「processing layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

By applying a photosensitive negative resist material that becomes an intermediate layer resist film and applying similar exposure processing and development processing, a portion of a non-crosslinked intermediate layer resist material film is removed while leaving the crosslinked intermediate layer resist film 4b.例文帳に追加

中間層レジスト膜となる感光性のネガ型のレジスト材料を塗布し、同様の露光処理と現像処理を施すことにより、架橋した中間層レジスト膜４ｂを残して、未架橋の中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 - 特許庁

The controller is coupled between the first physical layer processing device 120 and the second physical layer processing device 130, receives a device response signal, and sends the device request signal having a first predetermined frequency.例文帳に追加

コントローラは第一物理層処理装置１２０と第二物理層処理装置１３０との間に結合され、装置応答信号を受信し、第一所定周波数を有する装置リクエスト信号を送信する。 - 特許庁

The terminal 1 includes a TCP processing section 120 for processing a protocol higher than a network layer, and a device driver section 110 arranged corresponding to a data link layer for controlling a radio communication device 2.例文帳に追加

端末装置１は、ネットワーク層以上のプロトコルを処理するＴＣＰ処理部１２０と、データリンク層と対応して設けられ、無線通信装置２を制御するデバイスドライバ部１１０とを備える。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which a hole in an excellent vertical processing shape is formed in a mask layer while preventing a bowing shape from being formed, and a remaining film amount as the mask layer is secured.例文帳に追加

ボーイング形状の発生を防止してマスク層に良好な垂直加工形状のホールを形成し、且つマスク層としての残膜量を確保することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A wafer W is carried in a plasma processing apparatus and the surface of a silicon layer 501 of the wafer W is subjected to plasma oxidation processing to form a silicon oxide film 503 having a film thickness T_1 on the silicon layer 501.例文帳に追加

ウエハＷをプラズマ処理装置に搬入し、ウエハＷのシリコン層５０１の表面をプラズマ酸化処理してシリコン層５０１の上に膜厚Ｔ_１で酸化珪素膜５０３を形成する。 - 特許庁

To provide a composite copper foil that does not swell between a support metal foil and a thin copper layer when doing heat processing at high temperature, wherein after heat processing, the support metal foil gets easily separated from the thin copper layer.例文帳に追加

高温での加熱加工に際し支持体金属箔と薄銅層間でフクレがなく、加熱加工後に、支持体金属層が薄銅層から容易に剥離する複合銅箔を提供する。 - 特許庁

In the method, a text structure including information on surface layer case and deep layer case is obtained with performances of a morpheme analysis, paragraph analysis, vocabulary processing, case frame processing, attribute adding, etc., to the natural text inputted by a user.例文帳に追加

ユーザから入力された自然文を形態素解析、文節解析、語彙処理、格フレーム処理、属性付与等を行って表層格、深層格の情報を含む文構造を取得する。 - 特許庁

Then, each node autonomously rewrites the other node address and the present node address managed within its own high-order processing layer and low-order processing layer on the basis of a received message and prevents a failure of the network.例文帳に追加

このとき、各ノードは受け取ったメッセージに基づき、自己の上位処理層、下位処理層内で管理している他ノードアドレス、また自ノードアドレスを自律的に書き換え、ネットワークに破綻がないようにする。 - 特許庁

When manufacturing the TFT substrate 1, as processing for reducing the resistance of the auxiliary capacitor semiconductor layer 17, plasma processing is performed after forming a passivation layer 20 and before forming a pixel electrode 21.例文帳に追加

ＴＦＴ基板１を製造するときには、補助容量半導体層１７を低抵抗化する処理として、パシベーション層２０を形成した後で絵素電極２１を形成する前にプラズマ処理を行う。 - 特許庁

At this time, the processing liquid is adjusted to the pH and/or oxidation-reduction potential preferably so that, when the processing liquid comes into contact with the metal layer 2, a metal compound insoluble in the processing liquid is produced on a surface of the metal layer.例文帳に追加

