「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

A means is arranged for dropping the temperature of the exhaust gas flowing in the exhaust emission control catalyst or the temperature of the catalyst; and drops the temperature of the exhaust gas or the temperature of the catalyst before the air-fuel ratio of the exhaust gas flowing in the exhaust emission control catalyst transfers to stoichiometric or rich or in a process of transferring.例文帳に追加

また、排ガス浄化触媒に流入する排ガスの温度もしくは触媒の温度を低下させる手段を設け、排ガス浄化触媒に流入する排ガスの空燃比がストイキまたはリッチに移行する前もしくは移行する過程で、排ガスの温度または触媒の温度を低下させる。 - 特許庁

Before the hot-press process, in a condition in which the gas diffusion layers 10, 11 has not been laminated on the intermediate laminate 25, the intermediate laminate 25 is heat and held for heat treatment in a temperature region having a temperature of not lower than the glass transition temperature of the electrolyte polymer contained in the catalyst electrodes 14, 18 and not higher than its thermally decomposition temperature.例文帳に追加

ホットプレス工程の前に、ガス拡散層１０，１１を中間積層体２５に積層していない状態で、触媒電極層１４．１８に含まれている電解質ポリマーのガラス転移温度以上で熱分解温度以下の温度領域に、中間積層体２５を加熱保持して熱処理する。 - 特許庁

In a process S3, the temperature of the vapor phase growth apparatus 11 is changed in the term after the time t1 while supplying a gas containing ammonia, so that the temperature of a reactor 15 of the vapor phase growth apparatus 11 becomes a temperature Temp 2 lower than the temperature Temp 1 of the time t1 at the time t2.例文帳に追加

工程Ｓ３では、時刻ｔ２において気相成長装置１１の反応炉１５の温度が、時刻ｔ１における温度Ｔｅｍｐ１よりも低い温度Ｔｅｍｐ２になるように、アンモニアを含むガスを供給しながら時刻ｔ１以降の期間中に気相成長装置１１の温度を変更する。 - 特許庁

In heating and pressurizing a laminate structure including an electric insulating base material and a wiring board via a press plate, the heating and pressurizing process includes a deviation generating process for generating a deviation between the laminate structure and the press plate before the temperature reaches a laminate deviation start temperature.例文帳に追加

電気絶縁性基材と配線基板とを含む積層構成物をプレス板を介して加熱加圧するに際し、前記加熱加圧工程は、積層ずれ開始温度に達する前に前記積層構成物と前記プレス板の間でずれを発生させるずれ発生工程を含むものである。 - 特許庁

Process annealing in the process of a cold rolling stage and stabilization annealing after final cold rolling are performed in the temperature range of 250 to 850°C for 5 sec to 1 min in a continuous furnace, and the temperature increasing and cooling rate at this time is controlled to ≥10°C/sec.例文帳に追加

冷間圧延工程の途中での中間焼鈍及び最終冷間圧延後の安定化焼鈍を、連続炉において２５０〜８５０℃の温度範囲で５秒以上１分以下の条件で実施し、その際の昇温及び冷却速度を１０℃／秒以上とする。 - 特許庁

To omit a warming process for making the temperature of a cooled liquid container near the room temperature which has been done for preventing a corrugated fiberboard case from softening due to dew condensation and from blocking in a packaging process for liquid containers such as beer cans by using a nonslip corrugated fiberboard case.例文帳に追加

防滑性段ボールケースを使用した缶ビール等、液体容器の包装工程において、結露による段ボールケースの軟化や、段ボールケースのブロッキングを防止するために行われる冷却された液体容器の温度を室温付近とするウォーマー工程を省略する。 - 特許庁

The method includes a composite formation process A for forming composites 24 and 25 by coating the surface of a hafnium plate material 21 with zircalloys 22 and 23 and a quenching process B for quenching the composites 24 and 25 at a temperature equal to or higher than the α-β transformation temperature of the zircalloys 22 and 23.例文帳に追加

