「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a composition for provisional fixation, capable of forming provisional fixation materials having retention retaining substrates in a process where the high temperature load is applied, and having easily peelable property in a process where the substrates are peeled from supports.例文帳に追加

高温負荷がかかる工程でも基材を保持しうる保持力、および支持体から基材を剥離する工程での易剥離性を有する仮固定材を形成することが可能な仮固定用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for multidirectional forging which can introduce a large quantity of strain into a difficult-to-work metallic material in a more appropriate and simple process applicable in an industrial-level, in comparison with the conventional multidirectional forging process under decreasing temperature conditions.例文帳に追加

従来の降温多軸鍛造処理法に比べて、産業レベルでの適用により適したより簡便な工程で、難加工性材料に多量の歪みを導入することの可能な加工方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a carbide and activated carbon having a desired function suitable for demand with saved energy at high yield by control of temperature of a carbonization process and flexible control of the activation condition in a activation process.例文帳に追加

炭化工程における温度制御、賦活工程における賦活条件の自在な制御によりエネルギ−を節減しつつ需要に適合した所望の機能を有する炭化物、活性炭を高収率で得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor photoelectric component which hardly causes lift-off in a subsequent manufacturing process even if temperature is low in a manufacturing process by using an organic dielectric material, and to provide a light-emitting diode forming the same.例文帳に追加

有機誘電材料を使用することによって製造工程で温度が低くてもその後の製造工程に於いて剥離しにくい半導体光電部品及びそれを形成する発光ダイオードを提供する。 - 特許庁

The method is based on a modified thermophoresis process wherein a temperature gradient is produced in a mixture of particles and the most conductive particles are selectively deposited on a warm surface in the modified thermophoresis process.例文帳に追加

方法は、修正熱泳動プロセスに基づき、修正熱泳動プロセスにおいて、粒子の混合物内に温度勾配が生成され、最も伝導性が高い粒子が、暖かい表面上に選択的に堆積する。 - 特許庁

Furthermore, it comprises, in the high-frequency heating beyond the point A_3 before the hardening process, a process of holding the steel parts within a temperature region beyond the point A_3 for a prescribed time or longer, then cooling the steel parts to the transformation point A_1 or lower as they are.例文帳に追加

さらに、焼入工程前のＡ_３点を超えての高周波加熱において、Ａ_３点を超える温度域に所定時間以上保持し、次いで、そのままＡ_１変態点以下に冷却する工程を備える。 - 特許庁

Furthermore, at double-sided recording, while controlling so that recording paper is transported and passed through the fixing process at least 3 times or more, the temperature and the transportation speed during passage of each fixing process are controlled.例文帳に追加

さらに、両面記録時においても、記録紙を少なくとも３回以上定着プロセスを搬送・通過させる様に制御するとともに、それぞれの定着プロセス通過時の温度や搬送速度を制御する。 - 特許庁

Since the calcination of the electrode pre-calcining process is conducted at a temperature range of 300-350°C, an energy consumption can be reduced and a calcining device itself in the electrode pre-calcining process can be made smaller.例文帳に追加

電極仮焼成工程における焼成を３００℃〜３５０℃の温度範囲内で実施するため、消費するエネルギー量を低減でき、電極仮焼成工程における焼成装置自体を小型化できる。 - 特許庁

This method for peeling a substrate includes: a heating process of heating a holder with a substrate held thereto; and a peeling process of peeling the substrate from the holder by cooling the heated holder by providing a temperature gradient.例文帳に追加

基板を保持したホルダを加熱する加熱工程と、加熱されたホルダを、温度勾配をつけて冷却することにより、基板をホルダから剥離する剥離工程とを備える基板剥離方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a phosphor which comprises a spherical particle having a controlled particle size and a narrow particle-size distribution, by a process comprising calcining at a lower temperature than in the conventional dry process.例文帳に追加

