「process- or」に関連した英語例文の一覧と使い方(104ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method with which a heterocyclic compound represented by general formula (I) and/or general formula (I)' can be efficiently produced by a short process.例文帳に追加

短工程で効率的に下記一般式（Ｉ）および／または一般式（Ｉ）’で表されるヘテロ環化合物を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

Or a process which adds a new service item to menu items and makes content included in the service items to be browsable is executed.例文帳に追加

あるいは、メニュー項目に新たなサービス項目を追加して、サービス項目に掲載されたコンテンツを閲覧可能にするといった処理を行う。 - 特許庁

The process and the equipment for determining the position and/or the shape of at least one mark on a web 10 to be printed are provided.例文帳に追加

印刷されるウェブ１０上の少なくとも１つのマークの位置および／または形状を決定するためのプロセスおよび装置が提供される。 - 特許庁

To provide a FIFO storage method that allows resuming the out process of FIFO if data words have been read or written before.例文帳に追加

ＦＩＦＯの出し過程を、以前にデータ語が読出・書込みされている場合には再び開始することができるＦＩＦＯ記憶方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cover for cultivating mushrooms capable of preventing mushroom bed rot or drying of a culture medium in a container in a germinating process for cultivating the mushrooms.例文帳に追加

きのこ栽培の芽出し過程において、容器内の培地の菌床の床ぐされや乾燥を防ぐことのできるきのこ栽培用カバーを得る。 - 特許庁

To provide a printing apparatus capable of dispensing with the process of adjusting variation of a head rank before initial operation when a product is shipped or the like.例文帳に追加

製品出荷時等の初期稼動前においてヘッドランクのバラツキを調整する工程を省略できる印刷装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an injection molding machine constituted so as to shorten or dispense with a dwelling process and capable of obtaining a molded product of high dimensional precision.例文帳に追加

保圧工程を短く或いは不要とし、寸法精度の高い成形品を得ることができる射出成形用金型装置を提供する。 - 特許庁

To provide a query system for carrying out a query process corresponding to a received query element on a database system and/or a search-engine system.例文帳に追加

データベースシステム及び／又は検索エンジンシステムにおいて受信したクエリ要素に対応するクエリ処理を実行するクエリシステムを提供する。 - 特許庁

That is, the fuse formation area 14 is constituted by carrying out etching in a dimension larger than that of the other via or wiring area formed in the same process.例文帳に追加

すなわち、同一工程で形成される他のビアや配線領域より大きい寸法でエッチングしてヒューズ形成領域１４を構成する。 - 特許庁

The method for decomposing a vinyl alcohol-based polymer comprises a process for bringing a fungus of the genus Gloeophyllum or a culture of the fungus into contact with a vinyl alcohol-based polymer.例文帳に追加

キカイガラタケ属菌（Ｇｌｏｅｏｐｈｙｌｌｕｍ．ｓｐ）又は該菌の培養物をビニルアルコール系ポリマーに接触させる工程を含む、該ビニルアルコール系ポリマーの分解方法。 - 特許庁

In a coating B(b) process, a metal coat 12 of Au is formed on the resin thin film 11 with sputtering or deposition.例文帳に追加

次に、コーティングＢ（ｂ）工程において、樹脂薄膜１１上に、スパッタリングまたは蒸着によりＡｕなどの金属被膜１２を形成する。 - 特許庁

Application of the coating liquid or a resist by an ink jet process increases the utilization efficiency of chemical liquid and permits forming a patterned coating film.例文帳に追加

この塗布液やレジストをインクジェット方式で塗布することにより、薬液の使用効率を上げ、かつ、パターン化された塗布膜の形成が可能となる。 - 特許庁

In a process for drying the solution, carbon which is a component of charcoal is reacted and linked with a medium or solute contained in the solution to be fixed.例文帳に追加

溶液を乾燥する過程で、炭の成分である炭素と溶液に含まれる媒質や溶質とが反応或いは結合し、定着する。 - 特許庁

In a concentration process 12, fermentation gas is removed from fermented matter, and heat concentration or dehumidification concentration is performed to extract pigments.例文帳に追加

濃縮工程１２で、その発酵物から発酵ガスを取り除いた後、加熱濃縮または除湿濃縮を行って色素を抽出する。 - 特許庁

A planarization process (d) by a chemical and mechanical polishing method or etch back method is introduced before the removal of the resist mask 4 used for processing tracks.例文帳に追加

トラック加工に用いたレジストマスク４の除去前に化学的機械研磨法あるいはエッチバック法による平坦化工程（ｄ）を導入する。 - 特許庁

The light oil portions generated by the distillation/separation process 6 are utilized as the additives for the heating fuel or the cutting oils.例文帳に追加

