| 例文 |
processing layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3235件
A support 40 is directly formed on the rear surface 13 of the piezoelectric single crystal substrate and the sacrificial layer 30 by not using a junction processing but using sputter etc.例文帳に追加
圧電単結晶基板の裏面13上及び犠牲層30上に接合処理を用いることなく、スパッタ等を用いて直接的に支持体40を形成する。 - 特許庁
To provide a phase difference film having an optical anisotropic layer reduced in change of optical characteristic before or after saponification processing and fixed in orientation of a liquid crystal composition.例文帳に追加
鹸化処理の前後における光学特性の変動が軽減された、液晶組成物の配向を固定してなる光学異方性層を有する位相差フィルムの提供。 - 特許庁
Also, a tempered part having a tempered structure and hardness of HV 200-300 is formed on an outer layer portion of an unhardened portion by the tempering processing with induction heating.例文帳に追加
また、誘導加熱での調質処理により、調質組織を有し且つ硬さがHV200以上300以下である調質部が、非焼入れ部の外層部分に形成される。 - 特許庁
To sufficiently remove foreign matters adsorbed onto the surface of a top-layer film of a substrate, for example, a resist film after liquid immersion exposure and before development processing.例文帳に追加
液浸露光後、現像処理前において、基板の最上層の膜の表面、例えばレジスト膜の表面に吸着した異物を十分に除去できるようにする。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus in a radio communication system, for processing a protocol error by resetting one side of a radio link control layer, thereby enabling improvement of transmission efficiency.例文帳に追加
無線通信システムにおいて、無線リンク制御レイヤーの片側をリセットすることでプロトコルエラーを処理し、伝送効率を向上させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁
OR data obtained by performing an OR arithmetic processing for all pieces of the slice data of the respective quantitatively offset layers is defined as quantitative offset data of the current layer (steps S25, S26, S27).例文帳に追加
定量オフセットした各層のスライスデータの全部につきOR演算処理を行って得たORデータを、カレント層の定量オフセットデータとする(ステップS25、S26、S27)。 - 特許庁
The oxygen diffusing layer formed on the ceiling part inner surface 21b of the valve lifter 2, is removed by machining, and the surface 21b is finished as a highly accurate processing surface.例文帳に追加
バルブリフタ2の天井部内面21bに形成された酸素拡散層が機械加工等により除去され、該面21bは精度の高い加工面として仕上げられる。 - 特許庁
The electrolyte layer can be formed by a minute processing technique for allowing the formation of a very accurate shape and may be formed by either of selective removal or casting techniques.例文帳に追加
電解質層は、非常に精密な形状を形成できる微細加工技術によって形成でき、選択的除去及び注型技術の何れを用いて形成してもよい。 - 特許庁
To provide an organic thin film transistor including a semiconductor layer assuring comparatively easy composition, higher hole mobility, excellent processing capability, and stability in oxidation under the atmospheric condition.例文帳に追加
合成するのが比較的容易であり、高いホール移動度、良好な加工性および大気酸化安定性を有する半導体層を有する有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁
In two layer tab search processing, an arithmetic unit 2 performs initialization, and adds the value of j(new substation) by one, and sets the value of i(new feeder) to an initial value 0.例文帳に追加
2層タブサーチ処理において、演算装置2は、先ず、初期化を行い、j(新規変電所)の値を1加算し、i(新規フィーダ)の値を初期値0に設定する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a thin polyolefin resin expanded sheet which does not require a processing step such as a surface heat treatment and has a skin layer formed on both sides.例文帳に追加
表面熱処理等の加工工程を必要とせずに、両面にスキン層を有し、かつ厚みの薄いポリオレフィン系樹脂発泡シートを得るための製造方法を提供する。 - 特許庁
Otherwise, after depositing a carbon film on the compression-bonding side of a mold support substrate and forming an uneven pattern in this carbon film, a release layer is formed by fluorine plasma processing.例文帳に追加
