| 例文 |
processing layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3235件
Thus, as an element of the group III is restricted to diffuse during a heat processing between the well layer 12 and the barrier layer 11, it is possible to heat-process under a temperature ambience of 700°C to 800°C, and to obtain a high quality semiconductor laser.例文帳に追加
こうして井戸層12と障壁層11の間で、熱処理中にIII族元素が拡散が抑制されるため、700℃〜800℃の温度雰囲気下で熱処理することが可能になり、高品質な半導体レーザを得ることができる。 - 特許庁
To provide a method for stably removing the crosstalk between layers on the signal processing side to solve such a problem that pits or grooves cannot be properly read out, or the like, when air bubbles, gaps, etc., exist on a spacer layer in a multi-layer disk whereon a plurality of recording layers are laminated.例文帳に追加
複数の記録層が積層されている多層ディスクでは、スペーサ層に気泡や隙間等があると、ピットやグルーブを正しく読み取ることができなくなるなどのため、信号処理側で安定に層間クロストークを除去する方法が望まれている。 - 特許庁
To provide a packaging material formed by laminating a sealant film layer, which does not almost bleed various additives at the time of lamination to prevent the generation of bonding failure, and has processing properties such as slip properties, sealability or the like fitted to a use, on a substrate layer.例文帳に追加
積層時に各種添加剤のブリードがほとんどなくて接着不良を起こさず、かつ、用途に合ったスリップ性、シール性などの加工適性を有するシーラントフィルム層を基材層に積層した包装材料を提供することにある。 - 特許庁
The adhesive film for processing a semiconductor wafer in which a bump electrode is formed to protrude from a main surface contains a separation layer and an adhesive layer on a base material tape in this order.例文帳に追加
本発明の半導体ウェハ加工用接着フィルムは、突出電極が主面から突出して形成された半導体ウェハの加工用接着フィルムであって、基材テープ上に分離層及び接着剤層をこの順に有してなることを特徴とする。 - 特許庁
Then, the single crystal silicon thin film 106 is patterned to form an island-like silicon layer 108, and is subjected to thermal oxidation processing in an oxidation atmosphere containing halogen element, thereby obtaining the island-like silicon layer 109 in which trap level and defect are removed.例文帳に追加
次に単結晶シリコン薄膜106をパターニングして島状シリコン層108とした後、ハロゲン元素を含む酸化性雰囲気中で熱酸化処理を行うことで、トラップ準位や欠陥の除去された島状シリコン層109を得る。 - 特許庁
The electrodes E (E1-E6) for capacitor connection are electrically connected to an inner layer electrode of an uppermost wiring layer at a wafer processing process completion stage of the IC chip 12 through rewiring RL formed in a WPP process.例文帳に追加
このコンデンサ接続用の電極E(E1〜E6)は、WPP工程により形成された再配線RLを通じて、ICチップ12のウエハプロセス工程終了段階での最上の配線層の内層電極に電気的に接続されている。 - 特許庁
The difference between growth temperature of a GaInNAs layer and maximum temperature of a thermal hysteresis (processing temperature of an epitaxial growth step and a metallization step) after the GaInNAs layer is grown is closely related to the life of a laser diode.例文帳に追加
GaInNAs層の成長温度と、このGaInNAs層を成長した後の熱履歴(エピタキシャル成長工程およびメタライズ工程における処理温度)における最大温度との差が、レーザダイオードの寿命と密接に関連している。 - 特許庁
To rapidly perform recording or playback to/from a desired layer without performing adjustment processing for correcting aberration such as spherical aberration for each layer in an optical disk device for performing recording or playback of an optical disk having a plurality of recording or playback layers.例文帳に追加
複数の記録又は再生層を有する光ディスクを記録又は再生する装置において、各層毎に球面収差などの収差を補正する調整処理を実施せずに、迅速に所望の層に記録又は再生を行うこと。 - 特許庁
The processing method for the inner layer circuit board used for the multilayer printed board includes a process of roughing by blast the surface of a copper circuit formed on the inner layer circuit board, and consecutively roughing by immersion the surface of a copper circuit using a chemical roughing solution.例文帳に追加
多層プリント配線板に用いられる内層回路基板の処理方法において、内層回路基板に形成された銅回路表面をブラスト粗化、続いて化学粗化液により浸漬粗化する工程を有する内層回路基板の処理方法。 - 特許庁
