「processing layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the efficiency of print processing with the transmitting processing load of an application layer lessened by performing a data transmitting concerning a print job, etc. below a transport layer.例文帳に追加

トランスポート層以下でプリントジョブ等に係るデータ転送を行うことで、アプリケーション層の転送処理負荷を少なくし、プリント処理の効率を向上させる。 - 特許庁

The polyester laminated film wherein emboss processing is applied to the surface of the layer (A) is preferable.例文帳に追加

又（Ａ）層側の表面にエンボス加工を施したものが好ましい。 - 特許庁

The vertical component is subjected to DCT processing at a vertical layer DCT section 130 and then subjected to bit plane VLC processing at a vertical layer bit plane VLC section 132.例文帳に追加

垂直成分は、垂直レイヤＤＣＴ部１３０でＤＣＴ処理された後、垂直レイヤビット平面ＶＬＣ部１３２でビット平面ＶＬＣ処理される。 - 特許庁

The diagonal component is subjected to DCT processing at a diagonal layer DCT section 136 and then subjected to bit plane VLC processing at a diagonal layer bit plane VLC section 138.例文帳に追加

対角成分は、対角レイヤＤＣＴ部１３６でＤＣＴ処理された後、対角レイヤビット平面ＶＬＣ部１３８でビット平面ＶＬＣ処理される。 - 特許庁

OXIDE FORMING METHOD, OXIDE LAYER GROWTH METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD例文帳に追加

酸化物形成方法、酸化物層成長方法および基板加工方法 - 特許庁

The layer-1 processing section 202 determines a modulation scheme for the divided data to be next transmitted in accordance with line quality and notifies the layer-2 processing section 203 of the modulation scheme.例文帳に追加

レイヤ１処理部２０２は、次に送信される分割データに対する変調方式を、回線品質に応じて決定し、レイヤ２処理部２０３に通知する。 - 特許庁

Using processing from above the masking layer 21, selective processing is performed on an exposed surface exposed from the opening pattern 21a of the masking layer 21.例文帳に追加

マスキング層２１の上方からの処理により、マスキング層２１の開口パターン２１ａから露出する露出面に対して選択的な処理を施す。 - 特許庁

Meanwhile, when the decided data identifier is not a specific data identifier, the protocol is processed for the layer N in a protocol processing step 103, and then the processing of the layer N is finished.例文帳に追加

一方、判定したデータ識別子が特定のデータ識別子ではなかった場合には、レイヤ（Ｎ）プロトコル処理ステップ103を行い、レイヤ（Ｎ）処理を終了する。 - 特許庁

SOLIDIFYING MATERIAL INJECTION CONTROL METHOD IN MECHANICALLY AGITATING DEEP LAYER MIXING PROCESSING WORK例文帳に追加

機械攪拌式深層混合処理施工における固化材注入管理方法 - 特許庁

To obtain an MAC processing technique which provides a high throughput system by connecting a high-order layer to a physical layer.例文帳に追加

高位の層を物理層に接続し高スループットシステムを提供するためのＭＡＣ処理技術の提供。 - 特許庁

To improve the property of an element and reduce processing manhours by enabling the transfer of an electrode layer and an organic layer at the same time.例文帳に追加

電極層と有機層を同時に転写可能とし、素子特性の向上とプロセス工数の低減を画る。 - 特許庁

The resist pattern is transferred to the mask material layer 142 by processing the mask material layer using reactive dry etching.例文帳に追加

反応性ドライエッチングによってマスク材料を加工することにより、レジストパターンをマスク材料１４２に転写する。 - 特許庁

To provide a low-permittivity dielectric layer which is has satisfactory adhesive property to a conductive layer and is easy to processing.例文帳に追加

導電層への良好な接着性を有し、処理が容易な、低誘電率誘電体層を提供する。 - 特許庁

MULTILAYER PRINTED-WIRING BOARD, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, PROCESSING METHOD FOR INNER LAYER SUBSTRATE, AND INNER LAYER SUBSTRATE例文帳に追加

多層プリント配線板の製造方法、内層回路基板の処理方法及び多層プリント配線板、内層回路基板 - 特許庁

After forming a protective layer, it is desirable to form the lubricant layer after performing oxidation processing to the surface.例文帳に追加

また、保護層を形成後、その表面に酸化処理を施した後に潤滑剤層を形成することが好ましい。 - 特許庁

A layer information filter part 2123 performs low pass filter processing to the interpolation layer information to output the degree of impact.例文帳に追加

レイヤ情報フィルタ部２１２３は、補間レイヤ情報にローパスフィルタ処理を施して影響度を出力する。 - 特許庁

In this manner, when there is a possibility of the HDDVD layer, it attempts to search for the HDDVD layer, and shifts to the processing of the HDDVD layer.例文帳に追加

