if the number of photo-masking steps is reduced by eliminating a metal-insulator-semiconductor structure (MIS structure) formed in an accumulation capacity part so as to stabilize values of a capacitor, and to provide a display device using the same.例文帳に追加

薄膜トランジスタの特性を良好にすると同時に、蓄積容量部に形成される金属−絶縁体−半導体構造（ＭＩＳ構造）を解消しキャパシタの値を安定化させることで、フォトマスク工程数を削減しても高い性能を維持できる薄膜トランジスタ及びそれを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁

An alignment control film 132 formed on a glass substrate 102 in an observer's side between a pair of alignment control films 131, 132 formed on a pair of substrates 101, 102 is made of a material prepared by adding a photo-isomerization compound to a photosensitive polymer, and the film shows absorption anisotropy over the entire visible wavelength range (about 400 to 750 nm).例文帳に追加

一対の基板１０１，１０２に形成された一対の配向制御膜１３１，１３２のうち、観察者側のガラス基板１０２に形成された配向制御膜１３２が、感光性高分子に光異性化化合物を添加した材料から構成され、可視波長域（約４００ｎｍ〜７５０ｎｍ）全体に吸収異方性をもつ。 - 特許庁

To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁

When the photo mask is manufactured by forming a light shielding film pattern on one side of a light transmitting substrate and demarcating a light transmitting part by the light shielding film pattern, a fluorine-containing photocatalyst active layer containing a photocatalyst and a fluorine-based compound is formed in a manner that it can be overlapped on the light transmitting part on the plane view.例文帳に追加

光透過性基板の片面に遮光膜パターンが形成され、この遮光膜パターンによって光透過部が画定されているフォトマスクを作製するにあたり、光透過部と平面視上重なるようにして、光触媒とフッ素系化合物とを含有するフッ素含有光触媒活性層を形成することによって、上記課題を解決した。 - 特許庁

A transparent layer 46 consists of the alignment controlling depressions and a flat part 45 which are formed by subjecting a transparent photosensitive resin layer provided on color pixels 42 to exposure treatment via a density distribution mask PM1 and development treatment and the parts of a transparent conductive film 43 above the alignment controlling depressions are removed by photo etching of a transparent conductive film provided on the entire upper surface of the transparent layer.例文帳に追加

透明層４６は、着色画素４２上に設けた透明感光性樹脂層への濃度分布マスクＰＭ１を介した露光、現像処理によって形成された配向制御凹みと平坦部４５からなり、透明導電膜４３は透明層の上面の全面に設けた透明導電膜へのフォトエッチングによって配向制御凹み上の部分は除去されている。 - 特許庁

Gate wiring including gate lines and gate pads, and common electrode wiring including a common signal line 24 and common electrodes 25, 26 are formed on a substrate; a gate insulating film, a semiconductor layer, and a contact layer are successively vapor-deposited thereon; a conductor layer such as a metal is vapor-deposited; thereafter, a photo-sensitive film is formed on the conductor layer.例文帳に追加

基板の上に、ゲート線及びゲートパッド２３を含むゲート配線と、共通信号線２４及び共通電極２５，２６を含む共通電極配線とを形成し、その上にゲート絶縁膜、半導体層、接触層を連続蒸着し、金属などの導電体層を蒸着した後、導電体層上部に感光膜を形成する。 - 特許庁

The photosensitive resin film is obtained by applying a photosensitive resin composition blending 1-20 pts.wt of a photo-initiator and 30-60 pts.wt of mono-functional or poly-functional acrylate to 100 pts.wt of siloxane-contained polyamic acid resin as an indispensable component, on a base material film and by drying it.例文帳に追加

シロキサン含有ポリアミック酸樹脂１００重量部に対して、１〜２０重量部の光重合開始剤及び３０〜６０重量部の単官能又は多官能のアクリレートを必須成分として配合してなる感光性樹脂組成物を基材フィルム上に塗布・乾燥して得られる感光性樹脂フィルムである。 - 特許庁