Two layers of an inert substance layer 28 which is not reactive to the gelatinous substance 21 and the water layer 29 for stabilization as solid-state by-product 30 through reaction with the gelatinous substance 21 are provided within a mixed reaction vessel 33 of the processing apparatus 20.例文帳に追加
処理装置20の混合反応槽33には、ゲル状物質21とは反応しない不活性物質層28と、ゲル状物質21と反応して固体生成物30として安定化させる水層29との二層が備えられている。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus that uses a multi-layered intermediate transfer belt including a conductive layer and a resistance layer capable of securing proper image density, while suppressing toner scatter and formation of an abnormal image due to abnormal discharge in primary transfer processing, and an image forming method.例文帳に追加
トナー飛散と一次転写での放電による異常画像発生を抑え、適正な画像濃度を確保可能な導電層と抵抗層を含む複層の中間転写ベルトを用いた画像形成装置および画像形成方法を提供する。 - 特許庁
To realize a semiconductor device in which a recovery current change ratio dI/dt of a diode can be suppressed to a low value, only by processing to shorten a life time to the entirety of a cathode layer without necessity of aiming at a specific region of the cathode layer.例文帳に追加
カソード層の特定領域を狙う必要がなく、カソード層の全体に対してライフタイムを短くする処理を行うだけで、ダイオードのリカバリー電流変化率dI/dtを小さく押えることができる半導体装置を実現する。 - 特許庁
In this device, resistivity of an elastic layer of roll 5 is set to be the resistivity at which time for movement necessary for charge to move inside the elastic layer of roll 5 is sufficiently shorter than processing time necessary for an arbitrary point on an electrifying roll 2 to pass a discharging range.例文帳に追加
ローラ弾性層5の抵抗率を、そのローラ弾性層5の内部を電荷が移動する電荷移動時間が帯電ローラ2の任意に定めるある点が放電領域を通過するプロセス時間よりも十分に小さくなる抵抗率にする。 - 特許庁
A manufacturing method for the vertical array type liquid crystal alignment layer according to the present invention includes a step of supplying a substrate 11 to a chamber 10, a step of forming a film 12 on the substrate 11, and a step of forming the vertical array type alignment layer by processing the film with plasma 13.例文帳に追加
本発明は基板11をチャンバ10に提供するステップと、フィルム12を該基板11上に形成するステップと、プラズマ13で該フィルムを処理して垂直配列型液晶配向層を形成するステップとを備えてなる。 - 特許庁
The stainproof optical film is obtained by treating one side of a transparent resin film having ≥30 μm and ≤60 μm thickness with a solvent, providing the other side with a hard coat layer and subjecting the surface at the hard coat layer side to stainproof processing.例文帳に追加
厚さ30μm以上60μm以下の透明樹脂フィルムの一方の面を溶剤処理した後、他方の面にハードコート層を設け、ハードコート層側の最表面に防汚加工をなしたことを特徴とする防汚性光学フィルム。 - 特許庁
Then, an ultraviolet ray setting resin layer is arranged on a surface on the opposite side of the electrode formation surface of the cleaned piezoelectric single crystal wafer, an exposure and development processing is executed to the ultraviolet ray setting resin layer and a hole pattern corresponding to a desired recess is formed.例文帳に追加
次いで、洗浄後の圧電単結晶ウェーハの電極形成面と反対側の面に、紫外線硬化型樹脂層を配置し、この紫外線硬化型樹脂層に露光、現像処理を施して、所望の凹部に応じた穴パターンを形成する。 - 特許庁
When constructing a marine structure 10 such as an existing breakwater as the partitioned revetment of a waste disposal place, improvement processing is applied to a water permeable layer such as an upper sedimentation layer 3 of the seat bottom ground 1 so as to become the water impermeable ground.例文帳に追加
既設の防波堤等の海洋構造物10を、廃棄物処分場の仕切護岸として構築するに際して、海底地盤1の上部の堆積層3のような透水層に対して、不透水性地盤となるように改良処理を施工する。 - 特許庁
The manufacturing method of the divided wavelength plate filter includes a process for printing a material layer 9 serving as a divided wavelength plate 208 with a predetermined division pattern with a double refraction liquid crystal polymer and a process for orientation-processing the double refraction liquid crystal polymer layer.例文帳に追加
分割波長板208となる材料層9を複屈折液晶ポリマーによって所定の分割パターンに印刷する工程と、この複屈折液晶ポリマー層を配向処理する工程とを有する、分割波長板フィルターの製造方法。 - 特許庁
