「process structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wiring structure manufacturing method, along with a wiring structure, wherein the wiring structure can be formed in a simple process and wiring extraction with a high degree of freedom is allowed in a simple configuration.例文帳に追加

本発明は、簡素な工程で配線構造を形成することができ、簡素な構成で自由度の高い配線の取り出しが可能な配線構造の製造方法及び配線構造を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device having a super junction structure comprises the step, after forming the super junction structure, of forming an alignment mark for alignment with the super junction structure in the following process step.例文帳に追加

本願発明は、スーパジャンクション構造を有する半導体装置の製造方法において、スーパジャンクション構造と後の工程との位置合わせのためのアライメントマークを、スーパジャンクション構造の形成後に、作製するものである。 - 特許庁

To provide a vehicle structure, especially, an installation structure around an air-conditioner free to install the air-conditioner, an instrument panel, a cross car beam, etc. on the vehicle in one process and not to transmit vibration of the air-conditioner to a car body structure on the vehicle.例文帳に追加

車両において、エアコン、インパネ、クロスカービーム等を一工程で車両に搭載可能であって、且つエアコンの振動を車体構造に伝えない、車両構造、特にはエアコン周りの搭載構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, capable of preventing cut of an element isolation film in a process of forming a dual work function structure such as a dual metal gate structure and a dual High-k structure.例文帳に追加

デュアルメタルゲート構造およびデュアルＨｉｇｈ−ｋ構造などのデュアル仕事関数構造の形成プロセスにおける素子分離膜の削れを防止することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric domain array structure and its manufacturing method, and a ferroelectric film having the ferroelectric domain array structure of a nano-order ferroelectric domain structure, and easy in manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、ナノオーダー強誘電分域構造を持ち、且つ製作工藝も簡単だった強誘電分域アレイ構造及びその製造方法、及び該強誘電分域アレイ構造を持つ強誘電フィルムを提供する。 - 特許庁

The search process is applied again to the input side tree structure having a plurality of input side voltage converters prior to the voltage converter which outputs an arbitrary output voltage in the tree structure found in the retrieval process, thereby achieving improvement to replace the input side tree structure with the input side tree structure having a more satisfactory cost function value detected by the retrieval.例文帳に追加

さらに，前記探索工程で見つけたツリー構造のうち任意の出力電圧を出力する電圧コンバータ以前の入力側の複数の電圧コンバータを有する入力側ツリー構造について，前記探索工程を再度行い，当該探索で検出されたより良いコスト関数値を有する入力側ツリー構造に置き換える改善を行う。 - 特許庁

This method for thermally treating a fiber structure courprises carrying out a relaxing process comprising circulating a gas-containing mixed fluid and the rope-like fiber structure 1 in a closed circulation system and then carrying out a drying and thermally treating process comprising circulating the fiber structure 1 by the use of a gas flow which is formed by spraying a heated gas on the fiber structure 1.例文帳に追加

密閉した循環系内で気体を含む混合流体とロープ状の繊維構造物とを循環回動させてリラックス処理を行った後、引き続いて、加熱した気体を該繊維構造物に噴射して形成する気流体により該繊維構造物を循環回動させて乾燥・熱処理を行う繊維構造物の熱処理方法にある。 - 特許庁

To present a coil for static induction apparatus, which has a tap structure simplified and rationalized with respect to insulation and allows automation of a winding process including a tap leading-out process.例文帳に追加

絶縁の簡素化および合理化を図ったタップ部構造を有する共に、巻線工程について、タップ引出し工程を含めた自動化を図れる静止誘導機器コイルを提案する。 - 特許庁

To provide a vehicle driving apparatus capable of facilitating a processing process of a motor case and an assembly process of a motor, in a structure in which a plurality of motors are assembled to a single motor case.例文帳に追加

単一のモータケースに複数のモータを組み付ける構成においてモータケースの加工工程とモータの組み付け工程とを容易化できる車両用駆動装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a semiconductor package structure which has no need for a soldering process, effectively reduces material costs, and simplifies a fabrication process.例文帳に追加

半田付け工程を行う必要がなく、材料コストを効果的に低減するとともに製造工程の簡素化を図ることができる半導体パッケージ構造の製造方法を提供する。 - 特許庁

A monitoring wafer for process control used in a semiconductor manufacturing process has a double structure where a wafer host material comprising SiC is coated with a black colored SiC film.例文帳に追加

半導体製造工程で用いられるプロセス管理用のモニタウェハであって、ＳｉＣにより形成されたウェハ母材に黒色ＳｉＣ膜をコーティングした二重構造を持つ構造とした。 - 特許庁