The resist film 102 is formed on a substrate 101, the film being formed from a resist material containing a perfluoroethyl acrylate that is a monomer containing a halogen atom (fluorine) and stable against an acid, a polyperfluoroethyl acrylate that is a polymer containing fluorine and stable against an acid, a polymer containing an acid-labile group, and a photo-acid generator.例文帳に追加

まず、基板１０１の上に、ハロゲン原子（フッ素）を含み且つ酸に安定なモノマーであるパーフルオロエチルアクリレートと、フッ素を含み且つ酸に安定なポリマーであるポリパーフルオロエチルアクリレートと、酸不安定基を含むポリマーと、光酸発生剤とを有するレジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁

A CCD scanner 14 is provided with a halogen lamp 66 that emits a lighting light to read a frame image of a photo film 22 and with a halogen lamp 70 that emits an infrared ray to detect flaws of the like on a film face via an infrared ray filter, and a half mirror 73 matches the optical axes of the light sources.例文帳に追加

ＣＣＤスキャナ１４は、写真フィルム２２のコマ画像を読み取るための照明光を照射するハロゲンランプ６６及びフィルム面の傷等を検出するための赤外線を赤外線用フィルタを介して照射するハロゲンランプ７０を備え、各光源の光軸はハーフミラー７３によって一致している。 - 特許庁

In this method of forming a carbon nanotube, a desired carbon nanotube aligned structure is formed by forming a resist film on a flat substrate by coating an ultra violet sensitive resin for photo development, composing an aligned structure of a desired resist film pattern by exposing and developing it, and then treating it with a plasma in a reduced pressure atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

平坦な基板に写真現像用の紫外線感光性樹脂を塗布してレジスト膜を形成し、これを露光、現像してレジスト膜の所望パターンの配列構造を構成し、その後これを酸素を含む減圧雰囲気下でプラズマ処理し、所望のカーボンナノチューブ配列構造を基板上に形成することを特徴とするカーボンナノチューブの形成方法である。 - 特許庁

To provide a coating film removing device for a cylindrical electrophotographic photoreceptor capable of removing an unnecessary coating film to be removed, which is existed on the inside and outside surface of a lower end part of a cylindrical base body having a photo conductive layer applied and formed on the surface by dip coating method, precisely and efficiently in a desired dimensional range and easily improving the productivity.例文帳に追加

浸漬塗布法により光導電層が表面に塗布形成された円筒状基体の下端部の内外面にある不要な塗布膜被除去面を、精確かつ効率的に所望の寸法範囲に除去処理することができ、生産性の向上が容易に図れる円筒状電子写真用感光体の塗布膜除去装置を提供することにある。 - 特許庁

Provided are methods of preparing the selenium ink and of using the selenium ink to deposit selenium on a substrate for use in the manufacture of a variety of chalcogenide containing semiconductor materials, such as, thin film transistors (TFTs), light emitting diodes (LEDs); and photo responsive devices (e.g., electrophotography (e.g., laser printers and copiers), rectifiers, photographic exposure meters and photo voltaic cells) and chalcogenide containing phase change memory devices.例文帳に追加

このセレンインクを製造する方法、およびこのセレンインクを使用して、様々なカルコゲナイド含有半導体物質、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）；および、光応答デバイス（例えば、エレクトロフォトグラフィ（例えば、レーザープリンタおよびコピー機）、整流器、写真用露出計および太陽電池）、並びに、カルコゲナイド含有相変化メモリデバイスの製造に使用するための基体上にセレンを堆積する方法。 - 特許庁

The semiconductor optical sensor device comprises a semiconductor substrate, semiconductor layer which is formed on the semiconductor substrate and is divided by an insulation film, first photo diode formed near a surface of the semiconductor layer, second photodiode formed below the first photo diode, and signal processing circuit formed in the semiconductor layer to process output signals of the first and second photodiodes.例文帳に追加

半導体光センサ装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に絶縁膜により分離されて形成された半導体層と、前記半導体層の表面近傍に形成された第１のフォトダイオードと、前記半導体層の前記第１のフォトダイオードの下方に形成された第２のフォトダイオードと、前記半導体層に形成された、前記第１及び第２のフォトダイオードの出力信号を処理する信号処理回路とを有する。 - 特許庁

