「processing chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

A processing chamber cooling mechanism 17 which is controlled by interlocking with the loading/unloading mechanism 16 is provided.例文帳に追加

この搬入出機構１６に連動して制御される処理室冷却機構１７が設けられている。 - 特許庁

The vaporized materials are supplied to the processing chamber 22 via a shower head 24 to form a PZT film.例文帳に追加

気化した材料をシャワーヘッド２４を介して処理チャンバ２２に供給してＰＺＴ膜を生成する。 - 特許庁

In the chamber processing room 1, a wafer 2 is conveyed by a conveyance arm 2 and mounted on a lower electrode 3.例文帳に追加

チャンバー処理室１にて、搬送アーム４２によりウエハ２を搬送し、下部電極３上に載置する。 - 特許庁

The substrate processor includes a substrate support part provided in a processing chamber for supporting a substrate, a substrate support part shifting mechanism for shifting the substrate support part, a gas supply part for supplying gas to the processing chamber, an exhaust part for exhausting the gas in the processing chamber, and a plasma generating part provided to face the substrate support part.例文帳に追加

基板処理装置は、処理室内に設けられ、基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部を移動する基板支持部移動機構と、前記処理室にガスを供給するガス供給部と、前記処理室のガスを排気する排気部と、前記基板支持部と対向するように設けられたプラズマ生成部と、を有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device in which presence of an operator in a chamber is surely confirmed.例文帳に追加

作業者がチャンバ内にいるかどうかを確実に把握することのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

There is no temperature gradient in the processing chamber, so refractive indexes and etching rates can be made uniform among the wafers.例文帳に追加

処理室内に温度勾配がないので、ウエハ相互間の屈折率やエッチングレートを均一化できる。 - 特許庁

Micro-waves 32 are introduced in the plasma processing chamber 26, and a magnetic field is formed by a coil 31.例文帳に追加

またプラズマ処理室２６には、マイクロ波３２が導入され、コイル３１によって磁場が形成される。 - 特許庁

The probe includes a light pipe, one end of which is inserted into the processing chamber.例文帳に追加

本発明に係るプローブは、一方の端部が処理チャンバ中に挿入されている光導体を含む。 - 特許庁

The surface of the wafer W is irradiated with an ultraviolet ray of a wavelength of 185 nm in the UV processing chamber 7.例文帳に追加

ＵＶ処理室７では、ウエハＷの表面に波長１８５ｎｍの紫外線が照射される。 - 特許庁

The evaporated HMDS gas can thereby be supplied to a processing chamber while being mixed easily with nitrogen gas.例文帳に追加

このため、気化したＨＭＤＳガスを容易に窒素ガスと混合し、処理室へ供給することができる。 - 特許庁

The substrate processing device comprises a heater 4 for heating a substrate inside a processing chamber 20; the heater is supported via a horizontal alignment unit 39 provided outside the processing chamber via a support member 5; and the position of the heater is adjusted relative to the process chamber by the horizontal alignment unit.例文帳に追加

処理室２０の内部に基板加熱用のヒータ４を有する基板処理装置に於いて、前記ヒータが支持部材５を介して前記処理室外部に設けられた水平位置調整ユニット３９を介して支持され、該水平位置調整ユニットにより前記処理室に対するヒータの位置調整を可能とした。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing apparatus having improved performance in a vertical multi-chamber washing structure.例文帳に追加

垂直多室水洗構造における性能を向上した感光材料処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heating processing apparatus that can start heating a matter to be heated, without raising the temperature of a heating chamber.例文帳に追加

加熱室を昇温することなく被加熱物の加熱を開始できる加熱処理装置を提供する。 - 特許庁

The cleaning processing apparatus 1 has a cleaning processing unit 3 comprising a chamber room 3b in which a chamber 70 is arranged, a utility room 3c in which a solution supply mechanism supplying a processing solution to the chamber 70 and others are mainly arranged, and a wafer transfer room 3a in which a rotor 34 holding wafers is arranged.例文帳に追加

液処理装置の一実施形態である洗浄処理装置１は、チャンバ７０が配設されたチャンバ室３ｂと、チャンバ７０へ処理液を送液する送液機構等が主に配設されたユーティリティ室３ｃと、ウエハＷを保持するロータ３４が配設されたウエハ移載室３ａとからなる洗浄処理ユニット３を有する。 - 特許庁

To detect a moisture content in a processing chamber without using a mass spectrometer such as a quadrupole type mass spectrometer (Qmass).例文帳に追加

Ｑｍａｓｓなどの質量分析装置を用いることなく，処理室内の水分量を検出する。 - 特許庁

A portion holding a member to be processed in a vacuum processing chamber 1 is driven to reciprocate by a scan shaft (vacuum drive shaft) 7, and the scan shaft is led out while penetrating an interconnection opening 6a made in the wall 6 of the vacuum processing chamber and driven by a drive mechanism disposed on the outside of the vacuum processing chamber.例文帳に追加