従来の乾式法に比べて、より低い温度での焼成を含む工程によって、制御された粒径を有し、しかも、その粒度分布が狭い球状粒子からなる蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of plastic bottle, a production process of bottled product and a production apparatus of plastic bottle, which are capable of controlling wall thickness of the plastic bottle by partially reducing temperature of a preform.例文帳に追加

プリフォームの温度を部分的に低下させることにより、プラスチックボトルの肉厚をコントロールすることが可能なプラスチックボトルの製造方法、ボトル製品の製造方法、およびプラスチックボトルの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wet process oxidation treating method and wet process oxidation treating device capable of efficiently decomposing organic matter even at a treatment temperature below 180°C and reducing a device cost as well as a refuse treating method.例文帳に追加

１８０℃以下の処理温度でも効果的に有機物を分解することができ、装置コストを低減可能な湿式酸化処理方法および湿式酸化処理装置ならびにごみ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrically and chemically stable charge-transfer material resistant to heat at a deposition process, and having excellent heat resistance at the deposition process, and the high glass transition temperature when used for an organic electroluminescent element.例文帳に追加

有機電界発光素子に使用した場合、蒸着プロセス時の耐熱性が優れていて、かつガラス転移点が高く電気的・化学的に安定な蒸着プロセス耐熱性電荷輸送材料を提供すること。 - 特許庁

To improve temperature characteristics by dispensing with an adjustment process in a manufacturing process of a VCE (collector-emitter voltage) detection circuit, in an induction heating rice cooker heating a pot by controlling a current flowing in a heating coil by a switching means.例文帳に追加

加熱コイルに流れる電流をスイッチング手段により制御し鍋を加熱する誘導加熱式炊飯器において、ＶＣＥ検知回路の製造過程での調整工程なくし温度特性を改善する。 - 特許庁

Then the process gas is heated to 1,000°C by the heater 15, and the heated process gas is fed into the reaction chamber 2 via the gas introduction pipe 13, and the temperature of the reaction chamber is set at 800°C.例文帳に追加

そして、加熱器１５により処理ガスを１０００度に加熱し、加熱された処理ガスをガス導入管１３を介して反応室２に供給するとともに、反応室の温度を８００度に設定する。 - 特許庁

Prior to a process in which water in the electrode plate is removed by heat treatment and concurrently the thickener is dispersed, a process of heat treatment in a high temperature atmosphere of boiling point or more of water by introducing steam is provided.例文帳に追加

熱処理により極板中の水分を除去し、あわせて増粘剤を飛散させる工程に先立って、水蒸気を導入した、水の沸点以上の高温雰囲気中において熱処理する工程を設ける。 - 特許庁

To provide a process for strongly laminating a plastic product at a low temperature, a laminator, the plastic product of every kind laminated by the laminating process and especially a biochip or a microanalyzing chip made of a plastic.例文帳に追加

プラスチック製品を、低温で、かつ強固に張り合わせるためのプロセス及び装置を提供し、さらにはそれにより張り合わされた各種プラスチック製品、特にプラスチック製バイオチップやマイクロ分析チップを提供すること。 - 特許庁

In a refining process of gas containing carbon dioxide (CO2) as impurities, especially, a PSA(pressure-swing adsorption) or TSA(temperature- swing adsorption) process, carbon dioxide is adsorbed by an adsorbent containing activated alumina.例文帳に追加

本発明は、少なくとも二酸化炭素（ＣＯ_2）を不純物として含むガスの精製プロセス、特にＰＳＡおよびＴＳＡプロセスであって、活性アルミナ粒子を備える吸着剤に二酸化炭素を吸着させるプロセスに関する。 - 特許庁

Then the heated piezoelectric substrate 40 having the piezoelectric layer 41 formed is cooled down to environmental temperature (cooling process), and a plurality of individual electrodes 42 are formed on the surface of the piezoelectric layer 41 respectively (electrode forming process).例文帳に追加

その後、加熱された圧電層４１が形成された振動板４０を環境温度まで冷却し（冷却工程）、圧電層４１の表面に複数の個別電極４２をそれぞれ形成する（電極形成工程）。 - 特許庁

