「photo film」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

A poly-crystalline silicon film 5 is formed on the overall face of a semiconductor substrate 1, and the patterning of the poly-crsytalline silicon film 5 is carried out by using a photo-lithography technology and an etching technology so that a gettering site 5a can be formed in a scribe region R3.例文帳に追加

半導体基板１上の全面に多結晶シリコン膜５を成膜し、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて多結晶シリコン膜５をパターニングすることにより、スクライブ領域Ｒ３にゲッタリングサイト５ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a plasma-photo combined CVD film, in which heat damage by an ion is effectively improved while using a plasma CVD method, and the film can be effectively formed even on a substrate which is poor in heat resistance and needs to be positively prevented from heat deformation.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法を利用しながら、イオンによる熱損傷が有効に改善され、耐熱性が乏しく、熱変形を確実に防止することが必要な基板に対しても有効に成膜を行うことが可能なプラズマ−光複合ＣＶＤ成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curing resin composition and a coating, which has viscosity sufficiently good for working property and good property of curing coating film surfaces, so as to be able to form a cured coating film having sufficiently high mechanical strength, sufficiently high elongation, and sufficiently good adhesiveness with a substrate.例文帳に追加

作業性に十分優れる粘度を有し、塗膜表面の硬化性に優れ、十分に高い機械的強度を有する硬化塗膜を形成できると共に、十分に高い伸び率を有し基材との密着性に十分優れた硬化塗膜を形成できる光硬化性樹脂組成物及び塗料を提供すること。 - 特許庁

When the polyester film is used as a light-dispersing film of an LCD display, a uniform antistatic property is obtained and also excellent characteristics capable of reducing a peeling electric charge without deteriorating photo characteristics caused by the elution under a high temperature and a high humidity, and dissolving defects caused by the static electricity generated on peeling are obtained.例文帳に追加

このポリエステルフィルムをＬＣＤディスプレイの光拡散フィルムに使用する場合、均一な帯電防止性が得られ、また高温高湿下で溶出による光特性低下無しに剥離帯電が低減し、剥離時に発生する静電気による欠陥を解消できる優秀な特性が得られる。 - 特許庁

To provide a resin relief printing plate for printing which can improve the accuracy for positioning when the resin relief printing plate for printing prepared by forming printing projecting parts made of a photo-sensitive resin corresponding to a printing image on a base film is fixed on a carrier film, and can increase in efficiency of an operation, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

ベースフィルムに印刷イメージに対応した感光性樹脂製の印刷凸部を形成してなる印刷用樹脂凸版をキャリアフィルムに固定する際の位置決めの精度を高めるとともに、作業の効率化を図ることのできる印刷用樹脂凸版およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Each pixel (pixel sizes: a 2.2 μm square) in the solid-state imaging element 100 has a light-transmitting film 1 having a first refractive-index distribution, the light-transmitting film 2 having a second refractive-index distribution, a photo-detector 3, wiring 4, a wavelength selective filter 5, and an Si board 6.例文帳に追加

固体撮像素子１００における各画素（画素サイズ□２．２μｍ）は、第１の屈折率分布を有する光透過膜１、第２の屈折率分布を有する光透過膜２、受光素子３、配線４、波長選択フィルタ５およびＳi基板６を備える。 - 特許庁

To provide a light-decomposition transfer material which is excellent on insulation and includes a black mill base satisfying a suitable light-shielding property, an insulating film formed by a photo-lithography by using the light-decomposition transfer material, and an organic light-emitting element including the insulating film.例文帳に追加

絶縁性に優れ、かつ適当な遮光性を満足するブラックミルベースを含有する光分解性転写材料、これを用いてフォトリソグラフィーによって形成された絶縁膜、およびこれを含有する有機発光素子の提供。 - 特許庁

To provide a polyester film capable of being applied to a solar cell, an electronic instrument, goods related to a life ornament such as a building material or the like, an UV photosensitive marker and a photo-sensor technique in electronic components without contaminating the inside of a system when the film is used, and has a good recognition function.例文帳に追加

使用される際に系内を汚染することがなく、太陽電池や電子機器、さらには建材などの生活装飾品関連、電子部品におけるＵＶ感光マーカーや光センサー技術への応用が期待できる、良好な識別機能が付与されたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

A plurality of conductive members 2 separated from each other are arranged at the sides facing a space 4 in an elastic insulation body 1 having a space 4 at its inside, and a coating film 7 made of photo-curing resin is arranged on the outer surface of the elastic insulation body 1, and a rubber cover 11 is arranged on the outer periphery of the coating film 7.例文帳に追加