ハフニウム板材２１表面を、ジルコニウム合金２２、２３で被覆し複合材２４、２５を形成する複合材形成工程Ａと、前記複合材に対して前記ジルコニウム合金のα−β変態温度以上の温度での焼入れを行う焼入れ工程Ｂと、から成ることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a low temperature-sinterable ceramic composition sinterable at low temperatures, and suitable for use as a raw material of electronic components which can be sintered at a low temperature and suitable for use as a raw material of electronic components manufactured via a firing process while suppressing shrinkage in a planar direction by a shrinkage-controlling construction process.例文帳に追加

低温で焼結させることが可能であるとともに、収縮抑制工法により、平面方向の収縮を抑制しつつ焼成する工程を経て製造されるセラミック基板などの電子部品の原料として用いるのに適した低温焼結セラミック組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device using a material becoming a sacrifice polymer having a hardness under room temperature indispensable in a semiconductor process and suitable for forming an air isolation structure between the interconnect lines of semiconductor elements by thermally decomposing completely at a relatively low temperature.例文帳に追加

半導体プロセスにおいて必須である、室温での硬度を有し、同時に比較的低温で完全に熱分解して、半導体素子の配線間にエアアイソレーション構造を形成するために好適な犠牲ポリマーとなる材料を用いて半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A fluid resin binder compound containing at least two sorts of cation polymerizing resins having different hardnesses, in particular ring-form aliphatic series epoxy resin and glycidil-ether resin, and at hardening, a low- temperature hardening process and a high-temperature hardening process are used.例文帳に追加

硬化性の異なる、少なくとも２種類のカチオン重合性樹脂、特に環状脂肪族エポキシ樹脂及びグリシジルエーテル樹脂を含有する流動性樹脂結合材組成物を使用し、硬化に際して低温度の硬化工程と高温度の硬化工程とを含むものとする。 - 特許庁

By setting the highest heat treatment temperature during the porous material manufacturing higher than the highest treatment temperature in the compact membrane manufacturing process, porosity deterioration of the porous material in the membrane manufacturing process can be prevented and a composite material with high oxygen permeability can be easily manufactured.例文帳に追加

この多孔質体を製造する際の最高熱処理温度を、緻密質膜の製造過程での最高熱処理温度よりも高温とすることにより、緻密質膜の製造過程での多孔質体の気孔率低下を抑制することができ、酸素透過特性の高い複合体を容易に製造できる。 - 特許庁

When an emissivity in the rear surface of the wafer is within the detecting range of an optical detector in a process of irradiating light to the rear surface of the wafer to measure the temperature of the wafer based on the emissivity ε, the temperature is operated based on the emissivity ε measured in the process of heat treatment.例文帳に追加

ウェハ裏面に光を照射し、その放射率εに基づいてウェハ温度測定をする過程において、ウェハ裏面における放射率が光検出器の検出範囲内にある場合は、熱処理工程中に測定した放射率εに基づいて温度を算出する。 - 特許庁

To enhance the quality of a magnetic recording medium by devising a carrier holding a substrate included in a vacuum film-depositing device, thereby making the temperature of the substrate close to the temperature suitable for each film deposition process in a film-deposition process of the magnetic recording medium.例文帳に追加

真空成膜装置に含まれる基体を保持するキャリアを工夫することで、磁気記録媒体の成膜工程において基体の温度をそれぞれの成膜工程に適した温度に近づけることが可能となるため、磁気記録媒体の品質の向上を図ることができる。 - 特許庁

A temperature adjustment controller 23 comprises a mother board 23 mounted with a computer which processes information for adjusting temperature of a plurality of process chambers 1A, 1B,..., and a plurality of interface boards 41-47 for inputting/outputting of sensor signal and control signal to the process chambers 1A, 1B,....例文帳に追加

温度調節コントローラ２３は、複数の処理チャンバ１Ａ，１Ｂ，…の温度調節のための情報処理を行うコンピュータを搭載したマザーボード２３と、処理チャンバ１Ａ，１Ｂ，…に対してセンサ信号や制御信号の入出力を行う複数枚のインタフェースボード４１〜４７とを有する。 - 特許庁

To execute a temperature rise acceleration process of a catalyst 5 disposed in an exhaust gas passage 4 of an internal combustion engine 1 and a temperature rise acceleration process of cooling water of the internal combustion engine 1 as the need arises while keeping a structure as simple as possible in an exhaust heat recovery device 18 for the internal combustion engine 1.例文帳に追加