また、この際に、処理液は、金属層２に接触した際に、金属層の表面に処理液に対して不溶性の金属化合物が形成されるように、そのｐＨおよび／または酸化還元電位が調整されているのが好ましい。 - 特許庁

This method for treating a semiconductor processing component includes exposing the semiconductor processing component to a halogen gas at an elevated temperature, oxidizing the semiconductor processing component to form an oxide layer, and removing the oxide layer.例文帳に追加

半導体加工用部品を処理する方法は、この半導体加工用部品を高温度においてハロゲン気体に曝露することと、酸化物層を形成するために半導体加工用部品を酸化させることと、この酸化物層を除去することとを含む。 - 特許庁

The method for fabricating a photomask includes the steps of: providing a film stack having a molybdenum layer and a light-shielding layer in a processing chamber; pattering a first resist layer on the light-shielding layer; etching the light-shielding layer using the first resist layer as an etch mask; and etching the molybdenum layer using the patterned light-shielding layer and the patterned first resist layer as a composite mask.例文帳に追加

フォトマスクを製作するための方法は、モリブデン層と光遮断層とを有するフィルムスタックをプロセスチャンバに提供するステップと、該光遮断層上に第１のレジスト層をパターニングするステップと、該第１のレジスト層をエッチングマスクとして使用して該光遮断層をエッチングするステップと、該パターニングされた光遮断層および該パターニングされた第１のレジスト層を複合マスクとして使用して該モリブデン層をエッチングするステップとを含む。 - 特許庁

In one embodiment, a method for etching chromium includes steps of: preparing a film stack having a chromium layer in a processing chamber; patterning a photoresist layer on the film stack; depositing a conformal protective layer on the patterned photoresist layer; etching the conformal protective layer to expose the chromium layer through the patterned photoresist layer; and etching the chromium layer.例文帳に追加

一実施形態において、クロムをエッチングする方法は、クロム層を有する膜スタックを処理チャンバー内に用意するステップと、膜スタック上でホトレジスト層をパターン化するステップと、パターン化されたホトレジスト層に適合保護層を堆積するステップと、その適合保護層をエッチングして、パターン化されたホトレジスト層を通してクロム層を露出させるステップと、クロム層をエッチングするステップとを備えている。 - 特許庁

In the optical disk having a plurality of recording layers, the formatting processing, the closing processing, the finalizing processing, or the protecting processing is dealt with by each layer independently or a plurality of layers, and a management area for managing the implemented state of each processing is provided on the disk.例文帳に追加

複数の記録層を有する光ディスクであって、各層を独立に又は複数の層で、フォーマット処理、又はクローズ処理、又はファイナライズ処理、又はプロテクト処理に対応し、さらに、ディスク上に各処理が実施された状態を管理する管理領域を備える。 - 特許庁

The encoding part 16 applies DCT processing, quantization processing, encoding processing or the like to an enhancement layer inputted from a frame processing part 14, and however, calculates a quantization step Q-en on the basis of the quantization step Q-ba supplied from the encoding part 15 in performing quantization processing.例文帳に追加

エンコード部１６は、フレーム処理部１４から入力されたエンハンスメントレイヤに対して、DCT処理、量子化処理、および符号化処理等を行うが、量子化処理を行う際、量子化ステップQ_enを、エンコード部１５から供給された量子化ステップQ_baに基づいて算出する。 - 特許庁

An encoding part 15 applies DCT processing, quantization processing, encoding processing or the like to a base layer inputted from a frame processing part 13, however, decides a quantization step Q-ba in accordance with a requested bit rate and performs quantization processing according to the decided quantization step Q-ba.例文帳に追加

エンコード部１５は、フレーム処理部１３から入力されたベースレイヤに対して、DCT処理、量子化処理、および符号化処理等を行うが、要求されるビットレートに応じて量子化ステップQ_baを決定し、決定した量子化ステップQ_baに従って量子化処理を行う。 - 特許庁