内部に空隙４を有する弾性絶縁体１の空隙４に臨む側に互いに離れた複数の導電部材２を設け、前記弾性絶縁体１の外表面に光硬化樹脂からなるコーティング膜７を施し、そのコーティング膜７の外周にゴムカバー１１を設けた。 - 特許庁

It creates a transparent conductive film patternized by being developed into an alkali aqueous solution and by burning above 500°C after coating and drying the coating solution on the substrate, arranging a photo mask on the drying film, and irradiating an ultraviolet rays and exposing to the light.例文帳に追加

この塗布液を基板上に塗布・乾燥し、乾燥膜上にフォトマスクを設置し、紫外線を照射して露光した後、アルカリ水溶液にて現像して、５００℃以上で焼成することによって、パターン化された透明導電膜が作成される。 - 特許庁

An alignment mark 74a of a photo mask 71 and the alignment mark 15 are aligned, a resist film (a photosensitive film 56) formed on the one main surface of the conductive material 51 is exposed to form an etching mask, and the conductive material 51 is etched using the etching mask.例文帳に追加

フォトマスク７１のアライメントマーク７４ａとアライメントマーク１５とを位置合し、導電材料５１の１つの主面に形成したレジスト膜（感光性フィルム５６）を露光してエッチングマスクを形成し、そのエッチングマスクを用いて導電材料５１をエッチングする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device that performs anisotropic dry-etching on an insulating film allowing for high selectivity with a photo-resist film and without causing an etching stop, the anisotropic dry-etching done when forming an upper contact with a large radius and a lower contact with a small radius.例文帳に追加

上部の径が大きく、下部の径が小さなコンタクトを形成する際に行う絶縁膜の異方性ドライエッチングを、フォトレジスト膜との選択性が高く且つエッチストップを生ずることなくエッチングする、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Non-contact type film thickness measurement is made possible by through holes 110R, 110G and 110B provided in respective color filters and film thicknesses of the respective color filters are measured together with the height of the photo spacer 13 and measured results can be fed back to liquid crystal dropping quantities.例文帳に追加

各色のカラーフィルタに設けられた貫通孔１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂにより、非接触式の膜厚測定が可能となり、フォトスペーサ１３の高さと共に各色カラーフィルタの膜厚を測定して、これらを液晶滴下量にフィードバックすることができる。 - 特許庁

A solar cell module using a photo electromotive force element at a part at least of which has a thin film crystal and having a flexibility, is so made as the direction of easily warping which the module inherently has, not to be coincident with the direction of most easily cleaving for the thin film single crystal.例文帳に追加

少なくとも一部に薄膜単結晶を有する光起電力素子を用いた可撓性を有する太陽電池モジュールにおいて、該モジュール固有の撓み易い方向と、該薄膜単結晶の最もへき開しやすい方向とが、一致しないようにする。 - 特許庁

A reflection film 24 formed on the side wall of the opening 24A is connected to the light shielding layer 17 at the terminal rim 17B of the window 17A without any clearance, while an area except the photo detecting unit or the photodiode 11 is shielded from light perfectly by the reflection film 24 and the light shielding layer 17.例文帳に追加

開口部２４Ａの側壁に形成された反射膜２４は、窓１７Ａの端縁１７Ｂで遮光層１７と隙間なく接合され、受光部であるフォトダイオード１１以外の領域は、反射膜２４および遮光層１７によって完全遮光されている。 - 特許庁

The photo-processing device is provided with a division processing part 211 for dividing a photographic film into groups of a predetermine number of frames, a basic exposure data calculation part 212 for calculating a basic exposure data of each piece of film, and a frame image correction part 213 for correcting each frame image based on the basic exposure data.例文帳に追加

写真フィルムを所定コマ数毎のグループに区分けする区分処理部２１１と、各グループに含まれるコマ画像を基に、ピースフィルム毎の基本露光データを算出する基本露光データ算出部２１２と、基本露光データを基に各コマ画像を補正するコマ画像補正部２１３とを備える。 - 特許庁

To eliminate or suppress the occurrence of vignetting, where a picture on a film is not outputted to a print, etc., in an image reader/processor, a digital photo printer and an image reading and processing method for reading an original image photographed on the film and giving image processing to it to make output data.例文帳に追加

フィルムに撮影された原画像を読取り、画像処理を施して出力データとする画像読取・処理装置、デジタルフォトプリンタおよび画像読取・処理方法において、フィルムに写っている画像がプリント等に出力されないケラレの発生を無くし、また抑制することを課題とする。 - 特許庁