内燃機関１の排気熱回収装置１８において、可及的に簡素な構成としながら、内燃機関１の排気通路４に設けられる触媒５の昇温促進処理と、内燃機関１の冷却水の昇温促進処理とを必要に応じて実行可能とする。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a first process in which the walnut shell, pistachio shell or olive seed is heated in an inert gas atmosphere or in vacuum at a temperature ranging from 30°C to 700°C and a second process in which thereafter they are heated at a temperature ranging from 700°C to 1500°C and carbonized.例文帳に追加

くるみの殻、ピスタチオの殻又はオリーブの実を不活性ガス雰囲気中または真空中において、３０℃以上、７００℃以下の範囲内の温度において加熱処理する第一工程と、そののち７００℃以上、１５００℃以下の範囲の温度において加熱する第２工程を経て、炭質化する。 - 特許庁

The pile fabric provided with a color pattern on the pile surface is obtained by sewing a pile using a dyed acrylic fiber and by using the color change of a pile part dyed at a low temperature by operations of heating temperature conditions and a heating method of pile processing such as a tenter process and a polishing process of pile sewing.例文帳に追加

アクリル系繊維を、染色した繊維を用いてパイルを縫製し、パイル縫製のテンター工程やポリッシング工程等のパイル加工の加熱温度の条件及び加熱方法の操作にて、低温で染色したパイル部が色変化する事を用いて、パイル表面に色模様を付与したパイル布帛。 - 特許庁

The heat generation inspection method for the heater comprises a process used to measure surface-temperature distribution data on a region including a heat generation part of the heater electrified by a prescribed voltage, and a process used to decide whether an abnormal heat generation part of the heater exists on the basis of the measured surface-temperature distribution data.例文帳に追加

ヒータの発熱検査方法であって、所定電圧で通電されたヒータの発熱部を含む領域の表面温度分布データを測定する工程と、測定された表面温度分布データに基づいて前記ヒータの異常発熱部の有無を判定する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the fuel cell (100) includes a first process of carrying out heat treatment on a hydrogen separation film (10) of a polycrystalline material, at a prescribed temperature of an actual using temperature or more, and a second process of film-forming the electrolyte film (20) on the hydrogen separation film (10), after the heat treatment.例文帳に追加

燃料電池（１００）の製造方法は、多結晶体の水素分離膜基材（１０）に、実使用温度以上の所定温度で熱処理を行う第１の工程と、熱処理後の水素分離膜基材（１０）上に電解質膜（２０）を成膜する第２の工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

An ECU 7 stops the engine after raising the temperature of the exhaust gas purifying catalyst 5 up to a heat resistance limit of the catalyst by previously changing injection timing of the fuel over to an early stage of a suction process from an intermediate stage of the suction process so that the exhaust air temperature becomes higher in advance of stopping of the engine.例文帳に追加

ＥＣＵ７は、エンジンの停止に先立って排気温度が高くなるように、予め燃料の噴射時期を吸気行程の中期から吸気行程の早期に切り換えて、排気ガス浄化触媒５の温度を触媒の耐熱限界まで昇温させた後にエンジンを停止させる。 - 特許庁

To manufacture an image display device superior in image display characteristics at a low cost by performing temperature regulation during a current-carrying process in manufacturing the image display device, so as to improve element characteristics and by reducing the time required for a high- temperature heating process.例文帳に追加

画像表示装置の製造に際して通電処理時における温調を行えるようにして素子特性の向上を図るとともに、高温加熱工程での所用時間を短縮することで、画像表示特性に優れ且つ低コストで画像表示装置の製造を可能とする。 - 特許庁

A SO_X trap recovery process increasing the temperature of the SO_X trap catalyst to recover the SO_X trap ability of the SO_X trap catalyst, and a filter regeneration process raising the temperature of a particulate filter to recover particulate matter trapping ability of a particulate filter 17 can be executed.例文帳に追加

ＳＯ_Xトラップ触媒のＳＯ_Xトラップ能力を回復させるべくＳＯ_Xトラップ触媒を昇温させるＳＯ_Xトラップ回復処理と、パティキュレートフィルタ１７の粒子状物質捕集能力を回復させるべくパティキュレートフィルタを昇温させるフィルタ再生処理とを実行可能である。 - 特許庁

