「plane stress」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a transistor having a dielectric stressor for applying in-plane shear stress.例文帳に追加

面内剪断応力を加えるための誘電体ストレッサ要素を有するトランジスタを提供すること。 - 特許庁

To provide an optical film having a low stress and excellent in-plane uniformity of optical characteristics.例文帳に追加

低応力で且つ光学特性の面内均一性に優れた光学膜を提供すること。 - 特許庁

The smallest proof stress value of the obtained out-of-plane bending yield proof stress fMy, the punching shear yield proof stress psMy, and a yield proof stress wMy of a welding joint part of the column/beam is the yield proof stress jMy of the eccentric joint part.例文帳に追加

そして、求められた面外曲げ降伏耐力値ｆＭｙと、パンチングシャー降伏耐力値ｐｓＭｙと、柱梁の溶接接合部の降伏耐力値ｗＭｙのうちの最も小さい耐力値を、偏心接合部の降伏耐力ｊＭｙとする。 - 特許庁

The distribution quantity of the cross-sectional increment at a plurality of positions lined up in the board thickness direction is determined (S518), and the temporary in-plane stress is corrected with the distribution quantity, and the final value of the in-plane stress is calculated (S519).例文帳に追加

その断面力増分を、板厚方向に並んだ複数の位置にそれぞれ配分する配分量を決定し（Ｓ５１８）、その配分量で仮面内応力を補正して面内応力の最終値を算出する（Ｓ５１９）。 - 特許庁

To provide a stress measuring method and a device of a goose neck capable of measuring accurately the stress state and a working moment of a goose neck part receiving simultaneously in-plane bending and out-of-plane bending.例文帳に追加

面内曲げ、及び面外曲げを同時に受ける曲管部の応力状態、及び作用モーメントを精度よく測定することができる曲管の応力測定方法及び装置を得る。 - 特許庁

The gate electrode is covered with a compressive stress film accumulating compressive stress through a gate sidewall insulation film and an in-plane compressive stress is further applied to the channel region.例文帳に追加

さらにゲート電極をゲート側壁絶縁膜を介して、圧縮応力を蓄積した圧縮応力膜により覆い、前記チャネル領域に面内圧縮応力を、さらに印加する。 - 特許庁

In the method for press-bending a heated glass plate using a mold, the stress caused on the glass plate by bending is calculated, the stress determined by the calculation of the stress is in-plane compressive stress and the bending of the glass plate is carried out under a bending condition that the in-plane compressive stress is equal to or below an allowable value calculated by a buckling theory.例文帳に追加

加熱されたガラス板を、モールドを用いてプレス曲げするプレス曲げ成形方法において、プレス曲げによってガラス板に生じる応力を計算し、応力の計算で求められた応力が面内圧縮応力であって、該面内圧縮応力が座屈理論で計算される許容値以下となるプレス曲げ条件でガラス板のプレス曲げを行う。 - 特許庁

A temporary in-plane stress dynamically established with the board thickness direction stress is calculated by using the function (S516), and the increasing quantity of a cross-sectional force being the total sum on the cross-section of each shell element of the in-plane stress is calculated as a cross-sectional increment (S517).例文帳に追加

その関数を用いて、板厚方向応力と共に力学的に成立する仮面内応力を算出し（Ｓ５１６）、面内応力の、各シェル要素の断面上における総和である断面力が増加する量を断面力増分として算出する（Ｓ５１７）。 - 特許庁

The crystal plane having the superior resistance to the shear stress is a plane having large bonding density between crystal planes, e.g. the plane (100) among the planes (111), (110), (100) in a diamond type crystal.例文帳に追加

耐せん断応力性に優れる結晶面とは、結晶面の間のボンド密度が多い面であり、ダイヤモンド型結晶においては、{１１１}面と{１１０}面と{１００}面の中では{１００}面である。 - 特許庁

