| 例文 |
process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
To provide a method for forming a high quality of homogeneous insulating film using a highly-reactive, high-concentration ozone gas, in particular, only in a low temperature process.例文帳に追加
高濃度オゾンガスの高い反応性により、特には低温プロセスのみで、均一で高品質な絶縁膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a film-forming process film which is suited in forming a room temperature-curable silicone rubber film and has excellent releasability from a silicone rubber film after curing.例文帳に追加
室温硬化型シリコーンゴム成膜用として好適な、硬化後のシリコーンゴムとの剥離性に優れた成膜用工程フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a solid electrolytic capacitor, the tape binder of which does not peel, even when high temperature treatment is required in a manufacturing process.例文帳に追加
製造工程で高温処理が必要な場合であっても、巻き止めテープのはがれが生じることのない固体電解コンデンサを提供する。 - 特許庁
To provide an aliphatic polyhydroxycarboxylic acid having a high thermal stability, and exhibiting little coloration in melt molding process at high temperature.例文帳に追加
高い熱安定性を有し、高い温度における溶融成形加工時においても着色が少ない脂肪族ポリヒドロキシカルボン酸を提供すること。 - 特許庁
In the fixing device, rising time is measured until heat is accumulated in a pressure roll, etc., before performing temperature adjustment process 70a.例文帳に追加
この定着装置では、温度調整処理70aを実行する前に、プレッシャローラ等に熱が蓄熱されるまでの立上時間を計時している。 - 特許庁
To provide a semiconductor device ensuring appropriate drivability and temperature characteristics of a bipolar transistor even by a CMOS manufacturing process.例文帳に追加
CMOS製造プロセスを使用しても、バイポーラトランジスタの適切な駆動能力や温度特性を得ることが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a conductive ink composition expressing a high conductivity and excellent adhesion with a substrate by a heat process at a low temperature.例文帳に追加
低い加熱処理温度にて、高い導電性と、基材との良好な密着性とを発現する導電インク組成物を実現することである - 特許庁
In the temperature reducing process after growing a contact layer 509 of p-type GaAs, supply of the material gas, which contains AsH3, is stopped, and only the carrier gas is supplied.例文帳に追加
p型GaAsコンタクト層509成膜後の降温過程においては、AsH_3を含む原料ガスの供給を停止し、キャリアガスのみを供給する。 - 特許庁
To provide a steam reforming furnace capable of raising the temperature of a process fluid which is supplied to a reactor tube without using a convection part.例文帳に追加
対流部を用いることなく、反応管に供給されるプロセス流体の温度を高めることができる水蒸気改質炉を提供する。 - 特許庁
A method and system (100, 200) is explained for processing substrates (205, 205, 305) having supercritical fluid using a high temperature process.例文帳に追加
高温プロセスを用いる超臨界流体を有する基板(205、205、305)を処理するための方法およびシステム(100、200)が説明される。 - 特許庁
To effectively stop the temperature drop of a unit cell with simple structure and process and improve power generation performance of each unit cell.例文帳に追加
簡単な構成および行程で、単位セルの温度低下を有効に阻止し、各単位セルの発電性能を向上させることを可能にする。 - 特許庁
After a cooling process is carried out, a wafer is annealed at a relatively low temperature (e.g. below 625°C), and all hydrogen is eliminated from an Mg-doped layer.例文帳に追加
冷却プロセスの後、ウェーハは相対的に低い温度(例えば、625℃より下)でアニールされ、Mgドープ層からほぼ全ての水素を除去する。 - 特許庁
Changing the set temperature according to the change of the reflectivity in the process chamber improves the reproducibility of the heat treatment.例文帳に追加
これにより、処理容器内の反射率の変化に対応させて設定温度を変化させることにより、熱処理の再現性を向上させる。 - 特許庁
Since the channel layer is made of AZO semiconductor, the thin-film transistor is inexpensive and has less load to an environment, and it can be manufactured through a low-temperature process.例文帳に追加
チャネル層がAZO半導体よりなるため、安価であると共に環境への負荷が小さく、低温プロセスで製造することができる。 - 特許庁
A temperature elevation process is provided to make an IC chip itself heated by electric connection, to the inside of the IC chip, different from a usual condition (processing S1).例文帳に追加
ICチップ内部への通常とは異なる電気的接続により前記ICチップ自体を発熱させる昇温工程を経る(処理S1)。 - 特許庁
The hot pressing process is preferably performed at a press temperature of 120 to 150°C under press pressure of about 1 to 10 kg/cm^2for a press time of 10 to 60 sec.例文帳に追加
好ましくは、上記ホットプレスをプレス温度120〜150℃、プレス圧力約1〜10kg/cm^2、プレス時間10〜60秒で行なう。 - 特許庁
To provide a lead-free solder material which is suitable as the high temperature side solder material in a stepping soldering process and has good heat-resistance.例文帳に追加
