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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
To provide a contactless temperature measuring instrument and device capable of measuring a temperature of a semiconductor wafer or the like under treatment in a process chamber at high precision over a wide range, and a manufacturing method and device for a semiconductor device using the contactless temperature measuring method and device.例文帳に追加
プロセスチャンバ内で処理中の半導体ウエハ等の温度を、広い領域で高精度に非接触で測定できる非接触温度測定方法およびその装置、ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法とその装置とを提供すること。 - 特許庁
The method for depositing the ruthenium film on the substrate via liquid source chemical vapor deposition, comprises the source material which is liquid at room temperature, and utilizing process conditions such that deposition of the ruthenium films occurs at a temperature in the kinetic-limited temperature regime.例文帳に追加
液体供給源の化学気相堆積によりルテニウム膜を基板に堆積する方法では、供給源材料が室温で液体であり、ルテニウム膜の堆積が動力学的に限定された温度領域の温度で行われるように処理条件を利用する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an acoustic wave element on which a film for temperature compensation for suppressing variation of characteristics by temperature variation is formed, by which the film for temperature compensation is easily formed without causing complicatedness in a manufacturing process so much, and which can be miniaturized.例文帳に追加
温度変化による特性の変化を抑制する温度補償用膜が形成されており、製造工程の煩雑さをさほど招くことなく温度補償用膜を容易に形成でき、かつ小型化を図ることが可能な弾性波素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
Water is supplied into a washing tub unless a laundry takeout detector detects the takeout of the laundry and also when air temperature measured by an air temperature detector 30 is equal to or more than a prescribed temperature even after the dehydrating process is ended to complete the operation and a prescribed time elapses.例文帳に追加
脱水工程を行って運転終了後に所定時間経過しても、洗濯物の取出し検知器が洗濯物の取出しを検知せず、気温検知器30で測定された気温が所定温度以上である場合、洗濯槽内に給水する。 - 特許庁
In the image forming apparatus, a sheet is conveyed by controlling the temperature of a fix-heating roller to an ideal temperature at each point by taking into consideration on an average temperature gradient of a fixing roller 6a, a conveyance distance and speed of a sheet, start time of a motor and a clutch, a resist process time, or the like.例文帳に追加
定着ローラ6aの平均温度勾配や用紙の搬送距離と速度、モーターとクラッチの起動時間、レジスト処理時間等を考慮した上で、各ポイントにおいて、定着加熱ローラの温度を理想的な温度に制御し、用紙の搬送を行う。 - 特許庁
The control section 13 sets temperature of the heat treatment section 14 to be a power saving temperature lower than a normal standby temperature for prescribed time, when determining, based on the process information, that the length of an interval to the start of the treatment to the next workpiece is not less than a prescribed value.例文帳に追加
制御部13は、プロセス情報に基づいて次のワークに対する処理開始までのインターバルの長さが所定値以上であると判断したときに、熱処理部14を通常の待機温度よりも低い省電力温度に所定時間だけ設定する。 - 特許庁
The interference measuring instrument supplies the temperature regulation water to the flow passages 110 and 111 by a process for decompressing the vacuum chamber 113 with a vacuum pump 117, and suppresses the temperature deterioration of the object to be measured W_1 and the TS lens 107 by controlling the temperature of the stages 105 and 106.例文帳に追加
真空チャンバー113を真空ポンプ117によって減圧する工程で、流路110、111に温調水を供給し、ステージ105、106の温度を制御することで、被測定物W_1 およびTSレンズ107の温度低下を抑制する。 - 特許庁
When the intake-air temperature is changed to be the set temperature or higher by the intake-air temperature changing means, fuel injection starting timing is set on a delay angle side in the intake process more than a fuel injection starting timing range (a2 to a3) in which intake filling efficiency becomes not less than a set value.例文帳に追加
吸気温度変更手段により吸気温度を設定温度以上とする時には、燃料噴射開始時期を、吸気充填効率が設定値以上となる燃料噴射開始時期範囲(a2からa3)より吸気行程において遅角側とする。 - 特許庁