真空処理室１内で被処理部材を保持している保持部をスキャンシャフト（真空駆動軸）７によって往復動するように駆動し、このスキャンシャフトを真空処理室の壁６に設けた連絡口６ａを貫通させて外部に導出して真空処理室外に配置された駆動機構により駆動する。 - 特許庁

A system relates to the garbage treatment device provided with the garbage storage chamber 2 which stores the garbage 1 and the fermentation/decomposition chamber which accommodates a garbage processing material 3 in which a microorganism is allowed to inhabit, the garbage 1 supplied from the chamber 2 is agitated with the garbage processing material to perform a fermentation/decomposition processing for the garbage 1.例文帳に追加

生ごみ１を貯蔵する生ごみ貯蔵室２と、微生物を生息させた生ごみ処理材３を収容し、生ごみ貯蔵室２から供給される生ごみ１を生ごみ処理材と攪拌して生ごみ１を発酵分解処理する発酵分解室とを具備して形成される生ごみ処理装置に関する。 - 特許庁

Then, the control unit determines whether the rear end of the substrate is detected by an entrance sensor inside a processing chamber.例文帳に追加

次に、制御部は、処理室内の入口センサにより基板の後端が検知されたか否かを判別する。 - 特許庁

Methods for processing a biological sample and methods of making a sample chamber array are also provided.例文帳に追加

生物学的サンプルを処理する方法およびサンプルチャンバアレイを作製する方法もまた提供される。 - 特許庁

To provide a method and a system for introducing a process fluid into a processing system through a chamber component.例文帳に追加

チャンバー部品を介してプロセス流体を処理システムに導入する方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

This also saves the trouble of processing of the chamber 8 so that only one plane needs to be processed.例文帳に追加

更に、それらの接続のためのチャンバ８の加工も、チャンバ８の一面について行うだけで良い。 - 特許庁

To achieve a more exact teaching method without requiring the work for teaching in a processing chamber.例文帳に追加

ティーチングのための処理室内における作業を不要としながら、より正確なティーチングを実現する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for monitoring and controlling a large-area substrate processing chamber.例文帳に追加

大面積基板処理チャンバを監視及び制御する装置及び方法の実施形態を提供する。 - 特許庁

To surely place a substrate 8 on a mount table even if a distance for carrying in and delivery is long in a processing chamber 2.例文帳に追加

処理室２内の搬入出距離が長い場合であっても、基板８を確実に載置台にセットする。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor device includes the steps of carrying-in a wafer 200 into a processing chamber 201, forming an HfO_2 film on the wafer 200 by alternately supplying TEMAH and O_3, under heating, into the processing chamber 201, and carrying-out the wafer 200 from the inside of the processing chamber 201.例文帳に追加

半導体デバイスの製造方法は、ウエハ２００を処理室２０１内に搬入する工程と、ＴＥＭＡＨとＯ_３とを加熱しながら処理室２０１内に交互に供給してウエハ２００にＨｆＯ_２膜を形成する工程と、ウエハ２００を処理室２０１内から搬出する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for fabricating a heating substrate support assembly used in a processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバで使用される加熱基板支持アセンブリを作成するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide an improved gas distribution plate for distributing gas in a processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバ内にガスを分配させるためのガス分配プレートの改善された実施形態を提供する。 - 特許庁

A semiconductor chip 34 serving as a specimen is installed on a cathode electrode 35 in a plasma processing chamber 32.例文帳に追加

試料となる半導体チップ３４を、プラズマ処理室３２のカソード電極３５の上に設置する。 - 特許庁

To perform self-calibration by a probe for measuring the temperature of a substrate inside a substrate processing chamber.例文帳に追加

基板処理チャンバ中の基板の温度を測定するためのプローブで、自己較正ができるようにする。 - 特許庁

The susceptor 2 exposes a surface thereof to the inside of the processing chamber 4 to mount a substrate 8 on the surface.例文帳に追加

サセプタ２は、処理室４の内部に表面が露出し、当該表面に基板８を搭載する。 - 特許庁

To provide an in-vacuum welding processing apparatus which can make a vacuum chamber more compact than before.例文帳に追加

従来よりも真空チャンバを小型化することが可能な真空内溶接処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device effectively cooling a heating source in a vacuum chamber.例文帳に追加

真空室内の発熱源を有効に冷却することができる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

In result, an airflow flowing toward the exhaust vent 90c is uniformly formed inside the processing chamber S.例文帳に追加

その結果，排気口９０ｃへと流れる気流が処理室Ｓ内において均等に形成される。 - 特許庁

A delivering chamber SH over the processing spaces A, B is disposed in a vertical direction.例文帳に追加