階層はんだ付け工程における高温側はんだ材料として好適にして、耐熱性良好な鉛フリーの「はんだ材料」を提供する。 - 特許庁
The substrate layers 16, 22, 24, 26 are bonded together using a high temperature process such as brazing to form a single substrate assembly 14.例文帳に追加
基板層16、22、24、26は、ろう付けのような高温処理法を用いて互いに接合されて単一の基板組立体14を形成する。 - 特許庁
A bias current generator generates a reliable and consistent bias current, irrespective of variation in supplied power, process and operation temperature.例文帳に追加
バイアス電流発生器は、供給電源や工程プロセス、動作温度の変化と関係なく、安定的で一定であるバイアス電流を生成する。 - 特許庁
To provide a collimating lens for a scanning optical system which has a stable performance when a temperature changes, and which can be easily handled at a manufacturing process and also when in use.例文帳に追加
温度変化時に安定した性能を持ち、製造上、使用上共に扱いやすい走査光学系用のコリメートレンズを提供する。 - 特許庁
In addition, in the heating and compressing process, by using a hot press device, heating and compressing is performed under conditions at a heating temperature of 65-95°C and with a pressure of the press of 3-8 kgf/cm2.例文帳に追加
また、加熱・圧締工程において、ホットプレス装置を用い、加熱温度65〜95℃、プレス圧力3〜8kgf/cm^2の条件で加熱・圧締する。 - 特許庁
To solve the problem that it is expensive to implement an integrated resistor with a precise value that does not change with temperature and variations in the process of fabrication.例文帳に追加
コストがかかる、温度と作製プロセスの変動と共に変化しない正確な値を有する集積抵抗器を実装しないようにする。 - 特許庁
In a left standing/drying process 140, the material deposit layers are dried at a temperature lower than the melting point of fluororesin and stabilized (State E).例文帳に追加
放置・乾燥工程140において、材料堆積層を、フッ素樹脂の溶融温度より低い温度で乾燥し、安定化する(状態E)。 - 特許庁
To provide a single crystal production process which enables prevention of temperature fluctuation due to melt convection from being caused and improvement in single-crystallized rate.例文帳に追加
融液対流による温度振動を防止して単結晶化率を向上させることができる単結晶製造方法を提供する。 - 特許庁
In the preliminary drying process, the paint P is heated to 220°C at a gentle temperature rate of increase, so that the liquid constituent in the paint P is evaporated.例文帳に追加
仮乾燥工程では、塗料Pを緩やかな温度上昇率で220℃まで加熱して塗料P中の液体成分を蒸発させる。 - 特許庁
To provide a method of highly efficiently removing an amine contained at a low concentration in emission discharged from a CO_2 recovery process, at a low temperature.例文帳に追加
CO_2回収工程から排出される排ガス中に含まれる低濃度のアミン類を、低温かつ高効率で除去できる方法を提供する。 - 特許庁
To form a thin film of a polymer on an object with a film deposition material in a stable state without performing a high temperature process and also without producing monomers.例文帳に追加
高温プロセスを行なわず、かつ、モノマーを生成せずに成膜材料を安定な状態で対象物にポリマーの薄膜を形成する。 - 特許庁
In a pressurization process, a vulcanization medium comprising the superheated steam and a pressurization medium is supplied to the internal space to apply a temperature and a pressure required for the vulcanization.例文帳に追加
加圧工程は、過熱蒸気と加圧媒体とからなる加硫媒体を内部空間に供給して、加硫に必要な温度、圧力を与える。 - 特許庁
To provide a reference voltage generation circuit that can reduce reference voltage variation due to process fluctuation, temperature fluctuation and supply voltage fluctuation.例文帳に追加
プロセス変動、温度変動及び電源電圧変動による基準電圧のばらつきを低減させることができる基準電圧発生回路を得る。 - 特許庁
And curling due to the heat generated at the fixation process is mitigated while maintaining the constant fixation by reducing the fixation temperature in accordance with the floating.例文帳に追加
そして、その浮きに応じて定着温調温度を下げることで一定の定着性を維持しつつ、定着の熱によるカールを緩和する。 - 特許庁
To provide a polymer material having dual stimuli-responsiveness to changes of human body temperature and pH in the body and a process for its production.例文帳に追加
ヒトの体温変化と体内のpH変化に対して二重刺激応答性を有する高分子材料及びこの調製方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a technique for eliminating or reducing catalysis element from a crystallizable semiconductor film which contains silicon by a low- temperature process.例文帳に追加
低温プロセスによって、珪素を含む結晶性半導体膜中から触媒元素を除去または低減するための技術を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor integrated circuit provided with a delay circuit having small dependency on power supply voltage variation, temperature fluctuation and process variation.例文帳に追加
電源電圧変動、温度変動、プロセスばらつきに対する依存性の小さな遅延回路を備えた半導体集積回路を提供する。 - 特許庁