これにより、可能性があるとされると、ＨＤＤＶＤ層に対するサーチ試行を行い、ＨＤＤＶＤ層に対する処理に移行する。 - 特許庁

The first layer of a resin layer 103 adheres to the second surface of a wiring layer 102 by the first heating processing at a first temperature.例文帳に追加

第１の温度における第１の加熱処理によって、樹脂層１０３の第１の層が、配線層１０２の第２の面に付着される。 - 特許庁

The substrate layer, separately from the functional layers that are attached to the plastic layer and the cover layer, is subsequently available for separate further processing.例文帳に追加

基板層は、プラスチック層とカバー層とに取り付けられる機能層から切り離されて、その後別の更なる処理のために使用可能である。 - 特許庁

This seamless transfer belt has a base material layer and a surface layer, and the base material layer is formed of a rubbery elastic body layer and a fiber layer and is manufactured by topping processing and the surface layer is formed of thermoplastic resin.例文帳に追加

基材層及び表面層とを備え、前記基材層はゴム状弾性体層と繊維層とをトッピング加工により形成したものであり、前記表面層は熱可塑性樹脂にて形成したものであるシームレス転写ベルトとする。 - 特許庁

INVISIBLE INFORMATION DISPLAY LAYER, INVISIBLE INFORMATION CARRIER, INVISIBLE INFORMATION PROCESSING SYSTEM AND INVISIBLE INFORMATION PROCESSING METHOD例文帳に追加

不可視情報表示層、不可視情報担持物体、不可視情報処理システムおよび不可視情報処理方法 - 特許庁

An ONU 20 comprises a light transmission/reception section 22; a PON function processing section 24; and a physical layer processing section 26.例文帳に追加

ＯＮＵ２０は、光送受信部２２とＰＯＮ機能処理部２４と物理レイヤ処理部２６とを備えている。 - 特許庁

To provide a processing method which avoids present inefficient processing techniques of page borders in a background layer.例文帳に追加

背景レイヤにおける、現在の非効率的なページ境界部の処理技術を回避する処理方法を提供する。 - 特許庁

The emboss processing apparatus 10 is equipped with a thermosetting resin layer-forming means 20 and an emboss processing means 30.例文帳に追加

エンボス加工装置１０は、熱硬化性樹脂層形成手段２０と、エンボス加工手段３０とを備えている。 - 特許庁

In a first layer reduction processing circuit 110, input image data Vin are input by one line units, a first layer reduction processing is applied to the input image data Vin, and first layer reduction processing data D1 are calculated.例文帳に追加

第１層ダウン処理回路１１０は、図１に示すように、入力画像データＶｉｎが１ライン単位で入力され、入力画像データＶｉｎに対して第１層ダウン処理を行い、第１層ダウン処理データＤ１を算出する。 - 特許庁

To perform broadband optical signal processing without being restricted by electric signal processing speed of a router, a switch, etc. which perform IP layer processing.例文帳に追加

ＩＰレイヤ処理を行うルータ、スイッチ等の電気信号処理速度の制限を受けることなく、広帯域の光信号処理を行うこと。 - 特許庁

An electronic document creation device is configured to, when the same attributes as the attributes of a layer in the processing object page of an original electronic document are not stored in a layer attribute DB 601, add the pertinent attributes to the layer attribute DB 601, and to analyze OBJ in the layer in the processing object page of the original electronic document.例文帳に追加

元の電子文書の処理対象のページにおけるレイヤーの属性と同一の属性がレイヤー属性ＤＢ６０１に記憶されていない場合に、当該属性をレイヤー属性ＤＢ６０１に追加する。 - 特許庁

INDOOR MIXING TEST METHOD FOR DEEP-LAYER MIXING PROCESSING CONSTRUCTION OF SANDY SOIL例文帳に追加

砂質系地盤の深層混合処理工法のための室内配合試験法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING TIMESTAMP USING SIGNATURE INFORMATION ON PHYSICAL LAYER例文帳に追加

物理層においてシグネチャ情報を利用したタイムスタンプ処理装置及び方法 - 特許庁

Furthermore, after the capacitor is subjected to this processing, a coating layer is formed thereon.例文帳に追加

さらに、前記処理の後、コーティング層が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

BAG PRODUCED BY FORMING AND PROCESSING MULTI-LAYER FILM, AND PACKING MATERIAL FOR CERAMIC CHIP CONDENSER例文帳に追加

多層フィルムを成形加工した袋及びセラミックチップコンデンサー用包装材料 - 特許庁

The secrecy processor performs secrecy processing in a MAC layer of a mobile communication system.例文帳に追加