処理空間Ａと処理空間Ｂとにわたる受け渡し室ＳＨが上下方向に配置されている。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus, a coating process chamber 21 has an opening 21z formed by a frame including a longitudinal frame Fa.例文帳に追加

塗布処理室２１は、縦フレームＦａを含むフレームにより形成された開口部２１ｚを有する。 - 特許庁

In the installing mechanism 52 of the high vacuum probe 18 of this processing chamber, the high vacuum probe 18 is installed to a processing chamber main body, through an installing piping 56 which is connected to the high vacuum probe at its front end, connected to the processing chamber main body 11 at its base end, and has the third switching valve 54 on the way.例文帳に追加

本処理チャンバの高真空測定子１８の取り付け機構５２は、先端で高真空測定子に接続し、基端で処理チャンバ本体１１に接続し、途中に第３開閉弁５４を有する取り付け配管５６を介して高真空測定子を処理チャンバ本体に取り付けている。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes a controller that performs control so that the transfer chamber 102 connected to a processing chamber 202 for processing a substrate is purged by gas, the controller having a switching unit that switches a function of exhausting the gas in the transfer chamber 102 in one direction, and a function of circulating the gas through the transfer chamber 102 in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

基板の処理を行う処理室２０２に連接される移載室１０２をガスでパージするように制御する制御手段を備えた基板処理装置であって、前記制御手段は、前記移載室１０２内のガスの流れを一方向に排気させる機能と、前記移載室１０２内に不活性雰囲気でガスを循環させる機能と、を切替える切替手段を有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which enhances chemical solution removal effect while making design common in terms of dimensions of a chemical solution processing chamber when performing cleaning processing on a substrate after final chemical solution processing.例文帳に追加

基板に対して最終薬液処理の後に洗浄処理を行う場合に、薬液処理室の寸法上の設計の共通化を達成しつつ薬液除去効果を高めることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To release a stand-by state of an atmospheric type robot by collectively performing necessary preprocessing on a processing chamber used in substrate processing (JOB) at start of the substrate processing (JOB) thereby achieving improved processing throughput of the substrate processing (JOB).例文帳に追加

基板処理(ＪＯＢ)開始時に基板処理で使用される処理室に対して、予め必要と思われる前処理を一括で実施することにより、大気搬送ロボットの待機状態を解消し、基板処理(ＪＯＢ)の処理スループットの向上を図る。 - 特許庁

When processing is carried out in each of processing chambers 23-26, each of the processing chamber 23-26 is enclosed and when a semiconductor device 11 is conveyed among the processing chambers 23-26, respective processing chambers 23-26 are opened.例文帳に追加

各処理室２３〜２６において処理を行うとき、それぞれの処理室２３〜２６は密閉された状態になり、各処理室２３〜２６間において半導体装置１１の搬送を行うとき、各処理室２３〜２６は開放された状態になる。 - 特許庁

To provide a plasma processing system and a plasma processing method by which contamination to an object to be processed can be suppressed and sputtering and etching of the inside wall of a plasma processing chamber be also effectively prevented.例文帳に追加

被処理体に対するコンタミネーションを抑制しつつ、プラズマ処理室内壁のスパッタリングおよびエッチングをも効果的に防止したプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To improve processing efficiency of a sterilizing apparatus (1), to improve a sterilizing performance and to shorten sterilizing time in the sterilizing apparatus (1) for performing sterilizing processing inside a processing chamber (2) by a sterilizing gas.例文帳に追加

滅菌ガスにより処理室（2）内の滅菌処理を行う滅菌装置（1）において、滅菌装置（1）の処理効率を向上させて滅菌性能の向上と滅菌時間の短縮化を図る。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which prevent a substrate in a processing chamber from getting dirty due to contaminants adhered to a nozzle support arm supporting a nozzle.例文帳に追加

ノズルを支持するノズル支持アームに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multiple-chamber semiconductor wafer processing system, which minimizes the foot print of a cluster tool for semiconductor processing, increases the processing output and enables maintenance access.例文帳に追加

半導体処理のためのクラスタツールのフットプリント（使用床面積）を最小限に押え、処理アウトプットを増大させ、メンテナンスのアクセスも可能にする多重チャンバ式半導体処理システムを提供する。 - 特許庁

A CVD apparatus 100 comprises a chamber 1, a material gas supply device 2 for supplying a material gas into the chamber 1 and a waste gas processing device 12 for exhausting a waste gas from the chamber 1.例文帳に追加

ＣＶＤ装置１００は、チャンバー１と、チャンバー１内に原料ガスを供給するための原料ガス供給装置２と、廃棄ガスをチャンバー１内から排出するための廃棄ガス処理装置１２とを備える。 - 特許庁