The cross-layer management section 6 exchanges information, requests, and instructions or the like with each of the layers 1 to 4 in response to requests from each of the layers 1 to 4 via the information transmission section 5 to manage cross-layer processing between and among the layers 1 to 4.例文帳に追加
クロスレイヤ管理部6は、情報伝達部5を介して受けたレイヤ1〜4の各々からの要求に応じて、レイヤ1〜4の各々と情報、要求および指示等のやり取りを行ない、レイヤ1〜4間におけるクロスレイヤ処理を管理する。 - 特許庁
In the emboss processing means 30, the sheet-like material is laminated on the embossing mold release paper on which the thermosetting resin layer 3 is formed and pressed to the embossing processing mold release paper to apply the embossed pattern to the sheet-like material.例文帳に追加
エンボス加工手段30は、熱硬化性樹脂層3が形成されたエンボス加工用離型紙上にシート状材料を積層し、当該シート状材料をエンボス加工用離型紙側に押圧することによりシート状材料にエンボス模様を施す。 - 特許庁
To provide a single layer sugar-coated tablet which does not need such a skill as required for ordinary sugar-coating processing and has very economxcally advantageous points such as the reduction in a sugar-coating material and the shortage of processing time, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
通常の糖衣加工において要求されるような熟練が不要であり、しかも糖衣材料の減量や加工時間の短縮が図れるなど経済的に非常に有利な単層糖衣錠及びその製造方法の提供。 - 特許庁
In a method for processing the transparent gas barrier film wherein a ceramics layer is provided on at least the single surface of a plastic film, a processing condition is set so that the dimensional change ratio of the plastic film becomes ±2% or less.例文帳に追加
プラスチックフィルムの少なくとも片面にセラミックス層を設けた透明ガスバリアフィルムの加工方法であって、プラスチックフィルムの寸法変化率が±2%以下となるような加工条件で行うことを特徴とする透明ガスバリアフィルムの加工方法。 - 特許庁
When a host layer section 4 outputs a link setting request to the protocol processing section 3, the protocol type discrimination frame transmission section 5 conducts frame transmission for discriminating a protocol type from the protocol processing section 3 via the protocol type discrimination frame transmission section 5.例文帳に追加
上位レイヤ部4がリンク設定要求をプロトコル処理部3に出した場合、プロトコル処理部3からプロトコル種別判定フレーム送信部5を介してプロトコル種別判定のフレーム送信をプロトコル種別判定フレーム送信部5が行う。 - 特許庁
The etching method includes the steps of: placing the wafer having the APF layer in a processing chamber provided with a power supply operating at approximately 162 MHz; supplying a processing gas to the chamber; applying a source power with the use of the 162 MHz power supply; and applying a bias power to the wafer.例文帳に追加
APF層を有するウェハを約162MHzで作動する電源を備えた処理チャンバ内に設置し、処理ガスをチャンバに供給し、162MHz電源を用いてソース電力を印加し、バイアス電力をウェハに印加することを含む。 - 特許庁
In the solar battery module, there are performed continuously a processing for forming a resin film 2 made of fluororesin on the surface of the side of the light-receiving surface of a solar battery element and a processing for so further temporarily laminating a sheet-form EVA thereon as to form an adhesive layer 3.例文帳に追加
太陽電池モジュールにおいては、太陽電池素子の受光面側表面にフッ素樹脂からなる樹脂膜2が形成される処理と、さらにシート状のEVAを仮ラミネートして接着層3を形成する処理とが連続的に行われる。 - 特許庁
A frame generating section 1 converts received information into a format which a protocol processing section 3 can interpret and converts a frame received from the protocol processing section 3 via a protocol type discrimination frame transmission section 5 into a format of a physical layer.例文帳に追加
フレーム生成部1は、受信した情報をプロトコル処理部3が解釈できるフォーマットに変換するとともに、プロトコル処理部3からプロトコル種別判定フレーム送信部5を介して受信したフレームを物理レイヤのフォーマットに変換する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can easily form a contact connected to a pattern of a processing film on an upper layer of the pattern of the processing film serving as a line-and-space pattern less than an exposure resolution limit of the photolithography method.例文帳に追加