The control device 14 controls the heating means 5, 6, and 7 to keep temperature of contents in a pot 2 at 60°C or more and 85°C or less in the preheating process, and continues the preheating process for at least 10 min.例文帳に追加

制御装置１４は、予熱工程の際に、鍋２内の内容物の温度が６０℃以上８５℃以下となるように加熱手段５，６，７を制御し、かつ、予熱工程を少なくとも１０分以上継続する。 - 特許庁

To provide a method for forming a gate insulating film exhibiting superior film characteristics under low temperature, a process for fabricating a thin-film transistor comprising a process for forming such a gate insulating film, and to provide a thin-film transistor.例文帳に追加

膜特性に優れるゲート絶縁膜を低温で成膜できるゲート絶縁膜の形成方法及びそうしたゲート絶縁膜の形成工程を含む薄膜トランジスタの製造方法並びに薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

Then, there is provided a heating process prior to sealing resin application (S2) for heating the aggregate board mounted with a plurality of the surface acoustic wave elements up to a temperature below the curing temperature of a sealing resin material that is a sealing resin before the completion of curing.例文帳に追加

複数の弾性表面波素子を実装した集合基板を、硬化完了前の封止樹脂である封止樹脂材の硬化温度未満に加熱する封止樹脂塗布前加熱工程（Ｓ２）を設ける。 - 特許庁

Furthermore, after the resist 105 is removed, the semiconductor substrate 1 where the impurities have been injected is subjected to a heat retaining process of heating the semiconductor substrate 1 up to a prescribed temperature and keeping the semiconductor substrate 1 at the prescribed temperature for a prescribed time, and thus the deep well 10 can be obtained (Figure (c)).例文帳に追加

更に、レジスト１０５を取り除いた後、上記不純物の注入された半導体基板１を、所定の温度に加熱して保持する保熱処理を行うことで、ディープウェル１０を形成する（図２（ｃ））。 - 特許庁

To propose an exposure apparatus for always placing a photosensitive substrate in the temperature almost equal to that of a substrate holder on the substrate holder, even when temperature of the substrate holder rises through repetition of the exposure process.例文帳に追加

露光処理を繰り返し行うことにより基板ホルダの温度が上昇したとしても、常に基板ホルダと略同一温度の感光基板を基板ホルダ上に載置することが可能な露光装置等を提案する。 - 特許庁

The difference between the profile of the temperature with respect to the time in the heating process and the profile of the temperature with respect to the time of the reflow soldering is preferably within ±50% in the heating range of 0-150°C.例文帳に追加

加熱工程における時間に対する温度のプロファイルと、前記リフローはんだ付けの時間に対する温度のプロファイルとの差が、０〜１５０℃の加熱領域において±５０％以内であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a rubber process oil having relatively low viscosity, excellent in workability at low temperature, improving working environment at high temperature, and excellent in weatherability and heat resistance of a rubber composition and a rubber composition including it.例文帳に追加

比較的低粘度で、寒冷時の作業性に優れ、また高温時の作業環境が改善され、かつゴム組成物の耐侯性、耐熱性に優れたゴムプロセス油及びそれを含有するゴム組成物を提供する。 - 特許庁

To easily remove a deposit deposited in a device without increasing temperature, in a device for growing an atomic layer for forming, for instance, an alumina film, assuming a low-temperature process around 300°C at most.例文帳に追加

高々３００℃程度の低温処理を前提とされた例えばアルミナ膜を形成する原子層成長装置において、装置内部に堆積する堆積物を、高温にすることなく容易に除去できるようにする。 - 特許庁

To provide the temperature control system of a delivery object for enabling a prescribed person concerned to freely recognize the temperature of the baggage room of a delivery vehicle, the location of the delivery vehicle, and working circumstances in a circulation process in real time.例文帳に追加