When the spheroidal-annealing composed of respective process of a heating, a cooling before transformation, a control-cooling and a cooling after transformation, is applied, the ratio of the high temperature holding time in the high temperature holding process and a control-cooling time in the control-cooing pressure, is controlled.例文帳に追加

軸受鋼に、加熱、変態前冷却、管理冷却および変態後冷却の各工程からなる球状化焼鈍を施すに際し、前記高温保持工程における高温保持時間と、前記管理冷却工程における管理冷却時間との比率を制御する。 - 特許庁

This method for processing the purple sweet potatoes comprises a preliminary treatment for soaking the purple sweet potatoes in an ascorbic acid treating solution at a temperature at the vicinity of the gelatinization temperature of starch contained in the purple sweet potatoes, a steaming process for steaming the purple sweet potatoes after going through the preliminary treatment, and a dry process for drying the steamed purple sweet potatoes.例文帳に追加

紫いもに含まれる澱粉の糊化温度近傍で、紫いもをアスコルビン酸処理液に浸漬処理する前処理行程を行った後、前処理行程を経た紫いもを、蒸煮する蒸煮工程を行い、その蒸煮された紫いもを乾燥する乾燥工程を行う。 - 特許庁

In conducting NOx discharge process of NOx absorbing catalyst and SOx removing process, the change gear ratio of a half troidal CVT is changed to cause the transition of operating condition of an engine to a high rotation and low load area, thereby raising the exhaust emission temperature and catalyst temperature.例文帳に追加

そして、ＮＯｘ吸収触媒のＮＯｘ放出処理又はＳＯｘ除去処理を行うときには、ハーフトロイダルＣＶＴの変速比を変更してエンジンの運転状態を高回転・低負荷領域に移行させ、排気ガス温度ひいては触媒温度を上昇させる。 - 特許庁

To provide an effective process with good productivity for production of various polyphenylene ethers with different characteristic features such as molecular weight and glass transition temperature, and a process for producing a polyphenylene ether having a narrow molecular weight distribution expected to give high glass transition temperature and improved mechanical characteristic features and the like.例文帳に追加

分子量やガラス転移温度などの特性が異なる多種類のポリフェニレンエーテルを効率、生産性よく製造する方法、及び、ガラス転移温度が高く、かつ機械的特性等の改善が期待できる分子量分布の狭いポリフェニレンエーテルを製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a voltage controlled current source capable of reducing transport conductance variations with respect to temperature variations and process variations, and a variable gain amplifier capable of obtaining a stable gain property, even in temperature variations and process variations, using the voltage controlled current source.例文帳に追加

温度変動およびプロセス変動に対する伝達コンダクタンスの変動を低減し得る電圧制御電流源と、前記電圧制御電流源を用いて温度変動およびプロセス変動に対しても安定した利得特性が得られる可変利得増幅器を提供する。 - 特許庁

The surface-treating method includes an atmospheric pressure plasma process for treating the surface of the substrate by the atmospheric pressure plasma treatment and, before the atmospheric pressure plasma process, a heating process for heating the surface of the substrate above a glass transition temperature Tg.例文帳に追加

前記基板に大気圧プラズマ処理による表面処理を行なう大気圧プラズマ工程と、前記大気圧プラズマ工程の前に、前記基板の表面温度をガラス転移温度Ｔｇ超に加熱する加熱工程とを有することで上記課題を解決する。 - 特許庁

Further, the method for manufacturing the composition includes: a process of mixing the A component with the B component; a process of grinding the mixed respective components into an average particle size of 11 μm or less; and a firing process of kneading and forming the ground respective components and firing the formed body at a temperature of not lower than 1,030°C and lower than 1,100°C.例文帳に追加

また、組成物の製造方法は、Ａ成分と、Ｂ成分とを混合する工程と、混合した各成分を平均粒子径11μｍ以下に粉砕する工程と、粉砕した各成分を混練・成形して1030℃以上1100℃未満で焼成する工程とを含む。 - 特許庁