フォトリソグラフィ法の露光解像限界未満のラインアンドスペースパターンとなる被加工膜のパターンの上層に、その被加工膜のパターンと接続するコンタクトを容易に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
An IP packet is caused to conduct only the simple processing of a low-order layer without conducting routing reference and the processing of a network level in a congested router being an object then, congestion is made to subside by immediately transferring the packet to the other normal router.例文帳に追加
対象となる輻輳ルータ内でIPパケットに対して、ルーチング参照やネットワークレベルの処理行うことなく、低位レイヤの簡易的な処理のみを行わせて、他の正常なルータに即時転送させることで、輻輳を鎮静化させる。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus and an image processing method by which good color display is possible even if a reversible image display medium is used which has a photosensitive layer containing a photochromic compound having absorption in a visible light region in a decolorized state.例文帳に追加
消色状態において可視光領域に吸収を持つフォトクロミック化合物を含む感光層を有する可逆画像表示媒体を用いても良好なカラー表示が可能な画像処理装置及び画像処理方法の提供。 - 特許庁
Thus, the system analysis support device creates information for determining a message of the batch processing using a feature of an object of the batch processing such that the rate of existence of a parent increases as the occupancy of the immediately upper layer protocol increases.例文帳に追加
このように、システム分析支援装置は、直上層のプロトコルの占有率の増加に伴って親が存在する割合が増加するというバッチ処理のオブジェクトの特徴を利用して、バッチ処理のメッセージを判別するための情報を作成する。 - 特許庁
To provide a heat-developed image forming method in which stable photographic performance is ensured by processing with an automatic heat processing machine independently of the situation of the image forming layer of a heat developable photosensitive material conveyed and any conveying method may be adopted after exposure.例文帳に追加
搬送される熱現像感光材料の画像形成層の向きの如何に拘わらず、自動熱現像機で処理して安定な写真性能が得られ、露光後の搬送方法を選ばない熱現像画像形成方法を提供する。 - 特許庁
The rice bran powder produced when carrying out the processing treatment of the wash-free rice, and the byproduct comprising the outermost layer of the albumen are saccharified by an enzyme to provide a solution having a high viscosity, and coating the surface of a rice grain subjected to a processing treatment for the wash-free rice, with the resultant solution.例文帳に追加
無洗米加工処理の際に生じる糠粉及び胚乳最外層からなる副産物を、酵素により糖化して粘度の高い溶液を作成し、この溶液を無洗米加工処理した米粒表面にコーティングする。 - 特許庁
In executing a transmission request of an ACK DLLP to a transmission control section 220, an ACK/NAK processing section 230 in this data-link layer processing circuit 113 can impart high priority or low priority to the transmission request.例文帳に追加
データリンク層処理部113におけるACK/NAK処理部230は、送信制御部220に対してACK DLLPの送信要求を行う際に、該送信要求に対して高優先順位または低優先順位を付与可能である。 - 特許庁
The specified reference data are transferred form the data transfer unit 20 in the top layer to the respective image processing units 22 along the tree structure and the image processing units 22 process the image in parallel while referring to the reference data.例文帳に追加
そして、上記特定された基準データをツリー構造に沿って最上位層のデータ転送ユニット20から各画像処理ユニット22に転送して、その基準データを参照しながら各画像処理ユニット22は並列に画像処理を行う。 - 特許庁
A relay processing means of the network relaying system executes relay processing for relaying data containing the address of the data link layer of the terminal device between the first and a second networks, when the connection request from the terminal device is authenticated.例文帳に追加
ネットワーク中継システムの中継処理手段は、端末装置からの接続要求が認証されている場合に、端末装置のデータリンク層のアドレスを有するデータを、第1のネットワークと第2のネットワーク間で中継する中継処理を行う。 - 特許庁
The layer-1 processing part inputs information from the CME 42 and L3E 14 by a calling request and its internal B-channel control part connects a B channel for communication to communicate after connecting a B channel for call control and completing the call processing.例文帳に追加
発呼要求によるCME42及びL3E41からの情報をレイヤ1処理部は入力し、内部のBチャネル制御部で呼制御用Bチャネルを接続し呼処理を完了した後通信用Bチャネルを接続して通信を行う。 - 特許庁