A method for producing polytrimethylene terephthalate comprises an esterification process and a condensation polymerization process, wherein the condensation polymerization process is divided into processes of plural steps; in the condensation polymerization process of the final step, condensation polymerization is carried out in a polymerization apparatus having a twin-screw stirrer; and the polymerization temperature in the condensation polymerization process of a backward step is lower than that of a forward step.例文帳に追加
エステル化工程と縮重合工程とを含むポリトリメチレンテレフタレートの製造方法であって、縮重合工程が複数段の工程に分割され、最終段の縮重合工程では二軸攪拌機を有する重合器により縮重合が行われ、後段の縮重合工程における重合温度が前段の縮重合工程における重合温度未満であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an image recording device which can perform a proper exposure process corresponding to secular changes of characteristics of a photosensitive material by adjusting the exposure quantity of the device, the temperature of a developing process tank, the replenishment amount of developing process liquid to the process tank, and further a developing process time according to the elapsed time after the photosensitive material is loaded in the device.例文帳に追加
感光材料の当該装置への装填からの経過期間に応じて、当該装置の露光量の調整、現像処理槽の温度調整、現像処理槽への現像処理液の補充量の調整、さらには、現像処理時間の調整を行うことで、感光材料の特性の経時変化に応じた適切な露光処理を行うことが可能な画像記録装置を提供する。 - 特許庁
To cut down the occupying area and the cost of an excimer laser annealing system of a double-process chamber method giving a high throughput of low-temperature polysilicon TFT liquid crystal panel.例文帳に追加
低温ポリシリコンTFT液晶パネルの高スループットダブルプロセスチャンバ方式エキシマレーザアニーリングシステムの専有面積及びコストを削減する。 - 特許庁
To lower the processing temperature in a heat treatment while uniform treatment is secured by preheating a process gas in a heating section provided outside a treatment chamber.例文帳に追加
処理室の外部に設けられた加熱部で処理ガスを予備加熱し、処理の均一性を確保しながら、プロセス温度の低温化を図ること。 - 特許庁
To offer a forgery preventive magnetic tape transfer sheet which is excellent in heat resisting nature and suffers little whitening of optical film by the high-temperature card manufacturing process.例文帳に追加
耐熱性が高く、カード製造時の高温加工による、光学薄膜の白化が少ない偽造防止磁気テープ転写シートを提供する。 - 特許庁
To provide an image forming method and apparatus which provide a high-gradation and high-resolution image even in a high-speed and low-temperature fixing process.例文帳に追加
高速、低温定着プロセス下においても高階調、高解像度の画像を得ることが出来る画像形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a reinforcement binding machine which prevents suspension of operation thereof during execution of a process due to drop of a voltage during the operation under a low-temperature environment.例文帳に追加
鉄筋結束機が、低温環境下などにおいて動作中の電圧低下により工程途中で動作停止することを防止する。 - 特許庁
To provide a process for the low temperature, non-incineration decontamination of contaminated materials, such as chemical weapon components containing hazardous quantities of chemical warfare agents.例文帳に追加
化学兵器薬品等の有害物質を含む化学兵器コンポーネント等の汚染物質の低温・非焼却式浄化方法を提供する。 - 特許庁
To provide a ceramic joined material formed by laminating and joining a ceramic base material and a conductive plate without using a high-temperature process and parts used with the same.例文帳に追加
高温プロセスを用いずにセラミック基材と導電板とを積層接合したセラミック接合材およびそれを用いた部品の提供。 - 特許庁
To provide a film deposition system which can deposit a thin film under low-temperature process environment, the thin film having enhanced packing density and high quality.例文帳に追加
低温プロセス環境下での薄膜形成で、膜の充填密度を高め、品質の高い膜形成が可能な膜形成装置を提供する。 - 特許庁
The temperature inside the exhaust passage of the process gas is kept high by heating the base 6, and deposit of a solid product material inside the pump is restrained.例文帳に追加
ベース6を加熱することにより、プロセスガスの排気路内部の温度を高温に保たせ、ポンプ内部の固体生成物の析出を抑制する。 - 特許庁
In a gradual cooling process, the periphery of the fusion spliced part A is cooled from a prescribed initial temperature to 200°C for a specified time or more (Fig. 1 (g)).例文帳に追加