The heat transferred from the processing container 1 is reflected by an aluminum layer 33 toward the processing container 1 and when the heat of the processing container 1 cannot be fully reflected and the temperature of the aluminum layer 33 is raised, the dissipation of heat to the outside can be suppressed by laminating the aluminum layer 33 and a resin layer 34 in a heat insulation block 30 from the processing container 1 side in this order.例文帳に追加

また、断熱ブロック３０の内部にアルミニウム層３３と樹脂層３４とを処理容器１側からこの順番で積層することによって、アルミニウム層３３により処理容器１から伝熱される熱を当該処理容器１に向けて反射すると共に、処理容器１の熱を反射しきれずにアルミニウム層３３が昇温した場合には樹脂層３４により外部への放熱を抑えることができる。 - 特許庁

Since the magnetic pole layer 24 and the yoke layer 35 are formed in different processing steps, the width of the magnetic pole layer 24 is easily adjusted, and the yoke layer 35 is formed on a flat surface making its thickness even.例文帳に追加

磁極層２４をヨーク層３５と別の工程で形成しているため、磁極層２４の幅寸法などの調整が容易であり、また前記ヨーク層３５を平坦面で形成できるため、均一な膜厚のヨーク層３５を形成できる。 - 特許庁

The optical master disk is produced by forming an intermediate layer 2 on a substrate 1, forming an inorganic resist layer 3 composed of a metal oxide on the intermediate layer 2, and forming fine rugged patterns to the inorganic resist layer 3 by exposure and development processing.例文帳に追加

基板１上に中間層２を形成し、中間層２上に金属酸化物からなる無機レジスト層３を形成し、露光・現像処理により微細な凹凸パターンを無機レジスト層３に形成し、光ディスク原盤を作製する。 - 特許庁

To provide a composition for an alignment layer in which the layer is hardly scraped by rubbing processing and in which an alignment layer having uniformly aligning property can be manufactured in a high yield, and a liquid crystal display element using the alignment layer having uniformly aligning property.例文帳に追加

ラビング処理によって、膜が削れにくいく、配向特性が均一な配向膜を高い歩留まりで製造できる配向膜用組成物およびその配向特性が均一な配向膜を用いた液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a floor material having a cork layer as an upper layer and the composite floor material obtained thereby and to form a protective film on the surface of the cork layer at the time of molding processing to enhance the chemical resistance and gloss of the cork layer at the same time.例文帳に追加

上層の表面にコルク層を有する床材の製造方法とそれによって得られる複合床材であって、成形加工時、コルク層の表面に保護膜を形成して耐薬品性と光沢とを同時に向上させる。 - 特許庁

Next, in a polymer complex layer forming step, a polymer complex layer 4 of catalyst metal ions with the polymer layer 3 is formed in the scheduled plating area by bringing processing liquid containing the catalyst metal ions into contact with the polymer layer 3.例文帳に追加

次に、高分子錯体層形成工程では、触媒金属イオンを含む処理液を高分子層３に接触させてめっき予定領域に触媒金属イオンと高分子層３との高分子錯体層４を形成する。 - 特許庁

A first processing part 50 writes data in a first recording layer capable of rewriting data or a second recording layer capable of writing data once of an optical disk 10 containing at least the first recording layer and the second recording layer.例文帳に追加

第１処理部５０は、データを書換え可能な第１記録層と、データを１回だけ書込み可能な第２記録層とが少なくとも含まれた光ディスク１０のうち、第１記録層あるいは第２記録層にデータを書き込む。 - 特許庁

Since the upper face of a p-AlInAs clad layer 7 is directly covered by a p-InGaAsP etch-stopper layer 8, the p-AlInAs clad layer 7 is not exposed to atmospheric air during processing, therefore no reliability problem due to oxidation of the p-AlInAs clad layer 7 occurs.例文帳に追加

p-AlInAsクラッド層７の直上はp-InGaAsPエッチングストッパ層８に覆われているため、p-AlInAsクラッド層７がプロセス途中で大気中に露出することがないので、p-AlInAsクラッド層７の酸化に起因する信頼性の問題は発生しない。 - 特許庁

