「process liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

The air amount above a coating liquid tank in a coating chamber is controlled when a plastic transparent substrate material is drawn up in a process for applying hard coating treatment to the plastic transparent substrate material by a dipping method.例文帳に追加

プラスチック透明基材に浸漬法によりハードコート処理を行う工程において、プラスチック透明基材の引き上げ時に、塗工室内コーティング液槽上方の風量制御を行う。 - 特許庁

In the nozzle grouping process, given that the liquid droplet impact positions of the nozzles, represent frequency distribution, this is divided to the specified limits and the nozzles corresponding to the divided limits are regarded as belonging to one nozzle group.例文帳に追加

ノズルグループ化工程では、複数のノズルの着弾位置を度数分布とし、所定の範囲に基づいて分割して、分割された範囲に該当するノズルを１つのノズルグループとした。 - 特許庁

When the liquid formulation 13 is packed in the bottle 11 in its manufacturing process, the decorative sheet 1 is rolled up and inserted into the bottle 11 so that it may spread by its elasticity in the bottle 11.例文帳に追加

製造工程でボトル１１に液体製剤１３を充填する場合は、装飾用シート１を巻いてボトル１１内に挿入し、ボトル１１内で自己の弾性により広がるようにする。 - 特許庁

The fluid (SCF+chemical liquid) is brought into contact with the surface of a substrate in the process chamber 11 and strips and removes an unnecessary substance such as a resist and a resist residue deposited on the substrate.例文帳に追加

これにより、処理流体（ＳＣＦ＋薬液）が処理チャンバー１１内で基板の表面に接触し、基板に付着しているレジスト、レジスト残渣などの不要物質が剥離除去される。 - 特許庁

The method for producing instant noodles comprises the following process: making mass of the instant noodles produced through drying treatment after pregelatinization adsorb brine water-containing liquid; steaming the noodle mass; and drying it again by a method other than frying.例文帳に追加

α化処理後乾燥処理して製造された即席麺の麺塊に、かんすいを含む液を吸着させた後、これを蒸煮して油揚げ以外の方法で再乾燥する。 - 特許庁

To provide a vapor-liquid two-phase flow simulation testing device capable of acquiring a flowing process in a steam generator or an IMR (Integrated Modular Reactor) wherein water is spontaneously circulated by buoyancy caused by generated steam.例文帳に追加

発生蒸気による浮力によって水が自然循環する蒸気発生器やＩＭＲの流動過程を把握することができる気液二相流模擬試験装置を提供する。 - 特許庁

In other methods of making an optical body, a reservoir of chiral material is provided during the process over a first cholesteric liquid crystal layer to diffuse into the layer and provide a non-uniform pitch.例文帳に追加

他の光学体形成方法では、処理中第１コレステリック液晶の上にキラル物質のリザーバを設け、キラル物質を層中に拡散させると共にピッチを不均等なものとする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an organic EL element capable of pattern-applying a coating liquid used as an organic layer at an intentional width and manufacturing the organic EL element in a simple process.例文帳に追加

有機層となる塗布液を意図する幅でパターン塗布し、簡易な工程で有機ＥＬ素子を製造することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyelectrolyte emulsion, which removes a good solvent such as N-methyl pyrrolidone contained in a polyelectrolyte dispersion in a short time, and yields a slight amount of liquid waste.例文帳に追加

高分子電解質分散液に含まれるＮ−メチルピロリドンなどの良溶媒を短時間で除去でき、また廃液量が少ない高分子電解質エマルションの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyolefin microporous film imparting an excellent shut-down function and process passability when combined with a heat-resistant porous layer, and also preventing liquid shortage of an electrolytic solution.例文帳に追加

耐熱性多孔質層と複合した時に、優れたシャットダウン機能と工程通過性を付与でき、かつ、電解液の液枯れを防止可能なポリオレフィン微多孔膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a washing method/device including a draining process wherein a use amount of IPA (isopropyl alcohol) or a draining drying liquid taking the place thereof is little while sufficiently removing water.例文帳に追加