徐冷工程で、所定の初期温度から温度200℃まで所定時間以上かけて融着接続部A周辺を冷却する(図1(g))。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition from which a cured film having no brittleness and high heat resistance is formed even by a low-temperature curing process.例文帳に追加
低温での硬化プロセスによっても、脆くなく、耐熱性に富んだ硬化膜となるようなポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a squelch detector which is strong in a fluctuation of a temperature, a process and a power source voltage, and can output a stable squelch detection signal.例文帳に追加
温度、プロセス、電源電圧の変動に強く、安定したスケルチ検出信号を出力することができるスケルチ検出回路を提供する。 - 特許庁
In the process of making the yeast suspension come in contact with the supercritical carbon dioxide, the pressure of the processed liquid is 10-100 MPa, and the temperature of the processed liquid is 40-110°C.例文帳に追加
酵母懸濁液に超臨界状態の二酸化炭素を接触させる工程において、被処理液の圧力は10〜100MPa、温度は40〜110℃とする。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device having lines essentially comprising an aluminum material which is formed to have sufficiently low resistance in a low temperature CVD process.例文帳に追加
低温CVD工程で十分に低抵抗化されたアルミニウム材料を主成分の配線を有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
Thus, objective inexpensive unburned refractory brick having excellent strength and superior corrosion resistance in a ≤1,000°C intermediate temperature region, can be produced by using this production process.例文帳に追加
この方法により、1000°C以下の中間温度域での強度、耐食性に優れ、且つ安価な不焼成れんがを生成できる。 - 特許庁
To send fresh outside air of an appropriate temperature into a room by a heat exchange process of high heat exchange efficiency in an underfloor space.例文帳に追加
床下空間における熱交換効率の高い熱交換処理によって適切な温度の新鮮な外気を室内へ送り込み可能にする。 - 特許庁
To allow even and large-area film forming for mass production by lowering a process temperature on forming semiconductor thin-film.例文帳に追加
半導体薄膜作製におけるプロセス温度を低温化し、大面積で均一な製膜を行うようにし、量産化することを目的とする。 - 特許庁
To provide an electronic thermometer with a progress indicator for informing intuitively a user of a progress situation of a process as to an activity state during prediction measurement of a bodily temperature.例文帳に追加
体温予測測定中の活動状況のプロセスの進み具合を直感的にユーザに知らせる進度インジケータを有する電子温度計。 - 特許庁
To form a structure by which a connection defect in a wire bonding part with reference to an inherent high-temperature heating operation can be reduced in an oscillator manufacturing process.例文帳に追加
発振器製造工程において固有の高温加熱に対してのワイヤボンディング部分での接続不良を低減できる構造とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an inexpensive p-type ZnO semiconductor film that is manufactured at low temperature by a simple process and has excellent characteristics.例文帳に追加
低温で簡単な工程で製造された優秀な特性を有する低価のp型ZnO半導体膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a π/2 phase shift circuit having a small variation of characteristics due to process variation, temperature variation, and frequency variation, and also having a small circuit scale.例文帳に追加
プロセス変動、温度変動、周波数変動による特性の変動が小さく、回路規模が小さいπ/2位相シフト回路を提供する。 - 特許庁
To provide electrophotographic toner which has good low-temperature fixability, electrostatic chargeability, and storage stability, and to provide a process for producing the same.例文帳に追加
良好な低温定着性、帯電性及び保存安定性を両立した電子写真用トナー並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁
To reduce the fluctuation in atmospheric temperature inside a chamber over the entire processing step period, from starting of reduced-pressure drying process to the completion of purging.例文帳に追加
減圧乾燥処理の開始からパージング終了までの全処理工程時間を通してチャンバ内の雰囲気温度の変動を小さくすること。 - 特許庁
Continuously, in a treatment process, the dielectric layer (3) deposited in a noncrystalline state is crystallized at a temperature within the range from 590 to 620°C.例文帳に追加
非晶質な状態で堆積させた誘電体層(3)を、続いて処理工程において590℃〜620℃の範囲の温度で結晶させる。 - 特許庁
To provide an attenuator, with which a dispersion in the threshold voltage of an FET caused by a production process and a temperature change can be compensated.例文帳に追加