あるいはモールド支持基板の圧着面に炭素膜を成膜し、この炭素膜に凹凸パターンを形成した後、フッ素プラズマ処理により離型層を形成する。 - 特許庁
To make it possible to continue business processing without interrupting it even when backup hardware constitution is not formed by effectively utilizing characteristics originally included in a three-layer client-server system.例文帳に追加
3層クライアントサーバシステムが本来的に持つ特徴を有効に利用してバックアップ的なハードウェア構成を設けなくても中断させずに業務処理を行う。 - 特許庁
To obtain a releasing film comprising a biaxial stretched polypropylene film having an excellent processing suitability and heat resistance, in which a resin layer for releasing is formed at least on one surface.例文帳に追加
加工適性、耐熱性に優れた少なくとも片面に離型用樹脂層が形成された二軸延伸ポリプロピレンフィルムからなる離型フィルムを得ることを目的とする。 - 特許庁
These sealing spacers are formed of the same material as that of an insulating layer, a partition wall and a mask spacer or a guide electrode to offer the advantage of processing.例文帳に追加
さらに、これらの封止スペーサーを、絶縁層、隔壁、マスクスペーサーもしくはガイド電極と同じ材料で作成することにより、工程を有利に実施することができる。 - 特許庁
HARDWARE DESIGN, SYSTEM CONSTITUTION AND PROCESSING PROCEDURE FOR IMPROVING PRODUCTIVITY OF SEED LAYER AND ACHIEVING EDGE EXPULSION OF 3 MM FOR COPPER COVERING TREATMENT OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
種層の生産性を向上させると共に半導体ウェーハの銅被覆処理用の3mmの縁部排除を達成するためのハードウェア設計、システム構成及び処理手順 - 特許庁
Selective nitrification processing is carried out to selectively form a charge layer 12 of silicon nitride in a region, corresponding to the electrode film 4, on an inner surface of the through-hole 7.例文帳に追加
次に、選択窒化処理を施し、貫通ホール7の内面のうち電極膜4に相当する領域に、窒化シリコンからなるチャージ層12を選択的に形成する。 - 特許庁
Its manufacturing method comprises laminating the hydrolytic biodegradable resin layer on easy-to-disentangle paper, processing it into a bag shape, and providing the pores therein.例文帳に追加
及び、易ほぐれ性の紙に加水分解性の生分解性樹脂を積層し、袋状に加工し、細孔を穿設する乾燥型生ゴミ処理機用生ゴミ収納袋の製造方法。 - 特許庁
The optical master disk processing liquid is provided for removing the rugged pattern (an inorganic resist layer 3) of the optical master disk 1, the rugged pattern being formed on a substrate 2 with the inorganic resist.例文帳に追加
基板2上に無機レジストにより凹凸パターン(無機レジスト層3)が形成された光ディスク原盤1の凹凸パターンを除去するための光ディスク原盤処理液である。 - 特許庁
Another example includes a method for processing a wafer in a plasma environment, pre-loading a reactive gaseous flow and previously preventing the erosion of a wafer mask or an etching stop layer.例文帳に追加
他の実施例は、プラズマ環境においてウエハを処理し、反応性気体流を事前ロードしてウエハマスクまたはエッチングストップ層の浸食を防ぐ方法を含む。 - 特許庁
The terminal 1 previously stores information associating the degree of characteristics of the terminal 1 with the kind of a modulation/demodulation system in a physical layer protocol processing section 300.例文帳に追加
また、端末1では、当該端末1の特性の度合いと物理層プロトコル処理部300における変復調方式の種類とを関連付ける情報が記憶されている。 - 特許庁
The network apparatus of the present invention includes a CPU which is connected to one or a plurality of medium access control parts for processing a medium access control layer, via a peripheral bus.例文帳に追加
本発明のネットワーク装置は、媒体アクセス制御層の処理を行う1又は複数の媒体アクセス制御部に対し、ペリフェラルバスを介して接続されたCPUを有する。 - 特許庁
A first gate insulating film 4, a conductive layer for a floating gate electrode 5, a silicon nitride film for processing and a silicon oxide film are formed on a silicon substrate 1, and then, trenches 1a are formed.例文帳に追加
シリコン基板1に第1ゲート絶縁膜4、浮遊ゲート電極5用の導電層、加工用のシリコン窒化膜、シリコン酸化膜を形成し、この後トレンチ1aを形成する。 - 特許庁
To manufacture a light-absorbing layer corresponding to a laser light output portion on a resonator surface of a nitride semiconductor laser element by reducing damage from processing.例文帳に追加