水分を十分に除去しながら、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）あるいはこれに代わる水切り乾燥液の使用量が少ない水切り工程を含む洗浄方法・装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition which can effectively reduce an LPD having a size of 50 nm or smaller, which is formed on a surface of a wafer, in a polishing process of the semiconductor wafer.例文帳に追加

本願発明は、半導体ウェーハの研磨において、ウェーハ表面の５０ｎｍ以下の大きさのＬＰＤを効果的に低減可能な研磨液組成物の提供を課題とする。 - 特許庁

To make it possible to simplify a manufacturing process as far as possible when manufacturing a COG type liquid crystal panel, and moreover, to mount chips with their position accurately adjusted.例文帳に追加

ＣＯＧ形態の液晶表示パネルを製造する上で、製造工程をできる限り簡略化することができ、しかも、正確にチップを位置合わせしつつ搭載することができるようにする。 - 特許庁

By discharging the molten metal M1 in the inert polymer liquid, cleaning can be easily achieved after the cooling, and the cleaning process can be simplified.例文帳に追加

溶融金属Ｍ１を不活性高分子液体中に放出することにより、凝固した後の洗浄を容易に行うことができ、洗浄工程を簡略化することが可能となる。 - 特許庁

To provide a VVA mode liquid crystal display device that can improve visual angle dependency and is free of increases of manufacturing stages and costs resulting from addition of a mask and process addition.例文帳に追加

視野角依存性を改善することができ、しかも、マスクの追加及び工程追加に起因する製造工程及び費用の増加はない、ＶＶＡモードの液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture a liquid crystal display device in easy manufacturing process, which can prevent generation of coherent light and perform a high- precision display suppressive in display blur.例文帳に追加

製造プロセスが容易であると共に、干渉光の発生を防止できかつ表示ボケが抑制された高精細表示が可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device that is improved in yield and life reliability by preventing elements from being broken down even when a static electricity is generated in a COG mounting process.例文帳に追加

ＣＯＧ実装工程において静電気が発生した場合であっても、素子破壊を防止し、歩留まり及び寿命信頼性を向上する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method capable of obtaining a thin layered and uniform coating film by efficiently suppressing pulsation in the supplying process of a coating liquid, a device, and a method for manufacturing an optical film.例文帳に追加

塗布液の送液脈動を有効に抑制することにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができる塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce equipment cost and running cost required when by-product water generated as a by-product of liquid hydrocarbon in the Fischer-Tropsch (FT) process is purified and converted into water which can be used for various purposes.例文帳に追加

ＦＴ法において液化炭化水素の副産物として生じる副生成水を浄化して各種用途に利用可能な水とする際の設備コスト、ランニングコストの低減を図る。 - 特許庁

To provide a chuck 10 capable of separating a transparent substrate without causing crack of the transparent substrate by peeling charge in a manufacturing process of a liquid crystal color filter.例文帳に追加

液晶カラーフィルタの製造工程において、剥離帯電による透明基板の割れを発生させることなく、当該透明基板を引き離すことのできるチャック１０を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 100 for applying a process liquid to a substrate W has a substrate rotating part 101 for rotating the substrate W, and a shield 103 for shielding the substrate W from atmosphere.例文帳に追加

基板Ｗに処理液を付与する基板処理装置１００は、基板Ｗを回転させる基板回転部１０１と、基板Ｗを雰囲気から遮蔽する遮蔽部１０３とを有する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal panel of an active matrix system which is resistant to electrostatic breakdown of active elements due to static electricity during a manufacturing process, and has small power consumption.例文帳に追加

アクティブ・マトリックス方式の液晶パネルにおいて、製造工程中における静電気によるアクティブ素子の静電破壊に強く、消費電力の小さい液晶パネルを提供する。 - 特許庁

Next, a first liquid injecting process is carried out which is for injecting electrolytic solution 100 into a hollow part 43 of the separator 41 to infiltrate the electrolytic solution 100 into the separator 41 and the cathode mixture 31.例文帳に追加