The method comprises (A) a process for adding a Ca compound, (B) a process for hydrolyzing the protein by adding a protease and (C) a process for heating the mixture at a high temperature for a short time.例文帳に追加

本発明は、大豆蛋白スラリーまたはその溶液に対し、（Ａ）Ｃａ化合物を添加する工程、（Ｂ）蛋白分解酵素を添加して蛋白加水分解を行う工程及び（Ｃ）高温短時間加熱する工程を含むことを特徴とする大豆蛋白の製造方法である。 - 特許庁

To provide a polyester film for process paper which is the polyester film used in a manufacturing process for a liquid crystal display as process paper and which deposits little or substantially no white powder caused by oligomers when heat treated at high temperature.例文帳に追加

液晶ディスプレイの製造工程において使用される工程紙に用いられるポリエステルフィルムであって、高温で熱処理されてもオリゴマーに起因する白粉の析出の少ない、あるいは実質的に白粉の析出しない工程紙用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The method for sterilizing the endoscope comprises: a sterilization process for sterilization treatment of the endoscope 1 at high temperature; and a cooling process for cooling the the endoscope 1 by feeding a cooling fluid into the inside of the endoscope 1 after the sterilization treatment in the sterilization process.例文帳に追加

本発明は、内視鏡１を高温下で滅菌処理する滅菌工程と、前記滅菌工程で滅菌処理後の内視鏡１の内部に冷却用流体を供給して内視鏡１を冷却する冷却工程とを有する内視鏡の滅菌方法である。 - 特許庁

To carry out a tab connection process and a resin sealing process for a solar cell together at a relatively low temperature of the resin sealing process in a method of manufacturing the solar cell module constituted by resin-sealing a solar cell having a surface electrode, to which a tab line is connected.例文帳に追加

タブ線が接続された表面電極を有する太陽電池セルが樹脂封止されてなる太陽電池モジュールの製造において、タブ接続工程と太陽電池セルの樹脂封止工程とを、比較的低温の樹脂封止工程の温度で一括で行う。 - 特許庁

The manufacture of the printed circuit board for the semiconductor device includes a process of heating a copper clad laminate up to maximum reaching temperature in a resin curing process of the copper clad laminate and a process of forming a conductor circuit on the copper clad laminate.例文帳に追加

半導体装置用プリント配線板の製造において、銅張積層板を銅張積層板の樹脂硬化工程中の最高到達温度以上まで加熱する工程、前記銅張積層板に導体回路を形成するの工程、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

On the other hand, in the case that it is decided that the adhesion state is good in the decision process 12, degassing from the adhesive layer is carried out by heating an adhesion body at a temperature lower than that in the peeling process 13, at which the adhesive layer hardly foams, in a degassing process 14.例文帳に追加

一方、判別工程１２で接着状態が良好にあると判別した場合には、ガス抜き工程１４において、接着剤層が発泡し難い剥離工程１３より低い温度で接着体を加熱して、接着剤層からガス抜きする。 - 特許庁

The surface treatment of the ZnTe-based compound semiconductor also includes a second surface treatment process (process A) wherein, while atomic hydrogen is irradiated on the ZnTe-based compound semiconductor substrate, the compound semiconductor substrate is annealed at a temperature ranging between 80°C and 150°C, before the first surface treatment process is conducted.例文帳に追加

さらに、前記第１の表面処理工程の前に、前記ＺｎＴｅ系化合物半導体基板に原子状水素を照射しながら８０℃から１５０℃の温度範囲でアニールする第２の表面処理工程（工程Ａ）を有するようにした。 - 特許庁

This method comprises a first process where three semiconductor substrates 1 or less are introduced into a processing chamber 3, a second process where the semiconductor substrates 1 are heated up to a prescribed temperature, and a third process where a natural oxide film formed on the surface of the semiconductor substrate 1 is completely removed in a hydrogen atmosphere.例文帳に追加

３枚以下の半導体基板１を処理室３に設置する工程と、半導体基板１を所定の温度に加熱する工程と、所定の温度の水素雰囲気中で半導体基板１の表面の自然酸化膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁

In this coating method for a motor vehicle wheel, comprising an electrophoretic coating process 2 and a baking process 5, when the temperature of the wheel drops to 40-90°C during the baking process 5, air is blown to the engaging part of the rim and disk of the wheel.例文帳に追加