蒸留分離工程６によって生成された軽質油部分は、加熱用燃料もしくは切削油等の添加剤として使用する。 - 特許庁

To materialize a printer or the like which delivers a liquid stably while restraining the desiccation of the liquid in a liquid discharge unit during the printing process.例文帳に追加

印刷処理中における液体吐出部の液体の乾燥を抑えて安定して液体を吐出させる印刷装置等を実現する。 - 特許庁

(3) The above hue regulator solution or dispersion is added to the polyester reaction vessel in the early to middle stage of the polyester production process.例文帳に追加

（３）前記整色剤溶液又は分散液をポリエステル製造工程の前期〜中期の時期にポリエステル反応槽中中に添加すること。 - 特許庁

The disinfection method involves a process of irradiating a subject with the light while a solution including a carbonic acid, iron (II) and/or iron (III) ions is contacted to the subject.例文帳に追加

対象物にカルボン酸、鉄（II）イオン及び／又は鉄（III）イオンを含む溶液を接触させつつ、光を照射する対象物の消毒方法。 - 特許庁

Additionally, there is another method through which the group IVb, III-V or II-VI impurities are doped during growing process of a silicon nanostructure on a semiconductor substrate.例文帳に追加

更に別法として半導体基板上でシリコン・ナノ構造が成長するときにIVb族、III-V族又はII-VI族不純物を添加する方法がある。 - 特許庁

The instant can be measured, by time, as an event occurring during the printing process or as a time relative to the event.例文帳に追加

瞬間は、印刷プロセス中に発生するイベントとして、又は、そのようなイベントに相対的な時間として、時間によって測定することができる。 - 特許庁

In the fourth process S4, the liquid resin is solidified or cured to integrally bond the piece 10 of the air permeable sheet on the resin molded article 21.例文帳に追加

第４工程Ｓ４において、液状樹脂を固化又は硬化させて通気シート片１０を樹脂成形品２１に一体的に接合する。 - 特許庁

In the above sticking process, a silicon oxide film is previously formed on the sticking surface of the large-diameter silicon wafer and/or small-diameter silicon wafer.例文帳に追加

前記貼り付け工程では、予め大口径シリコンウェハ及び／又は小口径半導体ウェハの貼り付け面に酸化シリコン膜を形成する。 - 特許庁

In the mixing process of the immunoassay, sodium dihydrogenphosphate or a solution containing sodium dihydrogenphosphate can be added.例文帳に追加

前記免疫検査方法の混合工程において、りん酸二水素ナトリウムまたはりん酸二水素ナトリウムを含む溶液を添加することができる。 - 特許庁

A preparative process for an acrylic artificial marble comprises heating, pressing and curing the acrylic SMC or BMC at a temp. ranging from 90 to 150°C.例文帳に追加

該アクリル系ＳＭＣ又はＢＭＣを９０〜１５０℃の範囲で加熱加圧硬化することを特徴とするアクリル系人工大理石の製造方法。 - 特許庁

To provide an optical scanner capable of suppressing the image plane curvature caused by a manufacturing process such as the manufacturing error or the mounting error of scanning lenses.例文帳に追加

走査レンズの製造誤差や取り付け誤差等の製造により発生する像面湾曲を抑制できる光走査装置を提供する。 - 特許庁

To reduce contaminated source which exists in a mini-environment pod through a process of manufacturing a microelectronic component or a microelectronic machine system.例文帳に追加

微小電子コンポーネントまたは微小電気機械システムを製造する過程を通じて、ミニエンバイロンメントポッドに存在する汚染源を減少させる。 - 特許庁

To check the influence upon and upstream processing section or a substrate to be processed to the minimum even when a process flow stagnates at a portion in a system.例文帳に追加

システム内の一部でプロセスフローが滞っても上流側の処理部あるいは被処理基板の受ける影響を最小限に食い止めること。 - 特許庁

Metal oxide restrains crystal grains from growing in a sintering process, and a skutterudite compound is atomized into fine crystal grains which are 20 μm or less in average crystal grain diameter.例文帳に追加

金属酸化物が焼結過程での粒成長を抑制し、該スカッテルダイト化合物は、平均結晶粒径２０μｍ以下に微細化される。 - 特許庁

On the base board the metal electrode is formed directly by vacuum evaporation process, PVD, CVD, MOCVD method such as sputtering, or by plating.例文帳に追加