The photo-curable resin composition contains an acid modified vinyl-containing epoxy resin (A), an elastomer (B), a photopolymerization initiator (C), a diluent (D) and a curing agent (E) as essential components, or the photo-curable resin composition gives a cured film having 1-100 MPa elastic modulus in the measurement of dynamic viscoelasticity in the range of 200-220°C.例文帳に追加

酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂（Ａ）、エラストマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、希釈剤（Ｄ）及び硬化剤（Ｅ）を必須成分とすることを特徴とする光硬化性樹脂組成物、２００〜２２０℃領域における動的粘弾性測定で、組成物の硬化皮膜の弾性率が１〜１００MPaであることを特徴とする光硬化性樹脂組成物並びにこれらの光硬化性樹脂組成物の層を支持体に積層してなる感光性エレメント。 - 特許庁

The base material film includes a thermoplastic resin, and the adhesive layer includes a photo-thermo curing adhesive composition containing photocuring compound, thermo-curing compound, photopolymerization initiator, and thermo-curing agent.例文帳に追加

表面に突起電極を有する半導体チップの実装に用いられる、基材フィルムと接着剤層とからなる絶縁接着シートであって、前記基材フィルムは、熱可塑性樹脂からなり、前記接着剤層は、光硬化性化合物、熱硬化性化合物、光重合開始剤及び熱硬化剤を含有する光熱硬化性接着剤組成物からなる絶縁接着シート。 - 特許庁

The composition for forming a polysiloxane containing film includes a photo polymerization initiator and a condensate of the hydrolyzable silane compounds and the hydrolyzable titanium compound obtained by hydrolysis in the presence of water and alcohol of a mixture of a hydrolyzable compound including 0.03 to 0.3 mol% of a predetermined hydrolyzable titanium compound with respect to two kinds of predetermined hydrolyzable silane compounds.例文帳に追加

所定の２種類の加水分解性シラン化合物に対して、所定の加水分解性チタン化合物を０．０３〜０．３モル％の割合で含む加水分解性化合物の混合物を、水及びアルコールの存在下で加水分解させて得た、該加水分解性シラン化合物と該加水分解性チタン化合物との縮合物と、光重合開始剤とを含むことを特徴とするポリシロキサン含有膜形成用の組成物。 - 特許庁

To provide a photo-curable coating composition having antistaticity, as well as scratch resistance and transparency sufficient for the hard coat, further excellent durability so as to cope with waterproofing properties of recently increasing demands; and to provide an antistatic film with an antistatic layer formed by using the coating composition.例文帳に追加

本発明は、帯電防止性を有すると共に、ハードコートとして十分な耐擦傷性、透明性を備え、さらには、近年、要求の増加している防水性にも応えることができるような耐久性に優れた光硬化性のコーティング用組成物、およびこのコーティング用組成物を用いた帯電防止層を形成してなる帯電防止フィルムを提供する事を目的とする。 - 特許庁

The exposure unit 49 further comprises a switching mechanism 50 for positioning the pinhole 61 or the lens 54 for tele-shooting on the shooting optical axis by regulating the rotation position of the lens holder 52, and a shutter mechanism for controlling the time of exposure of the photo film 28 to subject light incident along the shooting optical axis.例文帳に追加

さらに、露光ユニット４９は、レンズホルダ５２の回動位置を規制してピンホール６１あるいはテレ撮影用レンズ５４のいずれかを撮影光軸に位置決めする切換え機構５０と、撮影光軸に沿って入射する被写体光への写真フイルム２８の露光時間を制御するシャッタ機構とを備える。 - 特許庁

This coating composition is characterized by containing (A) 20-250 pt.wt. inorganic powder having the photo catalytic activity, (B) 0.01-20 pt.wt. organic dyestuff and (c) 100 pt.wt. film-forming resin as indispensable components.例文帳に追加