The thin film lamination comprises a stress generating layer 2A, a distorted substrate layer 3A having a first principal plane and a distortion introduced in the direction nearly parallel to the first principal plane by a stress applied from the stress generating layer 2A, and the epitaxial layer 4A which is epitaxially grown on the first principal plane of the distorted substrate layer 3A.例文帳に追加

応力発生層２Ａと、第１の主面を有し、前記応力発生層２Ａから印加される応力によって、前記第１の主面に対して略平行な方向に歪みが導入された歪み基板層３Ａと、前記歪み基板層３Ａの前記第１の主面上にエピタキシャル成長されたエピタキシャル層４Ａと、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The power supply pattern of a power supply plane layer 10 and the ground pattern of a ground plane layer are shifted on the same projection surface, thus avoiding the concentration of thermal stress at a boundary 11 of the power supply plane layer 10 and a boundary 21 of the ground plane layer.例文帳に追加

電源プレーン層１０の電源パターンとグランドプレーン層のグランドパターンとを同一投影面上でずらし、電源プレーン層１０の境界部１１とグランドプレーン層の境界部２１とに熱応力が集中するのを抑制した。 - 特許庁

In a relaxed state, a free end of the bimorph arm 178 extends out of the the plane of the planar substrate by residual stress in the bimorph arm 178.例文帳に追加

弛緩状態では、バイモルフアーム１７８内の残留応力により、バイモルフアーム１７８の自由端が平面基板の面外に延びる。 - 特許庁

The stress relaxation plate 4 includes many arc-shaped slits 5 concentrically from the center on its flat plane.例文帳に追加

その応力緩和プレート４は、その平面に中心部から同心円上に多数の弧状スリット５を形成する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CHIP AND FET (TRANSISTOR HAVING DIELECTRIC STRESSOR ELEMENT FOR APPLYING IN-PLANE SHEAR STRESS)例文帳に追加

チップ、ＦＥＴ製造方法（面内剪断応力を加えるための誘電体ストレッサ要素を有するトランジスタ） - 特許庁

Stress of the brace member 1 is transmitted to the side faces 11, 12 of the steel pipe column 2 from the in-plane of the joint plate 13 through the splice plate 15.例文帳に追加

ブレース部材１の応力は、添接板１５を介して接合板１３の面内から鋼管柱２の側面１１、１２に伝達される。 - 特許庁

To enable the position of a circuit part to be regulated on a three-dimensional solid plane without imposing a stress on the circuit.例文帳に追加

応力ストレスを回路部品に印加することなく、三次元的な立体平面上に回路部品の位置を調整することができるようにする。 - 特許庁

To provide a photomask blank comprising an optical film undergoing reduced stress and offering in-plane uniform optical properties.例文帳に追加

低応力で且つ高い面内均一性の光学特性の光学膜を備えたフォトマスクブランクを提供すること。 - 特許庁

To provide a laser irradiation device for reducing a crack failure of a cutting plane by preventing stress from occurring during laser irradiation.例文帳に追加

レーザ照射時に発生する応力を防止して切断面の割れ不良を減少させることのできるレーザ照射装置を提供する。 - 特許庁

A bending inner wall where only a comprossive stress is applied in a bending process is composed of plural plane walls forming contact angles more than 10° each other.例文帳に追加

曲げ加工時に圧縮応力のみが加えられる曲げ内側壁を、互いに１０°以上の接続角度をなす複数の平面壁から構成する。 - 特許庁

An evaluation value distribution by which the surface quality of the formed body is expressed is calculated on the basis of this distribution of out-of-plane deviation stress (S14).例文帳に追加

そして、この面外偏差応力分布に基づいて、前記成形体の面品質を表す評価値分布を算出する（Ｓ１４）。 - 特許庁

The stress of the subject, which is changed in accordance with the change of the phase, is outputted by a vector connecting the two points on the plane.例文帳に追加