A laminate film for a photo-catalyst coating has an ultraviolet ray absorbing layer of a thickness of not less than 0.5 μm to not more than 10 μm laminated at least on one side of a thermoplastic film, wherein an acrylic resin copolymerized with a benzotriazole-based ultraviolet ray absorbing monomer is preferably employed as the ultraviolet ray absorbing layer.例文帳に追加

熱可塑性フィルムの少なくとも片面に、厚さ０．５μｍ以上、１０μｍ以下の紫外線吸収層を設けてなる光触媒コート用耐候性積層フィルムで、紫外線吸収層にはベンゾトリアゾール系紫外線吸収モノマー共重合アクリル樹脂が好ましく用いられる。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor comprises the steps of the forming an n+ type epitaxial layer 2a first on a substrate, forming a SiO_2 film on the substrate and opening a capacitor dielectric film region and an upper electrode contact region by means of photo lithography and etching.例文帳に追加

このキャパシタの製法は、まずＳｉ基板１上にｎ型エピタキシァル層２ａを形成し、次に基板１の表面にＳｉＯ_２膜を形成し、フォトリソ工程とエツチ工程により、キャパシタ誘電体膜領域と上側電極コンタクト領域を開口する。 - 特許庁

The same concern can be found, for example, in the Japan-Film case, in which the U.S.A. claimed that exportation [of photo-film] from the U.S.A. was prevented by the anti-competitive practices of FUJIFILM Corporation. The same concern underlies the EU’s policy of introducing the common competition policy within the EU in parallel with the liberalization of movement of goods (i.e. elimination of intra-regional tariffs) within the EU.例文帳に追加

例えば、日本－フィルム・ケースにおける、富士フィルム社の反競争的行為により米国からの輸出が阻害されているとの米国の主張や、モノの移動の自由化（域内関税撤廃）と並行して統一競争政策導入を進めたEU の考え方と共通する問題意識である。 - 経済産業省

A pixel of the CMOS image sensor includes a first conductive substrate, a second conductive photo diode region formed on the first conductive substrate, a transfer gate formed on the first conductive substrate, a floating diffusion layer formed between the second conductive photo diode region and the transfer gate on the first conductive substrate, a dielectric film laminated on the second conductive photo diode region and a capacitor electrode.例文帳に追加

ＣＭＯＳイメージセンサーのピクセルは、第１導電性の基板と、前記第１導電性の基板上に形成された第２導電性のフォトダイオード領域と、前記第１導電性の基板上に形成されたトランスファーゲートと、前記第１導電性の基板上の前記第２導電性のフォトダイオード領域と前記トランスファーゲートとの間に形成された浮遊拡散層と、前記第２導電性のフォトダイオード領域上に積層された誘電膜及びキャパシター電極を含む。 - 特許庁

To provide a thin film pattern forming method for directly forming a thin film circuit pattern using a mask by which a continuous circuit pattern difficult to be formed by mask film deposition can be formed without using any photo-lithography etching process in forming thin film circuit pattern, a pattern forming apparatus using the method, and an electronic circuit device manufactured by the forming apparatus.例文帳に追加

薄膜回路パターン形成において、ホトリソグラフィー・エッチィングプロセスを用いることなく、かつマスク成膜では難しかった連続回路パターン形成を可能とするマスクを用いた薄膜回路パターン直接形成するパターン形成方法とそれを用いたパターン形成装置、さらには該形成装置により製造された電子回路装置を提供する。 - 特許庁

The packaging material has a thin film coating part 4 based on a substance with corrosion resistance, electrical conductivity and food compatibility on a transparent packaging film 1 made of a synthetic resin, and a thin film forming part 2 based on a photo-catalytic metal oxide formed with a required shape at a required position on the thin film coating part 4.例文帳に追加

透明性を有する合成樹脂製の包装用フィルム（１）上に、耐食性・電気導電性・食品適合性を有する物質による薄膜コーティング部４と、該薄膜コーティング部４上の所望の箇所に所望の形状で形成した光触媒性の金属酸化物による薄膜形成部分２とを有する。 - 特許庁

The method of manufacturing a bidirectional photo thyristor having a semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film as a high voltage withstanding passivation film of a planar type light receiving device comprises a step of measuring the refractive index of the semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film, and a step of estimating the oxygen concentration of the semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film, based on the measured refractive index.例文帳に追加