光触媒活性を有する無機粉末（Ａ）２０〜２５０重量部、有機染料（Ｂ）０．０１〜２０重量部、被膜を形成する樹脂（Ｃ）１００重量部を必須成分として含有することを特徴とする光触媒活性を有する被覆組成物であり、前記光触媒活性を有する粉末が、アナターゼ型二酸化チタンである被覆組成物。 - 特許庁

This is a manufacturing method of a functional element in which an organic film is formed by coating an organic material using a coating equipment having a contact part for coating a coating solution by making it move relatively on a photo substrate while contacting with the substrate.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、光 基板上に、前記基板と接触した状態で相対的に移動させることにより塗布液を塗布する接触部を有する塗布用機器を用いて有機材料を塗布することにより、有機薄膜を形成することを特徴とする機能性素子の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of easily creating a print like a solid printing photo which is designed in response to a request of a client, from a plurality of differently designed film-like templates, and further capable of automatically composing frame images desired to print into a desired template and performing a printing process thereon even if there are a number of such frame images.例文帳に追加

デザインの異なる複数のフィルム形状のテンプレート中から顧客の要望に応じたデザインのべた焼き写真風のプリントを容易に作成することが出来、しかもプリントしたいコマ画像の数が多くても自動的に所望のテンプレートに合成して、プリント処理出来る画像処理装置を提供する。 - 特許庁

After liquid drops having different size which are formed of low-viscosity photo-setting resin or thermosetting resin are formed in random arrangement on a substrate surface by using an ink jet nozzle, the liquid drops are made asymmetrically partial and optically or thermally solidified in the partial state, and a reflecting layer is formed of a metal film on the surfaces of the solidified resin liquid drops.例文帳に追加

インクジェットノズルを使用して基板表面に低粘度の光硬化型樹脂若しくは熱硬化型樹脂からなる大きさの異なる液滴をランダム配置で形成した後、基板を傾斜させて液滴を非対称型に偏らせ、液滴を偏らせた状態を光硬化若しくは熱硬化させて固化し、さらに固化した樹脂液滴の表面に金属膜からなる反射層を形成する。 - 特許庁

The image processing unit is provided with luminance component calculation section 4 that calculates luminance data by each pixel on the basis of RGB image data by each pixel being a component of an image recorded on a photo film and with a contrast correction section 5 that changes only luminance data belonging to part of density blocks when the luminance data are cross-referenced with density blocks.例文帳に追加

写真フィルムに記録された画像を構成する各画素のＲＧＢの画像データに基づいて輝度データを各画素ごとに算出する輝度成分算出部４と、上記輝度データをその値に応じて複数の濃度区間に対応付けたときに、一部の濃度区間に属する輝度データのみを変更するコントラスト補正部５とを設ける。 - 特許庁

In the photoelectric conversion device 10 equipped with a photo semiconductor electrode 20 equipped with a metal oxide semiconductor layer 3, the counter electrode 21, and an electrolyte layer 4 pinched between these electrodes, the counter electrode 21 is equipped with a conductive polymer film 8 formed by coating an organic solvent dispersion solution of conductive polymer.例文帳に追加

金属酸化物半導体層３を具備する光半導体電極２０と、対向電極２１と、これらの電極間に挟持されてなる電解質層４を具備する光電変換素子１０において、対向電極２１は、導電性高分子の有機溶媒分散溶液を塗布することにより形成された導電性高分子膜８を具備しているものとする。 - 特許庁

To provide a photosensitive negative type lithographic printing plate which has a hydrophilic layer acting as a non-image portion during a development process and a photo-polymerizing photosensitive layer acting as an image portion during the development process on a plastic film support body of which the non-image portion can be removed by as chemical-less developing agent and which has resistance to the wear the plate.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に、現像処理時に非画像部として作用する親水性層と、現像処理時に画像部として作用する光重合性の感光層とを有する感光性ネガ型平版印刷版において、ケミカルレス現像液による非画像部の除去が可能で、かつ耐刷性の良好な感光性ネガ型平版印刷版を提供する。 - 特許庁