Resin which is unaltered even when exposed to water or oil is formed on a wire as a resin layer formed on the wire surface, so as to exert a more effective electric discharge performance and improve processing speed and processing face properties of a workpiece.例文帳に追加
ワイヤ表面に形成する樹脂層としては、水や油に曝されても「変質」しない樹脂をワイヤ上に形成することで、より効果的な放電性能を発揮し、加工速度の向上及び被加工物の加工面性状の良好化が図れる。 - 特許庁
This adsorbing resin panel 1 is sucked and fixed on the surface plate of the NC processing machine so that the soft resin panel 3 is turned upwardly and the processing material W is pressed to the surface 31 of the soft resin layer 3 of the adsorbing resin panel to be sucked and fixed thereon.例文帳に追加
この吸着性樹脂板1をNC加工機の定盤に軟質樹脂層3を上向きに吸引固定して、この吸着性樹脂板1の軟質樹脂層3の表面31に加工材料Wを押しつけて吸着固定させる。 - 特許庁
This external shape processing is executed within an external shape processing gap c that is smaller than the adequate gap predetermined on the basis of material and thickness of the metal core 11 and is larger than the adequate gap predetermined on the basis of material and thickness of the insulating layer 21a.例文帳に追加
この外形加工を、メタルコア11の材質及び厚さに基づいて定められる適正隙間よりも小さく、絶縁層21aの材質及び厚さに基づいて定められる適正隙間よりも大きい外形加工隙間cで行う。 - 特許庁
To provide a method for stably processing the entire region of a photosensitive material, in particular, stably even in a high temperature environment in a processing method including a step of applying a developing solution on a photosensitive material having at least one photosensitive layer.例文帳に追加
少なくとも1層の感光層を有する感光材料に現像液を塗布する工程を含む処理方法に於いて、感光材料の全領域をより安定に、特に高温環境下においても安定に処理できる方法を提供すること。 - 特許庁
A device is provided with a microcomputer 2, which performs information processing corresponding to a transaction layer of IEEE 1394 standards, and a LINK-IC 4 which performs corresponding processing of a link layer of IEEE 1394 standards and performs setting of a transaction response from the outside to a register and the value change of the register in accordance with designation from the microcomputer 2.例文帳に追加
IEEE1394規格のトランザクションレイヤに対応する情報処理を行うマイクロコンピュータ2と、IEEE1394規格のリンクレイヤの対応する処理を行い、レジスタに対する外部からのトランザクション応答と当該レジスタの値変化についての設定を、マイクロコンピュータ2からの指定に応じて行うLINK−IC4とを有する。 - 特許庁
This method for manufacturing an electrode comprises a cutting process to cut an electrode sheet where an active substance containing layer is formed on a collector, and to obtain an electrode element body as a portion of the electrode sheet and a heating/pressurization processing process to operate heating/pressurization processing to at least the peripheral edge of the active substance containing layer in the electrode element body.例文帳に追加
集電体上に活物質含有層が形成された電極シートを切断して、電極シートの一部である電極素体を得る切断工程と、電極素体における活物質含有層の少なくとも周縁部に加熱加圧処理を施す加熱加圧処理工程と、を含むことを特徴とする電極の製造方法。 - 特許庁
To provide an improved neat construction method and a pavement body having a surface processing layer obtained thereby capable of constructing the surface processing layer, small in restriction during construction, good in construction efficiency even in the case that it is applied to either of a newly provided and existing pavement faces, small in the separation of aggregate and superior in durability.例文帳に追加
施工時の制約が少なく、新設並びに既設いずれの舗装面に適用されても施工効率が良く、しかも、骨材の剥離が少なく耐久性に優れた表面処理層を構築することができる改良されたニート工法と、それによって得られる表面処理層を有する舗装体を提供することを課題とする。 - 特許庁
As for the electrophotographic photoreceptor constituted by applying at least an under coating layer and a photoreceptive layer to the conductive supporting body, the supporting body is obtained by performing blast processing or grinding processing on a non-cutting tube, and its surface roughness is 2.0 to 5.0 μm as Rmax and 0.1 to 0.5 μm as Ra.例文帳に追加