To provide an arc ion plating apparatus where over temperature rise or abnormal discharge is hardly caused in the substrate upon bombardment, and process controllability is enhanced.例文帳に追加
ボンバードの際に、基材に過昇温や異常放電が生じ難く、ひいてはプロセス制御性の良好なアークイオンプレーティング装置を提供する。 - 特許庁
To enhance production efficiency by easily removing dew condensation water generated in the temperature raising process in a pressure vessel to which steam is supplied.例文帳に追加
蒸気を供給した圧力釜での昇温工程で発生する結露水の除去を容易にして生産効率を高めることができる。 - 特許庁
To provide a process for promoting hydrosilylation between an unsaturated bond-containing polymer showing a high viscosity at an ordinary temperature and a hydrogenated silica compound.例文帳に追加
常温で粘度の高い不飽和結合を有する重合体と水素化珪素化合物とのヒドロシリル化反応に関する反応促進方法。 - 特許庁
To stably manufacture a low-resistance conductive inorganic film on a substrate by a liquid phase method using a dispersion liquid of inorganic particles in a low-temperature process.例文帳に追加
低温プロセスにて、基板上に無機粒子の分散液を用いた液相法により低抵抗な導電性無機膜を安定して製造する。 - 特許庁
The resin foaming process for forming the foam insulation is performed after closing the opening portion 162 by the low temperature-side evaporator module 164.例文帳に追加
発泡断熱体を形成するための樹脂発泡処理は開口部162を低温側蒸発器モジュール164が閉塞した後に行われる。 - 特許庁
Besides, by imparting high temperature of ≥ 220°C for six hours or more at the vulcanizing process, the methanol soluble quantity is made ≤ 2.0%.例文帳に追加
さらに加硫工程において220℃以上で6時間以上高温を与えることにより、メタノール可溶分量を2.0%以下にすることができる。 - 特許庁
Tigecycline is protected during the process by injection of an inactive gas medium containing a non-reactive gas (e.g., nitrogen) and temperature control.例文帳に追加
チゲサイクリンは、非反応性ガス(例えば、窒素)を含む不活性ガス媒体を注入すること、および温度の制御により、プロセスの間保護される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which an ohmic electrode can be formed by a low temperature process without impurity doping.例文帳に追加
不純物ドープを用いることなく、低温プロセスでオーミック電極を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To enable space saving, easy manufacture, and reduction of clock skew, even if temperature, power voltage and process variations are fluctuated.例文帳に追加
省スペース化を可能にし、製造が容易であって、さらに温度,電源電圧,プロセスばらつきの変動があってもクロックスキューの削減を可能にする。 - 特許庁
In the reaction process, carbon dioxide or carbon monoxide is added to the lower hydrocarbon, and the reaction is performed at a temperature higher than 800°C.例文帳に追加
前記反応工程において、前記低級炭化水素に二酸化炭素又は一酸化炭素を添加し、反応温度を800℃より高くする。 - 特許庁
By incorporating the main component of the transparent electrode, the conductivity of the transparent electrode is not lost even in the succeeding high temperature process.例文帳に追加
ペースト内に透明電極の主成分が含まれることにより、その後の高温プロセスによっても透明電極の導電性は失われない。 - 特許庁
It is a fragrance derived from esters, especially ethyl caproate and isoamyl acetate, generated by sake yeast in the process of low-temperature fermentation like ginjo brewing. (Refer to "Moromi.") 例文帳に追加
吟醸造りのような低温発酵時に酵母が出すエステル類、特にカプロン酸エチルや酢酸イソアミルに起因する香りである(参照:醪)。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In the manufacturing process of forming a silicon oxide film at a low temperature, the silicon oxynitride film is formed by the thermal CVD method using bis-tertiary butylaminosilane, NH3 and N2O as raw material gases.例文帳に追加
ビス ターシャル ブチル アミノ シランとNH_3とN_2Oとを原料ガスとして用いて酸化窒化シリコン膜を熱CVD法により形成する。 - 特許庁
To provide a thin-film transistor having high reliability and good characteristics at a process temperature ≤500°C by using low price non-annealed glass as a substrate.例文帳に追加
安価な無アニールガラスを基板として、500℃以下のプロセス温度で高信頼度を有し、良好な特性を示す薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁
In this process, one or both outermost layers of the jointed light-emitting layers is made a layer which has the lowest glass transition temperature out of the organic layers.例文帳に追加
この際、接合される発光機能層における最外層の一方又は両方を有機層中で最もガラス転移温度が低い層とする。 - 特許庁
To provide a constant current source circuit capable of making the fluctuation of output current, and a temperature coefficient small, without depending on process control.例文帳に追加
プロセス制御に依存することなく、出力電流の変動および温度係数を小さくすることのできる定電流源回路を提供する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| 本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。 |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|