The laminate is prepared by laminating a substrate which has a structure able of photo-polymerization combining with a compound on its surface, a layer containing the compound, and a film having oxygen blocking function and containing a high molecular compound in this order, wherein the compound has an unsaturated part capable of radical polymerization and a part absorbable of a metal ion or a metal salt.例文帳に追加

ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を光重合反応により結合しうる構造を表面に有する基材上に、該ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を含有する層、及び、高分子化合物を含有し、酸素遮断能を有する膜を、この順に積層した積層体。 - 特許庁

As a result, not only a patterned photo resist film 34 but also the slope 16a function as a mask for an ion implantation, the n-type impurity ion is not implanted into the slope 16a but implanted into a bottom face 15 and each slope 16b to 16d to form high concentration n-type impurity regions 18, 20.例文帳に追加

すると、パターニングしたフォトレジスト膜３４だけでなく斜面１６ａについてもイオン注入用マスクとして機能し、斜面１６ａにはＮ形不純物イオンが注入されず、底面１５および各斜面１６ｂ〜１６ｄにＮ形不純物イオンが注入され、高濃度Ｎ形不純物領域１８，２０が形成される。 - 特許庁

The optical anisotropic film is prepared by irradiating a composition containing a high molecular weight polymer having as structural units, a repeating unit having both of a polymerizable group and a mesogen group and a repeating unit having a photo-reactive group, with light to develop optical anisotropy, and then by crosslinking the polymerizable group.例文帳に追加

重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位とを構成単位として含む高分子重合体を含む組成物を、光照射により光学異方性を発現させた後、前記重合性基を架橋してなることを特徴とする光学異方性フィルム。 - 特許庁

The thin-film composition is obtained by photo-irradiating a composition comprising a fluoroalkyl group-bearing (meth)acrylate and/or acrylate compound and/or a fluoropolymer dissolved or dispersed in an organic solvent, an organic compound bearing one to five acryloyl or methacryloyl groups and a photopolymerization initiator, and optionally fumed silica.例文帳に追加

フルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物およびまたはアクリレート化合物およびまたは有機溶剤に溶解または分散させた含フッ素ポリマー、１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有する有機化合物と、光重合開始剤からなる組成物に、場合によりフュームドシリカを配合し光照射し、薄膜組成物を得る。 - 特許庁

This thick film conductor composition is useful in application to both via-fill and/or line conductors to manufacture Low Temperature Co-fireable Ceramic (LTCC) and other Multilayer Interconnect (MLT) ceramic composite circuits such as Photo-sensitive Tape on Substrate (PTOS), and gold, silver, and mixed metal multilayer circuits and devices.例文帳に追加

本発明は、低温同時焼成セラミック（ＬＴＣＣ）デバイス、ならびに基板上感光性テープ（ＰＴＯＳ）の金、銀および混合金属多層回路およびデバイスなど他の多層相互接続（ＭＬＩ）セラミック複合回路の製造のためのビア充填および／または配線導体への応用に有用な厚膜導体組成物に関する。 - 特許庁

The resin material for a lens-fitted photo film unit comprising a front cover, a main body and a rear cover contains 0.1-0.3 mass% of carbon black, 0.5-1.5 mass% of an achromatic light shielding substance other than carbon black, and 1.2-3.2 mass% of a chromatic light shielding substance.例文帳に追加

前カバーと、本体と、裏蓋とを有するレンズ付きフィルムユニット用の樹脂材料において、カーボンブラックが０．１〜０．３質量％と、カーボンブラック以外の他の無彩色の遮光性物質が０．５〜１．５質量％と、有彩色の遮光性物質が１．２〜３．２質量％とを含有していることを特徴とするレンズ付きフィルムユニット用の樹脂材料。 - 特許庁

Merely an oxide film 5 that is deposited, in advance, in a groove 4 for alignment is selectively thinned with photo resist as a mask, thus preventing the region of the groove 4 for alignment from being flattened even in a flattening machining after that, and hence achieving an effective function as the mark for positioning of a process following after an element insulation and isolation process.例文帳に追加