The processing time is greatly shortened as compared with processing including only a sputter step, and a uniform seed layer is formed; and complete via filling is not carried out, but conductive layer plating 10 on the seed layer is carried out, and barrier plating 12 on a surface is performed to prevent a copper plating layer from oxidizing, thereby making an inter-layer connection free of diffusion of copper in the resin.例文帳に追加

スパッタ工程のみと比較し大幅に処理時間を短縮するとともに、均一なシード層を作成し、シード層の上に完全なビアフィリングを行わず、コンフォーマルに導電層めっき１０を施し、銅めっき層の酸化防止のため表面にバリアめっき１２を施すことにより、樹脂に銅が拡散しない層間接続が可能となる。 - 特許庁

After irradiated with the active energy rays for pattering, the second resin layer 2 is developed with a solvent, and thereby an optical waveguide is formed with the second resin layer 2 remaining after development as a core layer 26 and the first resin layer 1 as a cladding layer 27; after that, electric wiring 24 is formed by printed wiring processing of the metal layer 13.例文帳に追加

第二樹脂層２に活性エネルギー線をパターン照射した後に溶剤で現像することによって、現像後に残る第二樹脂層２がコア層２６、第一樹脂層１がクラッド層２７となった光導波路を形成し、この後、金属層１３をプリント配線加工して電気配線２４を形成する。 - 特許庁

The container comprises a multilayer film with at least one polyvinyl alcohol resin layer, at least one polyethylene layer on the inside of the polyvinyl alcohol resin layer brought into contact with a photographic processing agent and at least one polyolefin resin layer or nylon layer on the outside of the polyvinyl alcohol resin layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、少なくとも１層のポリビニルアルコール樹脂層と、該ポリビニルアルコール樹脂層の写真処理剤と接する内側に少なくとも１層のポリエチレン層を有し、該ポリビニルアルコール樹脂層の外側に少なくとも１層のポリオレフィン系樹脂層又はナイロン層を有する多層フィルムで構成する。 - 特許庁

To prevent deterioration in transfer performance of a high-speed IP transfer apparatus including a CPU for performing transfer processing of layer 3 or higher on a post-stage of a layer-2 switch.例文帳に追加

レイヤ２スイッチの後段にレイヤ３以上の転送処理を行うＣＰＵを備える高速ＩＰ転送装置において、転送性能の劣化を防ぐ。 - 特許庁

To provide a corrugated board technique for inkjet printing, which suppresses cracks or separation of an ink receiving layer or thermally welding of the ink receiving layer to a heating means in processing a corrugator.例文帳に追加

コルゲータ処理時のインク受容層の割れや剥離、加熱手段への融着を抑制するインクジェット印刷用段ボール技術を提供する。 - 特許庁

The steam is cooled down and condensed by a cooler 25 provided in the upper layer within the processing tank 21, and it returns to the lower layer and is heated again.例文帳に追加

蒸気は処理槽２１内の上層部分に設けられた冷却器２５によって冷却されて凝縮し、下層部分へ戻って再び加熱される。 - 特許庁

Three-layer unit blocks B3 to B5 for forming a coating film and two-layer unit blocks B1, B2 for development processing are mutually laminated on a treatment block S2.例文帳に追加

処理ブロックＳ２に、３層の塗布膜形成用の単位ブロックＢ３〜Ｂ５と、２層の現像処理用の単位ブロックＢ１，Ｂ２とを互いに積層して設ける。 - 特許庁

A development processing is performed to the layer of the photosensitive materials after the exposure and a plurality of fine rugged patterns are formed on the surface of the layer of the photosensitive materials.例文帳に追加

露光後の感光性材料の層を現像処理し、感光性材料の層の表面に複数の微細な凹凸状パターンを形成する。 - 特許庁

An application for call processing at the service controller is divided to a communication protocol depending part 1 of low-order layer and a communication protocol non-depending part 2 of high-order layer.例文帳に追加