平面上の２点を結ぶベクトルにより、フェーズの変化に応じて変化する被験者のストレスを出力する。 - 特許庁

Because the degree of freedom of the distortion in the plane direction exists in the non-joined parts, thermal distortion or thermal stress is relaxed.例文帳に追加

非接合部では、面方向に歪みの自由度が存在するため、熱歪みまたは熱応力を緩和することができる。 - 特許庁

To reduce insufficient squareness of a cleaving plane in the thickness direction by setting stress arising when cleaving a substrate to be processed to be substantially symmetric to a planned cleaving line.例文帳に追加

被加工基板を割断する際に発生する応力を、割断予定線に対して略対称にして、ソゲ量を抑えること。 - 特許庁

To provide a diagramming processor and a method for diagramming processing which can provide a stress diagram of only a viewed plane.例文帳に追加

見えている面のみの応力図を得ることを可能とする図化処理装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

In-plane tensile stress is produced on the p-GaN second contact layer by making the thickness of the p-GaN second contact layer less than a critical thickness, so that bandgap energy of the p-GaN second contact layer of the p-GaN second contact layer is reduced owing to the in-plane tensile stress.例文帳に追加

さらに、ｐ−ＧａＮ第２コンタクト層の膜厚を臨界膜厚未満とすることで、ｐ−ＧａＮ第２コンタクト層には面内引っ張り歪みが発生し、当該面内引っ張り歪みによってｐ−ＧａＮ第２コンタクト層のバンドギャップエネルギーが低減する。 - 特許庁

In an SOI device, the geSiGe-SDE generates a horizontal (parallel to the plane of the gate's dielectric) pressure stress and a vertical (perpendicular to the plane of the gate's dielectric) tensile stress in a PMOSFET channel, thereby forming a structure that will make the PMOSFET performance improved.例文帳に追加

ＳＯＩデバイスにおいては、ｇｅＳｉＧｅ−ＳＤＥは、水平方向の（ゲート誘電面に対して平行な）圧縮応力と、垂直方向の（該ゲート誘電面に対して直角の）引張り応力とをＰＭＯＳＦＥＴのチャネルに生成し、これによって、ＰＭＯＳＦＥＴ性能を向上させる構造を形成する。 - 特許庁

An out-of-plane bending yield proof stress fMy of the eccentric joint part and a punching shear yield proof stress psMy are obtained using a yield line theory and reflecting an amount of eccentricity of a steel beam in the yield line theory.例文帳に追加

偏心接合部の面外曲げ降伏耐力ｆＭｙと、パンチングシャー降伏耐力ｐｓＭｙとを、降伏線理論を用い、該降伏線理論に鋼梁の偏心量を反映させて求める。 - 特許庁

A plate glass 1 for a plane display device is formed of a substantially rectangular plate glass, and breakage stress when stress is loaded on an end 3 is 70 MPa or more.例文帳に追加

本発明の平面表示装置用板ガラス１は、略矩形状の板ガラスからなり、端部３に応力を負荷した際の破壊応力が７０ＭＰａ以上である。 - 特許庁

The reflection plane is not only deformed according to thickness distribution of the layer 32, but deformed by balance of stress distribution corresponding to thickness distribution of the layer 32 and internal stress of each film generated at the time of manufacturing.例文帳に追加

反射面は膜厚調整層３２の厚み分布に従って変形しているだけではなく、膜厚調整層３２の厚み分布に対応する応力分布と、作製時に発生した各膜の内部応力とのバランスによって変形している。 - 特許庁

The constitution of the layers of the second part is so changed as to cancel the stress of the first part according to the distribution of the stress over a plane parallel to the substrate.例文帳に追加

第１の部分の有する応力の、基板に平行な面内の分布に応じて第１の部分の有する応力を相殺するように第２の部分の層の構成を変化させたことを特徴とする。 - 特許庁

In the upper part electrode 15, the conductive film having compressive stress at a room temperature is used, which causes tensile-stress occurring in the ferroelectric film 14 in a direction perpendicular to an electrode plane to be directed to a direction of compressive stress.例文帳に追加