To provide a temple joint structure configured such that temples are foldably attached to both sides of the front of a spectacle frame, and the temples can be replaced without the need of a brazing process and screwing process.例文帳に追加

メガネフレームのフロント部両側にツルが折畳み出来るように取付けられ、ロウ付け工程及びネジ止め工程を必要とせず、ツルの交換を可能としたツル継手構造の提供。 - 特許庁

To support correcting a document in which a task process is described by specifying the range of a task process affected by the organization change of an enterprise when the organization structure is changed.例文帳に追加

企業の組織構造が変更された場合、組織変更の影響が及ぶ業務プロセスの範囲を特定し、業務プロセスが記述された文書の修正作業を支援する。 - 特許庁

A slab work process for constructing slab 4 of the underground structure by pouring concrete on a formwork layer 3, and excavating process for excavating underside of the slab 4 already constructed are provided.例文帳に追加

型枠層３上にコンクリートを打設することにより地中構造物のスラブ４を施工するスラブ施工工程と、施工されたスラブ４の下側を掘削する掘削工程とを備える。 - 特許庁

To improve mass-productivity including even a mounting process by holding a thin-film piezoelectric element, formed on a substrate by a thin-film process, only by an element holding film and a frame structure in a circumference.例文帳に追加

基板上に薄膜プロセスで形成した薄膜圧電体素子を素子保持膜と周囲に設けた枠構造のみで保持して、実装工程まで含めた量産性を改善する。 - 特許庁

To improve a conventional terminal electrode forming method and a complicated manufacturing process, to manufacture a laminated electronic component in a new structure capable of corresponding to a high-density mounting and to make it possible to more simplify the manufacturing process of the electronic component.例文帳に追加

従来の端子電極形成方法や複雑な製造工程を改善し、高密度実装に対応可能な新しい構造で、かつ製造工程をより簡略化可能とする。 - 特許庁

In this method, the depth of a pattern can be controlled by the process performing anisotropic etching, and by the process performing isotropic etching, a curved surface structure can be produced.例文帳に追加

本発明の構成によれば、異方性エッチングを行う工程によりパターンの深さを制御することが出来、等方性エッチングを行う工程にり曲面構造にすることが出来る。 - 特許庁

To establish a method for inexpensively producing a formed body having a high-accuracy hollow structure by photolithography using photosensitive resin compositions by a simple process with a high process yield.例文帳に追加

感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a photoelectric converter in which any semiconductor layer in the laminate structure of the photoelectric converter can be made thicker as compared with conventional manufacturing process.例文帳に追加

光電変換装置における積層構造のうちの任意の半導体層の厚さを、従来の製法と比べて厚くできる光電変換装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The preparation process of the hydrophilic-group containing resin structure consists in introducing the hydrophilic group by the laser processing utilizing the multiple photon absorption process.例文帳に追加

親水性基含有樹脂構造体の製造方法は、多光子吸収過程を利用したレーザー加工により、親水性基を導入して、親水性基含有樹脂構造体を製造する。 - 特許庁

This method has a process (110) for applying an adhesive formed preliminarily on a mating surface of the mounting structure, and a process (12) for coupling the inner surface of the sensing coil onto the mating surface of the mounting structure via the preliminarily formed adhesive.例文帳に追加

装着構造体の相方表面に予め形成された接着剤を付着させる工程（１１０）と、予め形成された接着剤を介して装着構造体の相方表面に感知コイルの内表面を結合する工程（１２）とを有する。 - 特許庁

To provide a mask structure for color cathode-ray tube capable of reducing trouble in a phosphor screen production process by absorbing dispersion in the assembly process of a tension type mask structure, and capable of keeping the screen of a color cathode-ray tube in high quality.例文帳に追加

テンション型マスク構体の組み立て工程でのバラツキを吸収することによって、蛍光面生成工程での不具合を減少させ、カラー陰極線管の画面を高品位に保つことが可能なカラー陰極線管用マスク構体を提供する。 - 特許庁

The filling item acquisition means 16 is provided with a structure body member backward close location process 17 for locating members of a structure body backward closely in order from the member of the largest alignment and the alignment determination process 14 for acquiring alignment values of variable items.例文帳に追加

埋め込み用項目取得手段１６は、構造体のメンバをアライメントが大きいものから後詰めに配置する構造体メンバ後詰め処理１７と、変数項目のアライメント値を取得するアライメント判定処理１４とを備えている。 - 特許庁

To provide a fabrication process of an organic semiconductor structure comprising an organic semiconductor layer having uniform charge transport characteristics in a large area, and to provide an organic semiconductor structure fabricated by that fabrication process and an organic semiconductor device.例文帳に追加