予め位置合わせ用溝４に堆積した酸化膜５のみをフォトレジストをマスクとして選択的に薄くすることにより、その後の平坦化加工においても、位置合わせ用溝４の領域が平坦になることはなく、素子絶縁分離工程に続く工程の目合わせ用マークとして有効に機能させることができる。 - 特許庁

By irradiating a photoreactive polymeric film having a photoreactive group in the side chain or in the main chain with a linearly polarized light, the direction of the transition moment of the photoreactive polymer is changed and as a result, the direction of orientation of the molecular axis causes the photo-reorientation which brings about the rearrangement predominantly in the direction perpendicular to the axis of the irradiated polarized light.例文帳に追加

側鎖あるいは主鎖に光反応基を有する光反応性高分子膜に直線偏光を照射することにより、その光反応性高分子の遷移モ−メントの方向を変化させ、その結果として、分子軸の配向方向が照射偏光軸に対して垂直方向に優先的に並び替えを起こす光再配向を生起させる。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes: a first substrate and a second substrate disposed facing each other: an alignment film disposed on at least one of the first substrate and the second substrate, and including a major alignment material and a first vertical photo-alignment material; and liquid crystal interposed between the first substrate and the second substrate.例文帳に追加

本発明の位置実施形態による液晶表示装置は、互いに対向する第１基板及び第２基板と、第１基板及び第２基板のうちの少なくとも一つの上に形成され、主配向物質と第１垂直発現基を含む垂直光配向物質とを含む配向膜と、第１基板と第２基板との間に介在する液晶と、を含む。 - 特許庁

The display device is equipped with a photo sensing element comprising a data line to supply a data voltage, a gate line intersecting the data line, a first thin film transistor located at an intersection area of the substrate data line and the gate line, and a first storage capacitor driven by a driving voltage different from the data voltage, sensing external light and storing a sensed signal.例文帳に追加

データ電圧を供給するデータラインと、前記データラインと交差されるゲートラインと、基板データライン及びゲートラインの交差領域に位置する第１薄膜トランジスタと、前記データ電圧と異なる駆動電圧によって駆動され、外部からの光をセンシングすると共にセンシングされた信号を貯蔵するための第１ストレージキャパシタとを含むフォトセンシング素子を備える。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device capable of controlling a catastrophic optical damage (COD) caused by a photo output of the semiconductor laser device and a production process of the same, in regard to the semiconductor laser device in which the interface state of the interface between the semiconductor laser (oscillator) and a coating film is reduced by a simple method and the production process of the same.例文帳に追加

本発明は、半導体レーザ（共振器）とコーティング膜との界面の界面準位を簡易な方法により低減した半導体レーザ素子とその製造方法に関し、半導体レーザの光出力に起因した瞬時光学損傷（ＣＯＤ）を抑制できる半導体レーザ素子とその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The alkali-developable photosensitive resin composition for forming a protective film of a touch panel (Q) contains a (co) polymer (A) having a vinyl monomer (a) having an aromatic ring in the molecule as an essential structural unit, a polyfunctional (meth)acrylate monomer (B) including no carboxyl group in the molecule, and a photo-radical polymerization initiator (C) as essential components.例文帳に追加

芳香環を分子内に有するビニルモノマー（ａ）を必須構成単位とする（共）重合体（Ａ）、分子内にカルボキシル基を含まない多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、および光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とするアルカリ現像可能なタッチパネルの保護膜形成用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 - 特許庁

(2) The method for forming the coating film described in (1) includes a process of imparting thermal energy to at least one of the member to be coated, the setting resin and the smoothing plate concentrically with respect to a rotation center in applying annularly at least in one of stages before and in the middle of applying the photo or thermo-setting resin and in the middle of spreading it.例文帳に追加

（２）熱又は光硬化性樹脂の塗工前、塗工中、展延中の少なくとも一つの段階において、被覆対象となる部材、該硬化性樹脂、平滑基板のうちの少なくとも一つに対し、円環状に塗工する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する工程を含む（１）記載の被覆膜形成方法。 - 特許庁