所定の関係者が自由にリアルタイムで配送車の荷室の温度、配送車の位置および流通過程における作業状況を把握でき、ようにした配送物の温度管理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a hot-melt adhesive that has superior low-temperature adhesion, does not make an adhesive layer and adhesive film formed thereof sticky at room temperature, and sufficiently prevents burrs from being produced during a punching process.例文帳に追加

低温接着性に優れるとともに、形成される接着層および接着フィルムに室温下でベトツキがなく、しかも打ち抜き加工時にバリの発生が十分に防止されるホットメルト接着剤を提供すること。 - 特許庁

In this method for cooling a exhaust gas with water spray by using a dry process, hot water of ≥100°C temperature and ≥1 kgf/cm2 pressure is sprayed on the exhaust gas to cool the exhaust gas to a prescribed temperature or below.例文帳に追加

排ガスを水噴霧により乾式で冷却する方法であって、１００℃以上かつ１ｋｇｆ／ｃｍ^2 以上の熱水を排ガスに噴霧することにより、排ガスを所定温度またはこれ以下に冷却する。 - 特許庁

The powder is formed by using a fiber material consisting of an aromatic polymer such as a polyamide as a starting raw material and only by the temperature process in which the starting raw material is fired in a prescribed atmosphere in accordance with a prescribed temperature profile.例文帳に追加

ポリアミドなど芳香族高分子からなる繊維体を出発原料とし、所定の温度プロファイルに従って前記出発原料を所定雰囲気下で焼成する温度プロセスのみで形成する。 - 特許庁

The bittern, obtained in a process for producing a seawater salt from seawater, is heated so that the concentration of salts becomes 32 Baume degree, and thereafter, supersaturated salts in the bittern are deposited by cooling the bittern to a temperature of ≤0°C and keeping the bittern at that temperature.例文帳に追加

海水から海水塩を製造する過程で得られたにがりを加熱処理してその塩分濃度を３２度とし、その後、０℃以下に冷却して保持し、にがり中の過飽和の塩類を析出させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metallic sheet and a temperature controller for manufacturing a desired metallic sheet by controlling the temperature of the metallic sheet after finish rolling in a manufacturing process of the metallic sheet.例文帳に追加

金属板の製造工程において、仕上圧延後の金属板温度を制御することにより、所望の金属板を製造するための金属板の製造方法及び温度制御装置の提供を目的とする。 - 特許庁

During poisoning release control, the fuel injection is divided into a suction stroke injection and a compression stroke injection, when the process is performed in the sequence of the exhaust gas temperature raising mode, the exhaust gas composition mode, and then the normal mode in accordance with the catalyst temperature.例文帳に追加

被毒解除制御中、燃料噴射を吸気行程噴射と圧縮行程噴射とに分割するが、触媒温度に応じて、排気昇温モード、排気組成モード、通常モードの順で実行する。 - 特許庁

In a preheating process, heating is performed such that the temperature of a fitting surface 80 between the fuel passage member 30 and the first cylindrical portion 41 converges at a first temperature which is lower than the melting points of the fuel passage member 30 and the first cylindrical portion 41.例文帳に追加

予熱工程では燃料通路部材３０と第１筒部４１との嵌合面８０の温度が燃料通路部材３０および第１筒部４１の融点より低い第１温度に収束するよう加熱する。 - 特許庁

This method for producing the soft textured tangle boiled down with the soy sauce is provided by using the wet tangle without passing through a drying process as a raw material, cleaning with water at a normal temperature or a middle temperature, then impregnating in seasoning liquid containing the soy sauce and a sweetening agent, and heating.例文帳に追加

乾燥工程を経由していない湿潤昆布を原料とし、常温ないし中温の水で洗浄した後、醤油および甘味料を含む調味液に含浸して熱するようにした。 - 特許庁

To provide an optical fiber-splicing structure in which additional time and labor is unnecessary in the splicing process of the optical fibers and a splicing loss is stabilized even under a high temperature or a low temperature environment, and to provide an optical fiber-splicing method.例文帳に追加