本発明の製造方法は、プレーナ型受光素子の高耐圧用パシベーション膜として半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜を有する双方向フォトサイリスタの製造方法であって、半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜の屈折率を測定する工程と、測定した屈折率に基き半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜の酸素濃度を推定する工程とを備える。 - 特許庁

To manufacture a flat panel display device comprising transistors having reduced characteristic dispersion and no direction dependency of the characteristic, by irradiating a desired region of an amorphous silicon film formed on a glass substrate with continuous oscillation laser light directly, to convert into a fine crystal silicon film, without a process of forming and removing a buffer film and a photo-thermal conversion film.例文帳に追加

バッファー膜、光熱変換膜を形成および除去する工程を経ることなく、ガラス基板上に形成した非晶質シリコン膜の所望の領域に直接、連続発振レーザ光を照射して微結晶シリコン膜に変換することにより、特性バラツキが小さく、特性の方向依存性のないトランジスタで構成された平面表示装置を製造する。 - 特許庁

To prevent zero-cross operation failures by a parasitic capacitance of a semi-insulating film to operate stably an AC voltage in a photo-thyristor element incorporated with a MOSFET for obtaining a zero-cross function, comprising a photodiode or a phototransistor for photodriving a gate of the MOSFET, and having a high breakdown voltage passivation film provided with an oxygen dope semi-insulating film on an insulation film.例文帳に追加

ゼロクロス機能を得るためのＭＯＳＦＥＴを内蔵し、ＭＯＳＦＥＴのゲートを光駆動するためのフォトダイオードまたはフォトトランジスタを備え、絶縁膜上に酸素ドープ半絶縁膜を設けた高耐圧パッシベーション膜を有するフォトサイリスタ素子において、半絶縁膜の寄生容量によるゼロクロス動作不良を防いでＡＣ電圧に対して安定して動作させる。 - 特許庁

In the film unit with lens with a built-in simple photographing mechanism and a preliminarily loaded unexposed photo film, a part or the whole of an outer packing member which covers the photographing mechanism and a stroboscopic panel which transmits and emits at least stroboscopic light are covered with a shrink film in such a way that a predetermined gap is left between the stroboscopic panel and the shrink film.例文帳に追加

簡易な撮影機構を内蔵し、未露光のフィルムを予め装填したレンズ付きフィルムユニットにおいて、前記撮影機構を被覆する外装部材の一部若しくは全体と、少なくともストロボ光を透過して照射するストロボパネルとをシュリンクフィルムにて被覆し、前記ストロボパネルと前記シュリンクフィルムとの間に措定の間隙を設けたこと。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加

球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a gas barrier film, leaving extremely little foreign substances remaining on a film surface and giving no damage to the surface of a gas barrier film, and to provide a packaging material which is extremely clean and has high durability, and an organic electronic device such as an organic photo-electric conversion element and an organic EL element using a gas barrier film produced by the above method.例文帳に追加

本発明の目的は、表面に残存する異物が極めて少なく、かつガスバリア性フィルム表面にダメージを与えないガスバリア性フィルムの洗浄方法及びその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めてクリーンで耐久性の高い包装材料及び有機光電変換素子や有機ＥＬ素子のような有機電子デバイスを提供することにある。 - 特許庁

The second resist 24d is treated by photo lithography, the intermediate insulation film 22d and the first resist 20d are treated by reactive ion etching, and the protection film 18d is wet-etched in order, thus forming a contact hole in the protection film 18d without exposing the thin-film metallic resistance 16 in a plasma.例文帳に追加

第２レジスト２４ｄに対するフォトリソグラフィー、中間絶縁膜２２ｄ及び第１レジスト２０ｄに対するリアクティブイオンエッチング、保護膜１８ｄに対するウエットエッチングを順次行うことにより薄膜金属抵抗１６をプラズマに晒すことなく保護膜１８ｄにコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligning agent which can impart a good pretilt angle when a liquid crystal aligning film is formed therefrom by a photo-alignment method and this film is applied to a VA type liquid crystal display element, and which can form a liquid crystal aligning film excellent in stability with time of the imparted pretilt angle.例文帳に追加

光配向法によって液晶配向膜を形成したときに、これをＶＡ型の液晶表示素子に適用した場合にあっては良好なプレチルト角を付与することができ、且つ付与されたプレチルト角の経時的安定性に優れる液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

A protection film formed over the overall length of the surface of the decorative rubber 13 is formed from a hologram foil 6, which consists of a base film 7 and a large number of holograms 8 printed on the film 7 at a certain spacing 7a from one another, wherein the hologram 8 contains weatherable ink 8a and photo-catalyst titanium oxide 8b.例文帳に追加