製造プロセスおよび温度変化に起因するFETのしきい値電圧のばらつきを補償することができる減衰器を提供する。 - 特許庁
To provide a coloring composition for color filters, even when undergoing a high-temperature heating process, developing an excellent chromaticity characteristic of a dye without losing it.例文帳に追加
高温の加熱工程を経ても、染料の優れた色度特性を失うことなく発現する、カラーフィルタ用着色組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide an oscillation circuit ensuring a stabilized oscillation frequency regardless of variation in power supply voltage, ambient temperature or manufacturing process.例文帳に追加
電源電圧、周囲温度および製造プロセスのにばらつきなどがあっても、安定した発振周波数が得られる発振回路を提供する。 - 特許庁
To provide a process release paper usable at a high temperature, not generating peeling of base paper and a releasable resin layer and usable repeatedly.例文帳に追加
高温下で使用可能であり、基紙と離型性樹脂層との剥離が発生せず、繰り返し使用が可能な工程剥離紙を提供する。 - 特許庁
In some embodiments, the photocell is heated at a temperature of about 20 to about 275°C, e.g. at about 150°C, for about 30 minutes during the annealing process.例文帳に追加
幾つかの実施形態では、光電池は、アニールプロセスの際に約20℃乃至約275℃の温度、例えば約150℃で約30分間加熱される。 - 特許庁
A surface cleaning process is executed for 10 minutes without any change to increase the temperature of the single crystal substrate up to 1,100°C for 3 minutes and a lattice relaxing layer is formed.例文帳に追加
そのまま10分間表面クリーニング工程を行ない、単結晶基板を1100℃まで3分間かけて昇温し格子緩和層を形成する。 - 特許庁
In the new production method, an ammonium salt by-product is separated from hydroxylamine with low-temperature filtration and an ion exchange process.例文帳に追加
新規な製造方法は、低温ろ過およびイオン交換方法によって、アンモニウム塩副生成物をヒドロキシルアミンから分離することにより行われる。 - 特許庁
To prevent deterioration of device characteristics only by a low- temperature treatment process at 1,000°C or lower with respect to a silicon semiconductor device, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
シリコン半導体装置及びその製造方法に関し、1000℃以下の低温処理工程のみで、デバイス特性の劣化を防止する。 - 特許庁
The test conditions are: the electrodes of ϕ25 mm cylindrical column/ϕ25 mm cylindrical column; the sample thickness of 0.5 mm; the test method of short time process; and the test temperature of 23°C.例文帳に追加
<試験条件> 電極:φ25mm円柱/φ25mm円柱 試料厚み:0.5mm 試験方法:短時間法 試験温度:23℃ - 特許庁
Moreover, all processes before forming an organic EL layer after the dehydration process are carried out in an environment where a dew-point temperature is controlled at -60°C or lower.例文帳に追加
さらに、脱水処理以後の、有機EL層を形成するまでの全工程を、露点温度を−60℃以下に管理された環境下で行う。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming a cured film which is not brittle and good in heat resistance even by a low-temperature curing process.例文帳に追加
低温での硬化プロセスによっても、脆くなく、耐熱性に富んだ硬化膜となるようなポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a TFT panel which has small variance in device characteristics even when an overlapping scanning region is formed in a low-temperature process.例文帳に追加
低温プロセスにおいて重複走査領域が発生する場合であっても、デバイス特性にばらつきの少ないTFTパネルを提供すること。 - 特許庁
In the rapid heating process, the object is rapidly heated with the induction-heating to a second prescribed temperature just before becoming in the semi-melting state.例文帳に追加
急速加熱工程は、加熱対象物を半溶融状態になる直前の第2所定温度まで誘導加熱により急速に加熱する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an organic photoelectric conversion element which has high absorbance at 600 nm without including a process of high-temperature heating.例文帳に追加
高温で加熱を行う工程を含まずに、600nmにおける吸光度が高い有機光電変換素子の製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a silicon carbide semiconductor device in which an ohmic electrode can be formed through a low-temperature process without employing impurity doping.例文帳に追加
不純物ドープを用いることなく、低温プロセスでオーミック電極を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the initial heating process, the object is heated with the induction-heating to a first prescribed temperature of the A_1 transforming point thereof.例文帳に追加
初期加熱工程は、加熱対象物を加熱対象物のA1変態点未満の第1所定温度まで誘導加熱により加熱する。 - 特許庁
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