金属電極は、真空蒸着法、スパッタリング等のＰＶＤ、ＣＶＤ、ＭＯＣＶＤ、メッキなどの方法で、絶縁基板上に直接形成される。 - 特許庁

The introduction of the reducing gas has been found to protect exposed metal-containing film from oxidation during the backfill and/or cooling process.例文帳に追加

充填及び／または冷却プロセスの間、露出した金属含有膜を酸化から保護するために、還元ガスを導入することが発見された。 - 特許庁

To provide a laser beam cutting process for titanium or a titanium alloy where cutting defects are not generated, and cutting can be performed at an economically acceptable cutting speed.例文帳に追加

切断欠陥が発生せず、経済的に優れた切断速度で切断できる、チタンまたはチタン合金のレーザ切断方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of a semiconductor chip capable of obtaining semiconductor chips with high production efficiency without causing any damage or contamination.例文帳に追加

破損させたり汚染したりすることなく、高い生産効率で半導体チップを得ることができる半導体チップの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a porous base material for a fuel cell inexpensively manufacturable by a simple process, and hardly causing breakage in manufacturing or using it.例文帳に追加

簡単な工程で安価に製造でき、製造時や使用時における破損が生じにくい燃料電池用多孔質基材を提供する。 - 特許庁

To obtain a technique for eliminating or reducing catalysis element from a crystallizable semiconductor film which contains silicon by a low- temperature process.例文帳に追加

低温プロセスによって、珪素を含む結晶性半導体膜中から触媒元素を除去または低減するための技術を提供する。 - 特許庁

Furthermore, this texture process may be performed by forming fine grooves or dimples on the surface (recess surface) 3a of the output side disk 3.例文帳に追加

また、このようなテクスチャ加工は、出力側ディスク３の表面（凹面）３ａに微細溝またはディンプルを形成することにより成されてもよい。 - 特許庁

To provide an arc ion plating apparatus where over temperature rise or abnormal discharge is hardly caused in the substrate upon bombardment, and process controllability is enhanced.例文帳に追加

ボンバードの際に、基材に過昇温や異常放電が生じ難く、ひいてはプロセス制御性の良好なアークイオンプレーティング装置を提供する。 - 特許庁

As the fluorine-containing solution, a fluorine-containing drain generated in the process for manufacturing metallic tantalum or niobium powder, for instance, is cited.例文帳に追加

フッ素含有溶液としては、たとえば金属タンタルもしくはニオブ粉末の製造プロセスにおいて生成されるフッ素含有排水が挙げられる。 - 特許庁

A manufacturing method for the semiconductor device contains a process for polishing a substrate forming a metallic wiring, a barrier metal or the insulating film in a pattern shape.例文帳に追加

金属配線、バリアメタル、又は絶縁膜がパターン状に形成された基板を研磨する工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method to continuously and effectively prevent and suppress production of sludge in the process of waste water treatment or in stagnating water in a discharge pool.例文帳に追加

排水処理過程やその放流プール滞留部水に於て発生する汚泥化を持続的効果的に防止抑制する方法を提供する。 - 特許庁

The process for preparing a pigmented powder coating material comprises the admixing to the powder coating material, of an ester, amide or salt of montanic acid as a dispersant.例文帳に追加

分散剤として、モンタン酸のエステル、アミドまたは塩を粉体塗装材料に混合する着色粉体塗装材料の製造方法。 - 特許庁

After that an epitaxial or non-epitaxial layer is attached on the surface of an article 1 and a braze joint section 22 using a laser metal forming process.例文帳に追加

その後、レーザー金属成形法を用いて、物品（１）とろう付け接合部（２２）の表面にエピタキシャル層かあるいは非エピタキシャル層を付ける。 - 特許庁

The present invention discloses a process of depositing a carbon-containing silicon oxide film, or a carbon-containing silicon nitride film having an enhanced etch resistance.例文帳に追加

本発明は、高められたエッチ耐性を有する炭素含有酸化ケイ素膜、または炭素含有窒化ケイ素膜の堆積方法を開示する。 - 特許庁

Besides, by imparting high temperature of ≥ 220°C for six hours or more at the vulcanizing process, the methanol soluble quantity is made ≤ 2.0%.例文帳に追加

さらに加硫工程において２２０℃以上で６時間以上高温を与えることにより、メタノール可溶分量を２．０％以下にすることができる。 - 特許庁

An adaptation decision module (125) differentiates process or sensor upset requiring alerts from new operational states not yet modeled.例文帳に追加

適応決定モジュール（１２５）は、警報を必要とするプロセスまたはセンサの混乱を、まだモデリングされていない新しい動作状態から区別する。 - 特許庁