光ファイバ接続工程で余計な手間をかけること無く、高温や低温の環境下においても接続損失の安定化を図ることができる光ファイバ接続構造及び方法を提供する。 - 特許庁

The rubber granular powders pulverized with the low temperature pulverizer is used as a reclaimed raw material for the manufacture of the tire and the vaporized nitrogen gas derived from the low temperature pulverizer is used as a pressurizing gas in the tire vulcanization process.例文帳に追加

この低温微粉砕装置で微粉砕したゴム粉粒体をタイヤ製造用再生原料とし、低温微粉砕装置から導出した気化窒素ガスをタイヤ加硫工程での加圧用ガスとして使用する。 - 特許庁

To conduct a heat treatment having a high accuracy in a short time when a substrate is placed on a substrate placing section, the temperature of the substrate is stabilized at an aimed process temperature and the specified heat treatment (a heating or a cooling) is conducted.例文帳に追加

基板載置部の上に基板を載置して、その温度を目標とするプロセス温度に安定させて所定の熱処理（加熱あるいは冷却）をする際において、高精度な熱処理を短時間で行うこと。 - 特許庁

A diffusion process for keeping an ambient temperature at a temperature at which metal atoms of the second metal film are diffused into the first metal film and the surface thereof is executed during or after formation of the first metal film.例文帳に追加

そして、第１金属膜の形成中または形成後に、第２金属膜の金属原子が第１金属膜の膜中および膜表面に拡散するような温度に雰囲気温度を保持する拡散工程を実施する。 - 特許庁

To provide a heat responsible liquid composition which is a mixture of hydrophilic ion liquid and has properties to be dissolved under low temperature and to perform the phase-separation under high temperature, and to provide a process which is capable of efficiently extracting a poorly soluble substance using the same.例文帳に追加

本発明の課題は、親水性イオン液体と有機溶剤との混合物で低温下で溶解、高温下で相分離する性質を有する熱応答性液体組成物を提供することである。 - 特許庁

A 1/2 outflow temperature (T2) of the toner fixed on a cleaning member 4, measured with a flow tester is 120-140°C and a relationship with a 1/2 outflow temperature (T1) of the toner used in a developing process is represented by T1+10<T2(°C).例文帳に追加

クリーニング部材４に固着したトナーのフローテスターにより測定される1/2流出温度(T2)が120〜140℃であり、現像工程で用いられるトナーの1/2流出温度(T1)との関係がT1＋10＜T2（℃）であるトナーを用いる。 - 特許庁

In a first process, a molding synthetic resin 17 is melted in a low temperature heating atmosphere that is higher than ordinary temperature and lower than 150°C and that is solidified by cooling, is made to adhere to an inner wall of a molding die 15.例文帳に追加

第１の工程では、常温より高く１５０℃より低い低温加熱雰囲気中で溶融するとともに冷却によって固化する成形用合成樹脂１７を成形型１５の内壁に付着する。 - 特許庁

To obtain a single surface paper/phenol resin/copper clad laminated sheet reduced in the generation of warpage even if a peak temperature is raised to a temperature suitable for lead-free soldering in a reflow process for mounting an electronic part using lead-free solder.例文帳に追加

鉛フリーはんだを用いて電子部品を実装するリフロー工程において、ピーク温度を鉛フリーはんだに適した温度に上げても、反り発生の小さい片面紙フェノール樹脂銅張積層板を得る。 - 特許庁

After having drawn them at 0.01 to 0.5μm/sec for 20 to 120 seconds while heating them at a temperature of 1610 to 1710°C higher than the preheating temperature, a drawing process is carried out by drawing them at a speed of 1 to 15μm/sec for 250 to 550 seconds.例文帳に追加

予熱より高い温度の１６１０〜１７１０℃で加熱しつつ、０．０１〜０．５μｍ／秒で２０〜１２０秒延伸した後、１〜１５μｍ／秒で２５０〜５５０秒延伸して延伸工程を実施する。 - 特許庁