大きな面積において均一な電荷輸送特性を持つ有機半導体層を形成してなる有機半導体構造物の製造方法、その製造方法により製造された有機半導体構造物及び有機半導体装置を提供する。 - 特許庁

Without a separately added photolithographic process to form a floating gate and control gate for a one-time programmable memory element, a one-time programmable memory element can be embodied, using a capacitor manufacturing process with a polysilicon-dielectric film-polysilicon structure or metal-dielectric film-metal structure, as it is, which is used in the existing process.例文帳に追加

ワンタイムプログラムメモリ素子のフローティングゲートとコントロールゲートとを形成するための別途のフォトリソグラフィ工程の追加なしに、既工程で使われているポリシリコン−誘電膜−ポリシリコン構造または金属−誘電膜−金属構造のキャパシタ製造工程をそのまま利用してワンタイムプログラムメモリ素子を具現する。 - 特許庁

After performing a reference potential difference measuring process (process S2) for measuring a reference potential difference on a potential difference measuring position near the repaired welding crack when sending a current into a structure by applying a voltage to a voltage application position near the repaired welding crack, a plant using the structure is operated (process S3).例文帳に追加

補修溶接き裂の近傍の電圧印加位置に電圧を印加して構造物に電流を流したときの補修溶接き裂の近傍の電位差測定位置における基準電位差を測定する基準電位差測定工程（工程Ｓ２）を行った後にその構造物を用いたプラントを運転する（工程Ｓ３）。 - 特許庁

The sample preparing method includes the process for forming an island-like structure by applying groove processing to a substrate, the process for applying isotoropic etching processing to the island-like structure to form needle-like bodies and the process for forming an analyzing target at least to the leading end parts of the needle-like bodies in a film-like state.例文帳に追加

本発明の試料の作製方法は、基板に溝加工を施す事により島状構造体を形成する工程と、前記島状構造体に等方性エッチング処理を施し針状体を形成する工程と、前記針状体の少なくとも先端部に分析対象を膜状に形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing porous material consists of a modifying process of a slurry containing a structure component, which does not melt in firing, and a melting component which melts in firing, a process for admixing a gelling agent and air foams into the slurry, a forming process, a drying process, and a firing process for firing materials at temperatures of 400 to 1300°C.例文帳に追加

焼成時に熔融しない骨格成分と、焼成時に熔融する熔融成分とを含有するスラリーを調製する工程と、該スラリーにゲル化剤および気泡を混入する工程と、成形する工程と、乾燥する工程と、４００〜１３００℃の焼成温度で焼成する工程と、を具備することを特徴する多孔質材の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a composite structure includes a process for arranging a removable adhesive material 14 in contact with a first surface of a reusable composite structure 12; a process for arranging a first surface of a disposal composite structure 16 in contact with the removable adhesive material 14 to form an assembly 10 of the composite structures; and a process for hardening the assembly 10 of the composite structures.例文帳に追加

除去可能な接着材料１４を再利用可能な複合構造１２の第一の面に接して配設すること、使い捨て可能な複合構造１６の第一の面を前記除去可能な接着材料１４に接して配設することで複合構造アセンブリ１０を形成すること、および前記複合構造アセンブリ１０を硬化することを含む複合構造を製造方法。 - 特許庁

The catalytic chemical vapor deposition apparatus comprises: a process chamber 1; a shower head 2 constituted to draw a process gas into the process chamber 1; a catalytic wire structure 3 constituted in the process chamber 1 to crack the gas drawn from the shower head 2 and capable of exerting tension; and a substrate 4 on which the gas cracked by the catalytic wire structure 3 is deposited.例文帳に追加

工程チャンバ１と、前記工程チャンバ１内に工程ガスを引入するように構成されるシャワーヘッド２と、前記シャワーヘッド２から引入されるガスを分解させるように前記工程チャンバ１内に構成される張力付加の可能な触媒ワイヤ構造体３と、前記触媒ワイヤ構造体３で分解されたガスが蒸着される基板４と、を含んでなる。 - 特許庁

In a molding process 31, the surface material 2 manufactured in the surface material preparation process 11 and the backing material molded material 5 manufactured in the backing material preparation process 21 are laminated and integrally heat molded while applying pressure, the two-layer structure facing 1 is manufactured.例文帳に追加

成形工程３１において、表材準備工程１１で製造された表材２と、裏材準備工程２１で製造された裏材成形材５とを積層し、加圧しながら一体熱成形して、２層構造フェーシング１を製造する。 - 特許庁

A process for irradiating a mesa-side face with a laser beam 111 is added between a process for accumulating a passivation film 18 on a mesa-structure on a wafer formed by etching and a process for forming an electrode 19 covering the passivation film.例文帳に追加