上部電極１５は、室温において圧縮応力を有する導電性膜を用いており、強誘電体膜１４の中に発生する、電極面に対して垂直方向の引張り応力を圧縮応力の方向に持っていくようにしている。 - 特許庁

When the cover member 26 is fixed to the base member 10 and the FPC assembly 22 is pressed, the stress member 34 is crushed, stress is caused from the stress member 34 and friction force is generated at an abuttment plane of the cover member 26 and the leg part 32, and the FPC assembly is fixed.例文帳に追加

カバー部材２６がベース部材１０に固定されてＦＰＣアセンブリ２２が押圧されると、応力部材３４がつぶれ、応力部材３４から応力が生じてカバー部材２６と足部３２との当接面で摩擦力が発生し、ＦＰＣアセンブリ２２が固定される。 - 特許庁

Accordingly, the welding portions can be positioned at the reference plane or near the reference plane, so that a stress generated at the welding portions having a reduced fatigue strength becomes relatively low and a durability of the suspension arm becomes high.例文帳に追加

したがって、溶接部を、基準平面、または、その近傍に位置させることができるため、疲労強度の低下している溶接部に発生する応力が比較的小さくなり、サスペンションアームの耐久性は高くなる。 - 特許庁

The stress reducing member 20 is formed by mechanically working the corners C of a highly thermally conductive material in a polygonal shape in the plane view so as to be rounded in the plane view.例文帳に追加

応力緩和部材２０は平面視多角形状をなす高熱伝導性材料のコーナ部Ｃを平面視がラウンド形状をなすように機械的に加工してなるものである。 - 特許庁

To provide a silicon layer of which the surface is other than a (111) plane and a nitride semiconductor layer of which the surface is a (0001) plane in a substrate, and to make small the stress caused by the difference in the linear expansion coefficients of silicon and nitride semiconductor.例文帳に追加

表面が（１１１）面以外であるシリコン層と、表面が（０００１）面である窒化物半導体層とを基板に設け、かつシリコンと窒化物半導体の線膨張係数の違いに起因した応力を小さくする。 - 特許庁

Consequently, a main-axis direction of stress close to a waveguide core is made horizontal, and a main axis of birefringence is not made to incline in a projection plane (XY projection plane), perpendicular to the waveguide, and unnecessary TE/TM polarized light coupling can be restrained.例文帳に追加

これにより、導波路コア付近の応力の主軸方向を水平とし、複屈折主軸を導波路に垂直な投影面（ＸＹ投影面）内において傾斜させず、不要なＴＥ／ＴＭ偏光間の結合を抑制することができる。 - 特許庁

The projection piece 55 and flange 56 are disposed at the corresponding positions across the intermediate plane 47, so stress operates on the carriage arm 22 equally between an upper and a lower side across the intermediate plane 47.例文帳に追加

突片５５およびフランジ５６は中間面４７を挟んで対応の位置に配置されることから、中間面４７を挟んで上側および下側でキャリッジアーム２２には均等に応力が作用する。 - 特許庁

The function for increasing the strength of a coat is made strengthened by growing the (111) lattice plane of the coat of TiCON and by suppressing the growth of the (200) lattice plane, by functioning for remaining a compressive stress in the coat by making the crystal grain in an azimuthal plane less, consequently.例文帳に追加

ＴｉＣＮＯ被膜の（111）結晶面を成長させ，かつ（200）結晶面の成長を抑制させて，その方位面の結晶粒を小さくすることにより被膜に圧縮応力を残留させる作用をし，その結果，被膜の強度を高める作用が強くなったものである。 - 特許庁