化粧ゴム１３の表面の全長にわたってに形成される保護膜がホログラム箔６から成り、このホログラム箔６は、ベースフィルム７と、このベースフィルム７上に互いに隙間７ａをあけて多数印刷形成されるホログラム８とから成り、このホログラム８は、耐候性インキ８ａと光触媒酸化チタン８ｂとを含む。 - 特許庁

After an organic film pattern such as photo-resist is formed in the surface layer, impurity ions are implanted, the organic film is carbonized to provide a graphite film which is used as a mask for selective doping by a thermal diffusion method, and a surface roughening is prevented while impurity atoms are suppressed from being desorbed from the surface due to out-diffusion.例文帳に追加

表面層にフォトレジスト等の有機膜パターンを形成後、不純物イオンを注入し、その有機膜を炭化させたグラファイト膜をマスクとして熱拡散法による選択ドーピングをおこなうことにより、表面荒れを防ぐとともに不純物原子の外方拡散による表面からの脱離を抑制する。 - 特許庁

A photosensitive resin film 5 is applied on a color filter substrate in a desired film thickness and, thereafter, a flattened resin film part 5a with a desired thickness and a pillar spacer part 5b with a desired height thereon are formed en bloc by one time exposure development by using a photo mask 20 which has a total transmission pattern 20a and a half tone pattern 20b.例文帳に追加

カラーフィルタ基板上に感光性樹脂膜５を所要膜厚に塗布した後、全透過パターン２０ａとハーフトーンパターン２０ｂとを有するフォトマスク２０を用いて一回の露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成する。 - 特許庁

When the photocatalyst is photo-excited after the coating film of the silicone resin is formed by applying the coating composition on the base material and curing, an organic group bonded to a silicon atom in the silicone molecule on the surface of the coating film is replaced by a hydroxy group in the presence of water by the photocatalytic action to highly hydrophilize the surface of the coating film.例文帳に追加

このコーティング組成物を基材に塗布し硬化させてシリコーン樹脂の被膜を形成した後、光触媒を光励起すると、被膜の表面のシリコーン分子のケイ素原子に結合した有機基は光触媒作用により水の存在下で水酸基に置換され、被膜の表面が高度に親水化される。 - 特許庁

To provide an array substrate, a display device and a method for manufacturing the substrate, which contribute to reduction in cost, increase in yield and expansion of the process margin of forming and processing an intermediate resist film thickness by reducing variation in the intermediate resist film thickness when intermediate exposure is performed on a region where a plurality of types of thin film patterns are formed at the same photo lithography step.例文帳に追加

複数種類の薄膜パターンを形成する領域に、同一の写真製版工程で中間的な露光を行う場合、中間レジスト膜厚のばらつきを小さくして、中間レジスト膜厚を形成して加工するプロセスのマージンを拡大して歩留りを上げ、低コストなアレイ基板、表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing microbeads includes: the forming process S_2 for forming a thin film formed on a substrate in a predetermined form by photo-lithography; the immobilizing process S_5 for immobilizing a prescribed substance on the thin film which has been formed on the substrate; and the stripping off process S_6 for stripping off the thin film on which the substance has been immobilized after forming.例文帳に追加

基板上に製膜された薄膜をフォトリソグラフィーによって所定の形状に成形する成形工程S_2と、成形後の前記薄膜上に所定の物質を固相化する固相化工程S_5と、前記物質が固相化された成形後の前記薄膜を前記基板から剥離する剥離工程S_6と、を含むマイクロビーズ作製方法を提供する。 - 特許庁

This method of adhering two substrates adheres by locating an activated adhesive film after irradiating the photo activating type adhesive film with light to contact with a first substrate, and locating a second substrate to contact with the activated adhesive film, and then thermo compression bonding the first substrate and the second substrate.例文帳に追加

２つの基材を接着する方法において、光線活性化型接着フィルムに光線を照射し、この活性化された接着フィルムを第１の基材と接するように配置し、第２の基材を、前記活性化された接着フィルムと接するように配置し、次いで上記第１の基材と第２の基材を熱圧着して接着する。 - 特許庁

The method of manufacturing image sensor includes a step of forming a photo sensitive film for forming a microlens on a color filter, a step of forming a pattern having a predetermined depth from upper plane by exposing the photosensitive film, a step of forming a backup microlens by heat treating the photosensitive film, and a step of forming a microlens by etching the backup microlens.例文帳に追加