導電性支持体上に少なくとも下引き層及び感光層を塗布してなる電子写真感光体において、前記支持体は無切削管にブラスト処理或いは研磨処理を施されており、その表面粗さがRmaxで2.0〜5.0μmかつRaで0.1〜0.5μmであることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
The image processing system 1 displays a preview image on the basis of image data after the RIP, receives selection of a color adjustment region being an object of color adjustment and of a color conversion coefficient corresponding to desired color adjustment, generates a color adjustment layer for specifying the color adjustment processing, and applies color adjustment to the image data in response to a generated color adjustment layer.例文帳に追加
画像処理システム1は、RIP後の画像データに基づいてプレビュー画像を表示し、色調整の対象となる色調整領域及び所望の色調整に対応した色変換係数の選択を受け付け、色調整処理を規定する色調整レイヤを生成し、生成された色調整レイヤに応じて画像データに色調整を施す。 - 特許庁
The data synchronization processing device 10 is equipped with: a tag information detection means for detecting tag information for correlating the data stream stored in each picture layer of the video stream; and a synchronization processing means for causing data of the data stream to synchronize with each picture layer of the video stream on the basis of the tag information detected by the tag information detection means.例文帳に追加
また、データ同期処理装置10は、ビデオストリームのピクチャレイヤ毎に記憶されたデータストリームと関連付けるためのタグ情報を検出するタグ情報検出手段と、タグ情報検出手段により検出されたタグ情報に基づいて、ビデオストリームの各ピクチャレイヤにデータストリームのデータを同期させる同期処理手段と、を備えている。 - 特許庁
Since the organic resin layer is formed by dispersing the subphase comprising a resin excellent in local bending processability in the main phase comprising a resin satisfying general processability such as rivet processing, score processing or the like, excellent local bending processability is obtained almost without damaging general processability when the organic resin layer is adapted to an easy open end type can lid material.例文帳に追加
有機樹脂層が、リベット加工やスコア加工などの一般加工性を満足する樹脂からなる主相に、局部曲げ加工性に優れた樹脂からなる副相を分散させたものとしたため、イージーオープンエンドタイプの缶蓋材に適用した場合に、一般加工性をほとんど損なうことなく、優れた局部曲げ加工性が得られる。 - 特許庁
To provide a method for inspecting a clad layer formed by laser clad processing for inspecting even the flaw caused by hard particles being internal quality other than a surface flaw such as a crack or a pinhole without performing cutting with respect to the clad layer formed by the laser clad processing performed with respect to a part made of pig iron and enhancing inspection quality.例文帳に追加
鋳鉄製の部品に対して行われるレーザクラッド加工によって形成されたクラッド層について、切断を行うことなく、割れやピンホール等の表面的な欠陥のほか、内部品質である硬質粒子による欠陥についても検査することができ、検査品質を向上することができるレーザクラッド加工によるクラッド層の検査方法を提供する。 - 特許庁
This method for processing a semiconductor compries a process for forming a first insulating film (24) containing silicon on the surface of a GaN system semiconductor layer (20) and a process for removing the first insulating film (24) formed on the surface of the GaN system semiconductor layer (20), and a semiconductor device and its manufacturing method are provided with this method for processing a semiconductor.例文帳に追加
本発明は、GaN系半導体層(20)の表面にシリコンを含有する第1絶縁膜(24)を形成する工程と、GaN系半導体層(20)の表面に形成された第1絶縁膜(24)を除去する工程と、を有することを特徴とする半導体の処理方法、半導体装置およびその製造方法である。 - 特許庁
In this plasma processing method, after the film containing the magnetic material (magnetized free layer 33) is subjected to the etching process, processing is carried out for exposing the film containing the magnetic material (magnetized free layer 33) subjected to the etching process into the plasma atmosphere of a gas mixture having a gas containing hydrogen gas or at least hydrogen atoms and also having oxygen gas or nitrogen gas.例文帳に追加
磁性体材料を含む膜(磁化自由層33)をエッチング加工した後、水素ガスもしくは少なくとも水素原子を含むガスを有するとともに酸素ガスもしくは窒素ガスを有する混合ガスのプラズマ雰囲気中にエッチング加工した磁性体材料を含む膜(磁化自由層33)をさらす処理を行うプラズマ処理方法である。 - 特許庁
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