サービス制御装置における呼処理用アプリケーションを、下位層の通信プロトコル依存部１と、上位層の通信プロトコル非依存部２に分割する。 - 特許庁

To reduce the load of a MAC layer, and to further improve the performance on a series of data transfer processing by more quickly notifying the MAC layer of information on a field (Addressing-Fields).例文帳に追加

ZigBeeのMACへの転送モード判断材料のデータ送付と、MACによる転送モード判断処理に時間的余裕を与え、より多くのユーザ要求に応じる。 - 特許庁

Moreover, a conductive layer (metalized layer) 27 which contains tungsten as a main ingredient is formed in the upper surface of the cave 15 so as to prevent arching during RF processing.例文帳に追加

更に、横穴１５の上面には、ＲＦ加工時のアーキングの防止のために、タングステンを主成分とする導電層（メタライズ層）２７が形成されている。 - 特許庁

To reduce processing step number for forming upper-layer rewiring of a semiconductor device by forming the upper-layer rewiring with a method other than electroplating.例文帳に追加

上層再配線を有する半導体装置の製造方法に際し、上層再配線を電解メッキ以外の方法で形成して、工程数を低減する。 - 特許庁

This dispenses with providing of an adhesive layer between the metal sheet layer and the injection material to save the manufacturing cost and reduce the processing steps.例文帳に追加

これにより、該金属板層と該射出材料の間に別に接着層を設ける必要をなくし、製造コストを節約し加工工程を減らす。 - 特許庁

The conductive film or the adhesive layer is subjected to patterning processing to gain the same effect as a usual conductive plate including an ITO (Indium Tin Oxide) layer.例文帳に追加

前記導電性フィルム又は前記接着層がパターン化処理され、従来のＩＴＯ層を含む導電板と同様の効果を奏することができる。 - 特許庁

To efficiently aggregate processing blocks defined by three-layer division through a three-layer client/server design technique under fixed reference.例文帳に追加

３層クライアント・サーバ設計技法により３層分割で定義された処理ブロックの集約を一定の基準のもとで効率的に行うことができるようにする。 - 特許庁

The release liner is characterized in that a release processing layer is arranged on at least one surface of the polylactic acid substrate across an undercoat layer.例文帳に追加

本発明のリリースライナーは、ポリ乳酸基材の少なくとも一方の面にアンダーコート層を介して剥離処理層が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

A global failure isolation register FIR layer connects to the local error handler layer to regulate local error processing in a plurality of functional units of the processor system.例文帳に追加

グローバル障害分離レジスタ（ＦＩＲ）層が、ローカル・エラー・ハンドラ層に結合して、プロセッサ・システムの複数の機能ユニットにおけるローカル・エラーの処理を調整する。 - 特許庁

The p-side contact layer 21 is made as a layer to be processed having a surface 61 for recovering damage formed by wet etching after processing by dry etching.例文帳に追加

ｐ側コンタクト層２１は、ドライエッチングで加工したのちウェットエッチングを行うことにより形成されたダメージ回復面６１を有する被加工層となっている。 - 特許庁

A first resist layer 21 is formed on the conductor layer 11 of an insulating base material 1, a series of patterning processing is performed to form a first opening part 31.例文帳に追加

絶縁基材１の導体層１１上に第１レジスト層２１を形成し、一連のパターニング処理を行って第１開口部３１を形成する。 - 特許庁

The periphery of a core material 48A is coated with a high friction material layer 48B at the driving roller 48 and grinding processing is applied for the high friction material layer 48B.例文帳に追加

駆動ローラ４８は、芯材４８Ａの周囲に高摩擦材層４８Ｂが被覆されており、高摩擦材層４８Ｂに対して研磨処理が施されている。 - 特許庁

By physical processing, a single layer and a multilayer are distinguished from each other, and the disk category (CD, DVD, next generation DVD, or the like) of a single layer disk is identified.例文帳に追加

物理処理にて、シングルレイヤーとマルチレイヤーの区別を行い、さらに、併せて、シングルレイヤーディスクのディスクカテゴリー（ＣＤ、ＤＶＤ、次世代ＤＶＤ、等）を判別する。 - 特許庁