エッチングにより形成したウェーハ上のメサ構造にパッシベーション膜１８を堆積する工程と、パッシベーション膜を覆う電極１９の形成を行う工程の間に、メサ側面に向けてレーザ光１１１を照射する工程を追加する。 - 特許庁

A method of classifying a ferrite magnet and its structure comprises a first process in which ferrite magnets and their structures are ground down, a second process in which the ground objects are cooled down to a temperature at which an inner magnetic field at a magnet operating point is reduced, and a third process in which an magnetic separating operation is carried out.例文帳に追加

フェライト磁石・その構造物を破砕する工程および磁石動作点の内部磁界が減じられる温度に冷却する工程を有し、この後に磁気分離する工程からなるフェライト磁石・その構造物の分別方法とする。 - 特許庁

The joining method is a method for joining two structures to each other and is characterized by a process in which the joining face of at least one structure is irradiated with an energy beam and a process in which the joining face of the one structure so irradiated is brought into contact with the joining face of the other structure.例文帳に追加

２つの構造物を互いに接合する方法であって、少なくとも一方の構造物の接合面にエネルギー線を照射する工程、エネルギー線を照射された構造物の接合面と他方の構造物の接合面とを接触させる工程、を含むことを特徴とする方法を用いる。 - 特許庁

To provide a method for forming a semiconductor device having a fin structure which comprises a step of etching a silicon substrate with a recess gate mask, and performing a selective etching process on a device isolation film having a double oxide film structure with a rapid oxide film etching speed and a slow oxide film etching speed to form the fin structure, thereby simplifying the process and maximizing a current driving operation.例文帳に追加

リセスゲートマスクを利用してシリコン基板を食刻し食刻速度の速い酸化膜と、食刻速度の遅い酸化膜の二重酸化膜構造の素子分離膜に対し選択的食刻を行いフィン構造を形成することにより、工程を単純化し電流駆動能力を最大化する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ceramic structure that has characteristics and a sufficiently high relative density close to those of a ceramic structure manufactured by passing through a sintering process, without passing through a sintering process, in a ceramic structure that is used for dielectric layers of capacitors, micro lenses, micro gears or the like.例文帳に追加

コンデンサの誘電体層、微小レンズまたは微小歯車等に用いられるセラミックス構造体において、焼結工程を経ることなく、しかも、焼結工程を経た場合と同程度の特性および十分に高い相対密度を有するセラミックス構造体を製造するための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a compact structure of a brittle material having high strength, at low temperature without requiring a heat/ calcination process.例文帳に追加

加熱・焼成工程を伴わないで緻密で高強度の脆性材料構造物を得る低温形成法を提供する。 - 特許庁

To provide a battery and a producing method thereof, capable of easily forming a current collecting structure and simplifying the assembling process.例文帳に追加

集電構造の形成が容易であり、組立工程を簡素化することのできる電池、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a roof tile integrated solar battery panel structure for enhancing moistureproof performance, reducing a manufacturing process, and restraining member cost.例文帳に追加

防湿性を高め、しかも製造工程を削減でき、部材コストを抑えた瓦一体型太陽電池パネルの構造を提供する。 - 特許庁

To provide scattering structure of a reflective electrode without increasing the number of mask sheets in a manufacturing process for an electro-optical device.例文帳に追加

電気光学装置の作製工程においてマスク枚数を追加することなく、反射電極の散乱構造を作製する。 - 特許庁

To provide a process monitoring device capable of evaluating the structure of a substrate to be processed with high accuracy using an optical method.例文帳に追加

光学的手法を用いて被処理基板の構造をより高精度に評価することができるプロセスモニター装置を提供する。 - 特許庁

To provide a ring resonator having a structure in which the variation in the spectrum characteristic for the variations in form in manufacturing process is reduced.例文帳に追加

製造の際の形状ばらつきに対するスペクトル特性変動を小さくできる構造のリング共振器を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor array substrate and its manufacture method capable of simplifying a substrate structure and a manufacture process.例文帳に追加

基板構造及び製造工程を単純化させることができる薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a short circuit between a contact and a gate electrode connected to a source-drain region in a gate structure formed by a gate last process.例文帳に追加

ゲートラストプロセスで形成されたゲート構造において、ソース・ドレイン領域に接続するコンタクトとゲート電極とのショートを防ぐ。 - 特許庁

To process a liquid crystal display device into thin structure without causing a defect due to entry of an etchant between stuck substrates.例文帳に追加

貼り合わせ基板間へのエッチング液侵入による不良を発生させることなく、液晶表示装置の薄型加工を行う。 - 特許庁