電着塗装工程２、焼付工程５を有する自動車用ホイールの塗装方法において、焼付工程５でホイール温度が４０〜９０℃になって塗料の粘度が低下した時に、ホイールのリムとディスクとの嵌合部にエアブローを施す自動車用ホイールの塗装方法。 - 特許庁

This via hole manufacturing method comprises a process for forming a via hole 4 on an aluminum nitride substrate 1 with a sandblast, a process for screen-printing a metal paste 3 in each via hole, and a process for burning the filled metal paste at a peak temperature of 350°C to 750°C.例文帳に追加

窒化アルミニウム基板１に、サンドブラストによって、ビア用の孔４を形成する工程、該孔内に金属ペースト３をスクリーン印刷する工程、次いで、充填された金属ペーストをピーク温度350〜750℃で焼成する工程、を含むことを特徴とするビアの製造方法。 - 特許庁

In the compression-heating process, a nonwoven fabric is produced by heating the fiber web at a temperature equal to or higher than a thermal fusion start temperature at which the thermal fusion fiber exhibits a thermal fusing property and lower than a crimp development temperature of the crimpable fiber, while compressing the fiber web in the thickness direction.例文帳に追加

圧縮加熱工程では、繊維ウェブをその厚み方向において圧縮しながら、前記熱融着繊維が熱融着性を発揮する熱融着開始温度以上、捲縮繊維の捲縮発現温度未満の温度で加熱して不織布を製造する。 - 特許庁

During a period in which the fuel battery 300 is stopped to operate, the control unit 400 determines a gas other than the reformed gas and an offgas from the fuel battery to be a combustible gas to be used by the heating unit 230, and sets the temperature of the catalyst to a temperature lower than a temperature, at reforming process.例文帳に追加

そして制御部４００は、燃料電池３００の動作が停止している間、加熱部２３０が用いる可燃ガスとして、改質ガス及び燃料電池からのオフガス以外のガスを使用し、かつ触媒の温度を改質処理時より低い温度にする。 - 特許庁

The temperature of the fixing device is detected and the process speed is changed based on the detected temperature, thereby the temperature of the fixing device can be prevented from getting higher than a threshold limit value, for example, even when performing continuous printing on continuous paper that is small in width.例文帳に追加

定着装置の温度が検出され、検出された温度に基づいてプロセス速度が変更されるので、例えば、幅の狭い連続紙に対して連続して印刷を行っても、定着装置の温度が限界値より高くなるのを防止することができる。 - 特許庁

After a silicon wafer has been subjected to high-temperature annealing in an atmosphere of hydrogen gas, argon gas or their mixture gas, a process for lowering the temperature down to a wafer take-out temperature is carried out partially or entirely, in an atmosphere containing nitrogen gas at a rate of 2°C/min or lower.例文帳に追加

シリコンウェーハに水素ガス、アルゴンガス、あるいはこれらの混合ガス雰囲気中で高温熱処理を施した後、ウェーハ取り出し温度まで降温される降温過程の一部または全部を、窒素ガス含有雰囲気中で２℃／ｍｉｎ以下の速度で降温する。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus that has a temperature detection means installed outside a reaction chamber so as to prevent a process gas from contacting the temperature detection means to form a film and improve reliability and reproduction of a measurement value of the temperature detection means.例文帳に追加

温度検出手段を反応室の外部に設けたことで、処理ガスが前記温度検出手段に接触し、成膜されるのを防止し、前記温度検出手段の測定値の信頼性及び再現性の向上を図る熱処理装置を提供する。 - 特許庁

According to the experiment of the inventors, it is found if the thick-film resistor 6 is fired at a temperature higher than the temperature of firing a glass insulating layer 2 which is formed thereon in contact therewith, this enables decrease of the change in the resistance in a subsequent high-temperature process of firing the glass insulating layers 2 to 4.例文帳に追加

本発明者らの実験によれば、厚膜抵抗６をそれに接するガラス絶縁層２よりも高温で焼成すれば、その後のガラス絶縁層２〜４の焼成などの高温工程による抵抗値変動を低減できることがわかった。 - 特許庁