秘匿処理装置は、移動通信システムのＭＡＣレイヤで秘匿処理を行う。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR LINK AND MEDIA ACCESS CONTROL LAYER PROCESSING START PROCEDURE例文帳に追加

リンクおよびメディア・アクセス制御層処理始動手順用のシステムおよび方法 - 特許庁

The processing layer 3 is processed into the shape corresponding to the lens surface with high precision.例文帳に追加

加工層３はレンズ面に対応する形状に高精度に加工されている。 - 特許庁

The method has a step of sticking and forming a base metal layer 14 um on the processing jig 25 (base layer forming step), a step of stacking a substrate insulating resin layer 14a and a first conductor layer 14b and the like as the printed wiring board materials MAT (material stacking step), and a step of applying processing treatment (processing treatment step).例文帳に追加

加工用治具体２５に下地金属層１４ｕｍを貼り付けて形成した（下地層形成工程）後、プリント配線板材料ＭＡＴとしての基板絶縁樹脂層１４ａおよび第１導体層１４ｂなどを積層（材料積層工程）し、加工処理を施す（加工処理工程）。 - 特許庁

The layer-1 processing part 40 mainly performs control over a layer 1, etc., and the L3E 41 controls a call by sending and receiving messages and serves like an interface between the layer-1 processing part 40 and CME 42.例文帳に追加

レイヤ１処理部４０は主にレイヤ１の制御等を行い、Ｌ３Ｅ４１はメッセージの授受を通じて呼の制御を行うと共に、レイヤ１処理部４０とＣＭＥ４２とのインターフェイス的役割を担う。 - 特許庁

To provide a surface layer detecting apparatus, a plasma processing apparatus, and a surface layer detecting method that quantitatively detect a layer formed on the surface of a body to be detected during processing using plasma.例文帳に追加

被検出物の表面にプラズマによる処理中に形成された層を定量的に検出することのできる表面層検出装置、プラズマ処理装置および表面層検出方法を提供する。 - 特許庁

In the region where the images are superposed, a resist mask for processing a (p) layer or an (n) layer of a top layer is selectively formed.例文帳に追加

そして、上記像が重ね合わされた領域に、最上層のｐ層或いはｎ層の形状を加工するためのレジストマスクを選択的に形成する。 - 特許庁

In the method, first, the substrate having a dielectric layer and mask layer covering the dielectric layer being with a pattern formed is located on a plasma processing system.例文帳に追加

この方法においては、まず、誘電体層と、パターンが形成され該誘電体層を覆うマスク層とを有する基板がプラズマ処理システムに配置される。 - 特許庁

An etching mask for forming a pattern of a processing target layer such as a conductive layer and a semiconductor layer is produced without using a lithographic technique employing a photoresist.例文帳に追加

導電層、半導体層等の被加工層をパターン形成するためのエッチングマスクを、フォトレジストを用いたリソグラフィー技術を用いることなく作製する。 - 特許庁

After the surface of a silicon wafer made of single crystal is ground and a processing altered layer is formed on a wafer surface layer, the altered layer is irradiated with high-energy light to be fused, and solidified.例文帳に追加

単結晶のシリコンウェーハの表面を研削し、ウェーハ表層に加工変質層を形成後、変質層を高エネルギ光の照射で溶融、固化する。 - 特許庁

To provide a method for processing an anti-staining layer of an optical article permitting treatment for regenerating the anti-staining layer, for the optical article on which the anti-staining layer is already formed.例文帳に追加

防汚層が形成済みの光学物品に対し、防汚層の再生処理を可能とする光学物品の防汚層処理方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor layer 16 is subjected to plasma processing using gas containing a dopant to increase an impurity concentration of a surface layer 18 of the semiconductor layer 16.例文帳に追加

半導体層１６に対して、ドーパントを含有するガスによるプラズマ処理を行って、半導体層１６の表層１８の不純物濃度を高める。 - 特許庁

A nickel silicide layer is formed and an unreacted nickel layer is removed by applying lamp annealing processing, and a hard mask 9 is formed on the nickel silicide layer.例文帳に追加

ランプアニール処理を施すことにより、ニッケルシリサイド層が形成され、未反応のニッケル層が除去されて、ニッケルシリサイド層上にハードマスク９が形成される。 - 特許庁

An Si layer and an SiGe layer are formed on the same substrate, and the SiGe layer is selectively removed by etching using fluoro-nitric acid processing within three minutes.例文帳に追加

Ｓｉ層とＳｉＧｅ層とを同一基板上に形成し、３分以内の時間内でＳｉＧｅ層をフッ硝酸処理にて選択的にエッチング除去する。 - 特許庁