窒化物半導体レーザ素子の共振器面に、レーザ光出射部に対応した光吸収層を加工による損傷を軽減して製造することを目的とする。 - 特許庁
To solve the problem that a correct path route of an L2 layer can not be grasped when a state that a packet does not flow continues for a long period, and for a large-scale network, a load of route retrieval processing is large.例文帳に追加
パケットが流れていない状態が長期間続くとL2レイヤの正しいパス経路を把握できず、大規模ネットワークの場合、経路検索処理の負荷が大きい。 - 特許庁
To provide a switchgear in which processing such as casting, or the like, is not required for forming the insulation layer of a main circuit conductor, and withstand voltage performance of the main circuit conductor can be enhanced.例文帳に追加
主回路導体の絶縁層の形成に注型等の加工を必要とせず、また、主回路導体の耐電圧性能を向上することができるスイッチギヤを提供する。 - 特許庁
Respective CPU control sections 20, 30 have INT cards 21, 31, Ether cards 22, 32, Ether card control sections 23, 33 and connection processing layer sections 26, 36.例文帳に追加
各CPU制御部20、30は、INTカード21、31、Etherカード22、32、Etherカード制御部23、33および接続処理階層部26、36を含んでいる。 - 特許庁
To provide an inexpensive inductor device which has superior inductance characteristics, capable of dispensing with secondary processing, such as loosening of a lead wire for the formation of a coil layer, and processed and assembled at a low cost.例文帳に追加
優れたインダクタンス特性を有し、かつコイル層を形成させる導線の解し等の二次加工が不要で、加工・組み立てコストの安価なインダクタ素子を提供する。 - 特許庁
To preform highly reliable discrimination of a layer with simple processing even if multi-layers comprise three or more layers, in an information recording medium of which the information recording layers have multi-layers.例文帳に追加
情報記録層が多層化された情報記録媒体において、多層化数が3層以上になっても簡単な処理で信頼性の高いレイヤーの判別を行うこと。 - 特許庁
To provide a double-sided copper clad laminated sheet for preventing a periphery of a through hole from occurring bulging after solder processing by enhancing an adhesion strength of an interface between a fluoropolymer layer and a glass fiber woven fabric.例文帳に追加
本発明は、フッ素樹脂層とガラス繊維織布との界面の密着強度を上げ、半田処理後にスルーホール周辺部の膨れの発生を無くすことを課題とする。 - 特許庁
The transporting part 1 transports the wafer W between processing parts including the loader/unloader part 6, to perform the processes for forming a metal layer on the wafer W and the heat treatments for the wafer W.例文帳に追加
搬送部1がローダ・アンローダ部6を含む各処理部間でウエハWの搬送を行って、ウエハWに金属層を形成する処理および熱処理が行われる。 - 特許庁
To efficiently perform recovery processing of focus pull-in when the focus pull-in to an information recording layer being a target of an optical disk fails, in an optical disk device.例文帳に追加
光ディスク装置において光ディスクの目標とされる情報記録層へのフォーカス引き込みが失敗した場合に、フォーカス引き込みのリカバリ処理を効率良く行う。 - 特許庁
What is meant by the molten processing is a method that the object is once heated to a temperature at which the low melting-point metal melts but the substrate 60 or the ground coating layer 62 does not, followed by cooling again.例文帳に追加
溶融処理とは、低融点金属は溶融するものの、基板部60や下地コート層62は溶融しない温度で一旦加熱し、再び冷却する処理である。 - 特許庁
The fine particles can be certainly captured by the coating layer having the carbodiimide compound and the peeling-off of the fine particles can be suppressed in a manufacturing method and a next processing process.例文帳に追加
カルボジイミド化合物を有する塗布層により、微粒子を確実に捕捉することができ、製造工程や次の加工工程における微粒子の剥落が抑えられる。 - 特許庁
To provide a method for efficiently manufacturing a tape for wafer processing by peeling an external adhesive layer of a wafer adhesion scheduled section without causing any trouble.例文帳に追加
ウェハ貼合予定部分の外側の接着剤層を剥離する際に問題なく剥離でき、これによりウェハ加工用テープを効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁
Since the message is outputted without going via MAC, a processing for copying the message by a higher layer (processor or the like) of MAC is not required and throughput is not reduced.例文帳に追加
MACを介さずにメッセージを出力するため、MACの上位レイヤ(プロセッサなど)によるメッセージのコピーをおこなう処理は不要となり、処理能力の低下がない。 - 特許庁
The color arrangement information of the microcapsule layer 17 of a display panel 1 is inputted from a color arrangement information recording part 34 to a pixel electric field pattern generation part 33 of a processing device 3.例文帳に追加
処理装置3の画素電界パターン生成部33に、色配置情報記録部34から表示パネル1のマイクロカプセル層17の色配置情報を入力する。 - 特許庁
The particularly-preferred photoresists can exhibit the reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting with the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加
本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。 - 特許庁
To provide a method of processing a wafer in which reformed layers can be formed in a substrate along streets without damaging a device layer formed on a surface of the substrate.例文帳に追加
基板表面に形成されたデバイス層にダメージを与えることなく基板内部にストリートに沿って変質層を形成することができるウエハの加工方法を提供する。 - 特許庁
When the fuse wiring 23 is laser-processed, the target mark 25 included in the same wiring layer is used to perform alignment, thereby enabling a reduction in displacement during processing.例文帳に追加
ヒューズ配線23のレーザ加工の際に、同じ配線層に含まれるターゲットマーク25を用いてアライメントを行なうことにより、加工時の位置ずれを低減することができる。 - 特許庁
The whole surface of the metal plate 40 containing the circuit 60 is subjected to sandblast processing, by which a conductive reaction layer 70 left on the metal-removed part 36a of the circuit 36 is removed.例文帳に追加
その後、回路36を含む全面に対してサンドブラスト処理を行って、回路36の金属除去部分36aに残存する導電性反応層70を除去する。 - 特許庁
Then opening part processing is carried out for a flattening film 64 and a protective insulating film 62, and surface products of titanium as an upper most layer is removed with a surface etching solution.例文帳に追加
その後に平坦化膜64と保護絶縁膜62の開口部処理が行われ、表面エッチング液によって最上層のチタンの表面生成物が除去される。 - 特許庁
Particularly preferred photoresists can exhibits reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加
特に好ましい本発明のフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中にレジスト層に接触する液浸流体中にレジスト物質が漏出するのを低減することを示すことができる。 - 特許庁
The photosetting resin layer is cured by the irradiation with the UV rays in the manner described above and the ozone formed at this time is utilized for the ozone aeration cleaning processing of the conductive substrate.例文帳に追加
この様にして、光硬化樹脂層を紫外線照射で硬化すると共に、その際生成するオゾンを導電性基体のオゾン暴気洗浄処理に利用する。 - 特許庁
A silicon nitride film 18 is formed, after plasma processing surface of a copper wiring 17 with a raw gas, including nitrogen element to form copper nitride layer 24.例文帳に追加
銅配線17上表面を窒素元素を含む原料ガスを用いてプラズマ処理することにより窒化銅層24を形成し、その後、シリコン窒化膜18を形成する。 - 特許庁
Further, the reformed layer is formed by washing the surface of the thin base material plate with a processing liquid mainly made of acid ammonium fluoride and nitric acid.例文帳に追加
薄板母材の表面にその改質層を酸性フッ化アンモニウム及び硝酸を主成分とする処理液で洗浄することにより形成するメタルマスクの製造方法。 - 特許庁
A printing pattern is formed by engraving the polymer layer for laser processing of the laminate by using laser, and the flexography printing plate can be obtained.例文帳に追加
このレーザー加工用積層体のレーザー加工用重合体層の表面をレーザーで彫刻することによって印刷パターンを形成し、フレキソ印刷版とすることができる。 - 特許庁
By irradiating a laser 224 based on the laser irradiation conditions in the laser processing device 202, a via hole is formed in a resin insulation layer of the wiring board 10.例文帳に追加
レーザー加工装置202において、そのレーザー照射条件に基づいてレーザー224を照射することにより、配線基板10の樹脂絶縁層にビア穴を形成する。 - 特許庁
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