実施例に係るイメージセンサの製造方法は、カラーフィルタ層の上にマイクロレンズ形成のための感光膜を形成するステップと、前記感光膜に露光を行って、上部面から所定深さを有するパターンを形成するステップと、前記感光膜に熱処理を行って、予備マイクロレンズを形成するステップと、前記予備マイクロレンズにエッチングを行って、マイクロレンズを形成するステップとを備える。 - 特許庁

A semiconductor device comprises a polyorganosiloxane-cured relief pattern obtained by a method comprising a step of applying a certain polyorganosiloxane composition to obtain a coating film on a substrate; a step of irradiating the coating film with an active ray through a patterning mask to photo-cure an exposure part; a step of removing an uncured part of the coating film by using a developer; and a step of heating each of the substrates.例文帳に追加

基材上に、特定のポリオルガノシロキサン組成物を塗布して塗布膜を得る工程、 パターニングマスクを介して該塗布膜に活性光線を照射し露光部を光硬化させる工程、現像液を用いて該塗布膜の未硬化の部分を除去する工程該基材ごと加熱する工程からなる方法によって得られるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターンを含む半導体装置。 - 特許庁

Thereby, the barrier film prevents that an underlying material having diffused the film emitting photoelectrons by photo-irradiation covers the film surface, and therefore, the photoelectron emission plate 1 in which the number of negative ions is not greatly reduced due to a negative particle generating time, that is, which has excellent durability for a long period of time is obtained, and the negative particle generating device using this is also obtained.例文帳に追加

これにより、光照射により光電子を放出する膜を拡散した下地材がこの膜表面を被覆することをバリア膜で防ぐことで、マイナス粒子発生時間により、マイナスイオン数が大きく減少することのない、すなわち長期にわたり耐久性に優れた光電子放出板１およびこれを用いたマイナス粒子発生装置が実現できる。 - 特許庁

To provide a photo cationic curable dry film resist which is developable with an aqueous alkali solution, assumes the shape of a solventless dry film resist, forms a resin layer excellent in developability, photosensitivity and surface curability and gives a cured body excellent in bending and breaking resistances, solvent, acid and heat resistances, etc., and a cured body of the dry film resist.例文帳に追加

無溶剤型のドライフィルムレジスト形態を取れ、その樹脂層は現像性、感光性、表面硬化性に優れ、その硬化物は、耐屈曲性、耐折性、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性等に優れた、アルカリ水溶液現像性光カチオン硬化型ドライフィルムレジスト及びその硬化物を提供すること。 - 特許庁

In the step of manufacturing the TFT array substrate of the electro-optical device, a gate insulating film 2 is formed, an etching mask is then formed by photo-lithography techniques, and a predetermined area of the gate insulating film 2 is selectively etched from the opening of the etching mask to thin the predetermined area of the gate insulating film 2.例文帳に追加

電気光学装置のＴＦＴアレイ基板の製造工程において、ゲート絶縁膜２を形成した後、フォトリソグラフィ技術により、エッチングマスクを形成し、エッチングマスクの開口からゲート絶縁膜２の所定領域を選択的にエッチングして、ゲート絶縁膜２の所定領域を薄くする。 - 特許庁

This inkjet recording method includes a step for forming a black film by ejecting, on a same region in a recoding medium respectively, a plurality of inkjet photo-curing type inks including at least a polymerizable compound, a polymerization initiator and a coloring agent, and a step for curing the film by allowing the film to be irradiated with light.例文帳に追加

本発明に係るインクジェット記録方法は、少なくとも重合性化合物、重合開始剤および色剤を含む、複数のインクジェット用光硬化型インクを、それぞれ記録媒体上の同一領域に吐出することによってブラックの膜を形成する工程と、光を照射することにより該膜を硬化させる工程と、を含む。 - 特許庁

Thus, since no photo resist is deposited on the capacity insulating film 105a, an oxygen plasma used for ashing is not irradiated, and insulation breakage can be prevented due to lowered flatness of the capacity insulating film and the operation failure, lowered yield, and lowering of reliability of the MIM capacitor due to contamination of the capacity insulating film.例文帳に追加

これにより容量絶縁膜１０５ａ上にフォトレジストが堆積されないため、アッシングに用いる酸素プラズマが照射されることがなく、容量絶縁膜の平坦性の低下による絶縁破壊及び容量絶縁膜の汚染によるＭＩＭキャパシタの動作不良、歩留り低下、デバイスの信頼性低下を防止することができる。 - 特許庁