次に、セパレータ４１の中空部４３に電解液１００を注入してセパレータ４１及び正極合剤３１に電解液１００を浸潤させる第１注液工程を行う。 - 特許庁

The sterilization washing process includes performing a first step of jetting the washing liquid to the container 2B on the first installation part B and a second step of jetting the disinfectant, then performing a third step of leaving them as they are.例文帳に追加

第１載置部Ｂのコンテナ２Ｂに第１工程の洗浄液の噴射と第２工程の殺菌剤の噴射を行った後、そのまま放置する第３工程を行う。 - 特許庁

To provide a pot which suppresses or prevents leakage of an atmosphere containing a process liquid and reduces an air exhaust amount, and to provide a substrate processing apparatus including the pot.例文帳に追加

処理液を含む雰囲気の漏洩を抑制または防止するとともに、排気量を低減することができるポットおよびこのポットを備えた基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a piezoelectric actuator, a liquid drop ejector and their manufacturing method in which the polarization process is not troublesome and does not have an adverse effect on the performance.例文帳に追加

分極工程が煩雑とならず、しかも性能面での悪影響を与えることがない圧電アクチュエータおよび液滴噴射装置並びにそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

A high resistance coat film is formed in the magnetic-particles surface for the rare earth permanent magnet by using coat film formation process liquid for a high resistance having the film thickness of sub μm-nm.例文帳に追加

上記課題を解決するために、希土類磁石用磁粉表面にサブμｍ〜ｎｍの膜厚を有する高抵抗コート膜形成処理液による高抵抗コート膜を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process for forming a first opening 11a on a substrate S by applying etching on Cr film blanks 10 forming a Cr film on the substrate S by using a Cr etching liquid.例文帳に追加

基板Ｓ上にＣｒ膜を形成したＣｒ膜ブランクス１０にＣｒエッチング液を用いるエッチングを施すことにより基板Ｓ上に第一開口１１ａを形成する工程する。 - 特許庁

A second process for forming hardened films by performing drying to coat the resists 19a, 19b as the liquid materials which are formed by discharge in an S10, and performing a hardening step is defined as an S11.例文帳に追加

Ｓ１１は、Ｓ１０で吐出形成された液状材料としてのレジスト１９ａ，１９ｂを成膜処理するために乾燥し硬化させて硬化膜を形成する第二の工程である。 - 特許庁

For a resist peeling process, the sulfuric acid is supplied from the nozzle 2 to the surface of the substrate S to form a liquid film of the sulfuric acid of nearly room temperature on the surface of the substrate S.例文帳に追加

レジスト剥離処理に際しては、ノズル２から基板Ｓの表面に硫酸が供給されて、その基板Ｓの表面上に略室温の硫酸の液膜が形成される。 - 特許庁

Thereby, the pretilt film 310 in a tapered structure having a uniform inclined surface can be formed, which increases the response time of the liquid crystal and can ensure process margin.例文帳に追加

これにより、均一な傾斜面を有するテーパ構造のプレチルト膜３１０を形成することができ、液晶の応答速度を向上させるとともに、工程マージンを確保できる。 - 特許庁

To provide an inexpensive and environment-friendly resist peeling device which does not use plasma causing damage during a resist peeling process in manufacturing a semiconductor device and a liquid crystal panel.例文帳に追加

半導体装置、液晶パネルの製造におけるレジスト剥離工程において、ダメージの原因となるプラズマを使用しない、安価で、環境にやさしいレジスト剥離装置を提供する。 - 特許庁

In the dyeing process of the fibrous structure, the method for producing the fibrous structure includes treating the fibrous structure with treating liquid containing the micro-bubbles and/or nano-bubbles.例文帳に追加

繊維構造物の染色加工工程において、マイクロバブルおよび/またはナノバブルを含有する処理液により繊維構造物を処理することを特徴とする繊維構造物の製造方法。 - 特許庁

To provide a treatment and recovery method capable of again reutilizing washing water discharged from a phosphate chemical conversion treatment process as a chemical conversion treatment liquid and washing water at a low cost with high efficiency.例文帳に追加