The holding member 30 has an elastic member 15 brought into contact with the surfaces of the optical waveguide forming area sides of the chips 9a, 9b and a plane member 16 brought into contact with the rear face of the substrate 1 and stress is applied to the member 30 by a stress applying member 12 to nip chips 9a, 9b.例文帳に追加

挟持部材３０はチップ９ａ，９ｂの光導波路２１ａ，２１ｂ，２２の形成領域側の面に接する弾性部材１５と基板１の裏面に接する平板部材１６とを有する構成とし、応力付与部材１２によって応力を付与して挟持する。 - 特許庁

By this structure, the influence of the force based on the stress to the flexible member can be effectively suppressed even when the stress is caused in the mirror device when it is attached to the other device, consequently, deterioration of flatness of the mirror plane can be suppressed.例文帳に追加

これによれば、他の装置への取付時にミラー装置内に応力が生じるような場合にも、その応力に基づく力が可撓性部材に及んでしまうことを効果的に抑制でき、結果、ミラー面の平面度の悪化の抑圧を図ることができる。 - 特許庁

The film deposition method includes: a stage of applying compressive stress to the in-plane direction of a substrate 30 by a substrate supporting part 20 supporting the substrate 30; and a stage of supplying film deposition particles to the substrate face of the substrate with the compressive stress applied thereto.例文帳に追加

基板３０を支持する基板支持部２０により前記基板の面内方向に圧縮応力を加える工程と、前記圧縮応力が加えられた前記基板の基板面に対し成膜粒子を供給する工程と、を有することを特徴とする成膜方法及び装置。 - 特許庁

A stress sensor A1 is used embedded in an object for stress measurement, and includes, in an XY plane, a pair of sensor elements 41, 42 each longitudinally extending in two separate directions different from each other, and, in a YZ plane, a pair of sensor elements 51, 52 each longitudinally extending in two separate directions different from each other.例文帳に追加

応力計測対象物中に埋設して用いる応力センサＡ１であって、ＸＹ平面内に、互いに異なる２方向にそれぞれ長手状に延びる一対のセンサエレメント４１，４２と、ＹＺ平面内に、互いに異なる２方向にそれぞれ長手状に延びる一対のセンサエレメント５１，５２と、を含む。 - 特許庁

This planar magnetic element is constituted by stacking a plane coil 3 and magnetic body thin films 1 and 4, between which insulating films 2 and the plane coil 3 are sandwiched on a substrate 4, is provided with a thin film 6 which is different in the direction of stress to the substrate on the reverse surface of the substrate to cancel the tensile stress that the substrate has.例文帳に追加

基板５に平面コイル３、絶縁膜２および平面コイル３を挟み込む磁性体薄膜１，４を積層して構成される平面型磁気素子において、基板５に対する応力の方向が異なる薄膜６を基板裏面に設けることで、基板の持つ引っ張り応力をキャンセルし得るようにする。 - 特許庁

Since stress generated in shrinkage fits or the like does not reach the mirror plane, mirror plane distortion is not caused, and since no clearance is made between the inside diameter of the polygonal mirror 9 and the outside diameter of the boss 8, there is no slippage in movement of the polygonal mirror and there is no unbalanced change at the time of rotation.例文帳に追加

焼きばめ等で発生した応力が鏡面に達しないので鏡面歪を起こすことがなく、多面鏡９の内径とボス８の外径間に隙間ができないので、多面鏡のズレ動きがなく、回転時のアンバランス変化がない。 - 特許庁

To improve axial stiffness while reducing stress at a contact part by achieving a plane-to-plane contact or the like similar to that in a triangular screw thread or a trapezoidal screw thread or the like manufactured by machining, in a screw manufacturing method using a cord-like member.例文帳に追加

索状部材を用いてねじを製造する方法において、機械加工によって製造される３角ねじや台形ねじ等におけると同様に面接触等をさせて、軸方向の剛性を高めること、また接触部の応力を下げることが本特許の課題である。 - 特許庁