りん酸塩化成処理工程から排出された水洗水を、再び化成処理液及び水洗水に、低コストで高効率で再利用することができる処理回収方法の提供。 - 特許庁

In this producing method of liquid crystal display element, spacers 11 and barrier layers 12 are formed at one time by using a photo etching method or a printing method, thereby decreases the number of process and reduces the cost.例文帳に追加

スペーサー１１および隔壁層１２をフォトエッチング法または印刷法を用いて一度に形成することにより、工程数を減少させ、またコストを低減することができる。 - 特許庁

To establish a coating forming method for a plurality of phosphor application lines or black matrices which are required in a manufacturing process for PDP or liquid crystal display.例文帳に追加

本発明の課題は、ＰＤＰや液晶ディスプレイの製造工程で必要な多数本の蛍光体塗布ライン、多数本のブラックマトリックスなどの塗布形成方法を提供する事にある。 - 特許庁

A sub CPU 82 displays a command on the screen of a liquid crystal display 22, and executes a password input process (step 166) if password input is requested (step 165).例文帳に追加

サブＣＰＵ８２は、液晶表示装置２２の画面にコマンドを表示しており、パスワード入力要求がある場合（ステップ１６５）には、パスワード入力処理が行われる（ステップ１６６）。 - 特許庁

To provide a thin film forming device capable of forming a uniform thin film only on the inner peripheral face of a cylindrical fitting with one process, without splashing a material liquid such as an adhesive.例文帳に追加

接着剤などの材料液を飛散させることなく、１つの工程で筒状金具の内周面のみに均一な薄膜を形成することのできる薄膜形成装置の提供。 - 特許庁

To provide a conveying device for plating, wherein a plating liquid can be drained through a process of pulling up a jig from a plating tank, without installing a cylinder for slanting or a hitting plate at each stopping position.例文帳に追加

各停止位置に傾斜用のシリンダーや当て板を設置する必要がなく、治具のメッキ槽からの引き上げ過程で液切りを行うことができるメッキ用搬送装置を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter or the like, wherein a transparent protective layer does not disturb alignment of liquid crystal in a display region while the number of processes is reduced in the manufacturing process of the color filter.例文帳に追加

カラーフィルタの生産工程において工程数が削減されながら、表示領域において透明保護層が液晶の配向を乱すことがないカラーフィルタなどを提供する。 - 特許庁

To provide a wafer processing method that includes a wafer processing process of executing liquid chemical processing, heating treatment or processing accompanied by heat generation, and is capable of reliably processing a wafer without breakage or the like.例文帳に追加

薬液処理、加熱処理又は発熱を伴う処理を施すウエハ処理工程を有し、破損等することなく確実にウエハを処理できるウエハの処理方法を提供する。 - 特許庁

As compared with a conventional resin bead scattering system, a process of scattering beads can be omitted and a liquid crystal panel having a high-precision cell gap having small variance can be obtained.例文帳に追加

従って、従来の樹脂ビーズ散布方式に比べ、ビーズを散布するプロセスを省略できるほか、ばらつきの少ない高精度なセルギャップの液晶パネルを得ることが可能となる。 - 特許庁

In the process for cement clinker production, cement, cement clinker or refractory brick having a melting point higher than the temperature of a liquid phase of the cement clinker and serving as crystal nuclei for alite is charged into a kiln from the kiln inlet or the front part of the kiln.例文帳に追加

セメントクリンカの液相温度より高融点で、エーライトの結晶核となる、セメント、セメントクリンカ、または耐火レンガを、キルンの窯尻または窯前から投入する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can process a substrate in a high quality by preventing a resist from being precipitated without increasing an amount of processing liquid consumed.例文帳に追加

処理液の使用量を増加させることなく、レジストの析出等を防止して基板を高品質に処理することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize an etching liquid and a method, by which a Ti-W(titanium- tungsten) alloy thin film is removed in a process where a solder bump electrode is formed on a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置上への半田バンプ電極製造におけるＴｉ−Ｗ(チタン−タングステン)合金の薄膜を除去するためのエッチング液とそのエッチング方法を提供する。 - 特許庁