| 意味 | 例文 |
projection methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3693件
To provide the creation method of mask data, a mask, and a computer-readable record medium that are used when a dummy projection part region is formed in a specific pattern within a trench element separation region.例文帳に追加
トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域を所定のパターンで形成する際に使用する、マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device which has a projection for domain restriction and an alignment control layer and whose manufacturing process can be simpler compared with conventional device, and its manufacturing method.例文帳に追加
ドメイン規制用突起と配向制御層とを有し、従来に比べて製造工程をより一層簡略化できる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a projection aligner in a micro-lithograph which can generate optical deflection action when processing without no complicated change and without changing substantially a well-known apparatus, and an exposure method.例文帳に追加
複雑な変更無く既知の装置を実質的に変えずにプロセス時に光偏向作用を生じさせることが可能なマイクロリソグラフにおける投影露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide a multiple exposure method achieving a large throughput of wafer processing, and a microlithographic projection aligner which improves the productivity, at least with unchanging quality and low cost.例文帳に追加
高いウェーハ処理量を可能にする多重露光方法と、生産性の向上を少なくとも変わらぬ品質および低費用化を可能にするマイクロリソグラフィー投影露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a component mounter and a mounting method in which the accuracy of mounting position of a component and the suction rate thereof are enhanced by eliminating the rattling (lateral deflection) of a nozzle in a nozzle projection mechanism.例文帳に追加
ノズル突出機構におけるノズルのがたつき(横振れ)を無くし、部品の実装位置精度と吸着率の向上を実現する部品実装装置、同方法を提供する。 - 特許庁
An image processing method/system includes dividing a movement pattern of a moving object into N discrete position states, and for each of the N position states, determining a corresponding view projection matrix.例文帳に追加
画像処理方法/システムでは動く物体の運動パターンがN個の不連続位置状態に分割され、前記N個の位置状態各々に対し対応するビュー投影行列を決定する。 - 特許庁
To provide a device and method for easily and highly accurately adjusting the position of the projection lens of a stereoscopic image display device or the photographic lens of a stereoscopic image photographing device.例文帳に追加
立体画像表示装置の投影レンズ、あるいは、立体画像撮影装置の撮影レンズの位置を容易且つ高精度に調整することのできる装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a projection type display apparatus using polarizing glass that can cope with a large-sized liquid crystal panel, and a method for manufacturing a polarizing plate for use in the apparatus.例文帳に追加
大きなサイズの液晶パネルに対応できる偏光ガラスを用いた投射型表示装置を提供するとともに、この装置に用いる偏光板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image display device with which a display grade and video expression power can be improved by performing sufficient gradation expression, its gradation expression method and projection display device.例文帳に追加
充分な階調表現を行うことで表示品位や映像表現力の向上が図れる画像表示装置とその階調表現方法、ならびに投射型表示装置を提供する。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR IMPROVING IMAGE QUALITY AND CORRECTING ABERRATION IN SMALL REAL IMAGE PROJECTION SYSTEM USING OFF-AXIS REFLECTOR, NEUTRAL DENSITY WINDOW AND PLANE OF ROTATION SUBJECTED TO ASPHERIAL COMPENSATION例文帳に追加
オフ軸反射器、中性密度ウィンドー及び非球面補正された回転面を使用する小実像投射システムにおける映像画質向上及び収差補正の方法及び装置 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device which has high luminance and high contrast of an image, and which is manufactured at a low cost and with ease, a method for manufacturing the same, and a projection display device.例文帳に追加
輝度が高いと共に画像のコントラストが大きく、低コスト且つ容易に製造することができる液晶表示装置及びその製造方法並びに投射表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image data processing method for preparing two-dimensional image data on a prescribed horizontal center projection surface from image information obtained from a line sensor loaded on a moving object.例文帳に追加
移動体に搭載したラインセンサから得られた画像情報から所定の水平中心投影面上における2次元画像データを作成する画像データ処理方法を提供する。 - 特許庁
To prevent influence by the outflow of solder and the projection of an adhesive, etc. , and to eliminate the need for a positioning jig upon manufacture in a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造方法において、半田の流れ出しや接着剤のはみ出しなどによる影響を防ぐことができるとともに、製造の際に位置決め冶具が不要になるようにする。 - 特許庁
To provide a simpler manufacturing method of a microlens, the microlens having excellent optical characteristics, an optical film, a screen for projection, a projector system, an electrooptical apparatus and electronic equipment.例文帳に追加
より製造方法が簡単なマイクロレンズの製造方法、光学特性の良好なマイクロレンズ、及び光学膜、プロジェクション用スクリーン、プロジェクターシステム、電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a lithographic projection apparatus, in which interferometer systems 6, 8, 14, 15, and 16 have a capacity area, extending over a measurement station 4 and a exposure station 2, and a method.例文帳に追加
干渉計システム6、8、14、15、16が第1の測定ステーション4及び第2の露光ステーション2にわたって広がる能力範囲を有するリソグラフィ投影装置1及び方法。 - 特許庁
ACTUATOR DEVICE, PROTECTIVE COVER FOR ACTUATOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ACTUATOR, OPTICAL DEFLECTOR USING ACTUATOR DEVICE, TWO-DIMENSIONAL OPTICAL SCANNER AND IMAGE PROJECTION DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
アクチュエータ装置、このアクチュエータ装置用の保護カバー、このアクチュエータの製造方法、このアクチュエータ装置を用いた光偏向装置、二次元光走査装置及びこれを用いた画像投影装置 - 特許庁
To provide a method for thinning a slice thickness in a computer tomographic imaging system composed in such a way that plural lateral lines of detector elements obtain projection data by the unit of slice.例文帳に追加
検出器素子の複数の横列が投影データをスライス単位で獲得するように構成されているコンピュータ断層撮影イメージング・システムで、スライス厚を薄くする方法を提供する。 - 特許庁
To provide a lithographic device provided with a liquid storage between a projection system and a substrate and a method for monitoring a liquid silicon dioxide level held in the liquid storage to remove silicon oxide in a defecator.例文帳に追加
投影系と基板の間に液溜めを備えるリソグラフィ機器と、液溜めに保持される液体の二酸化ケイ素レベルを監視し精製器で二酸化ケイ素を除去する方法の提供。 - 特許庁
To provide a method for forming a unitary polymeric projection or fastener comprising a base layer, and a multiplicity of spaced projections or hook members projecting from the upper surface of the unitary base layer.例文帳に追加
ベース層と、単一ベース層の上部表面から突出する複数の離間した突出部またはフック部材と、を含む単一高分子突出部またはファスナーを形成する方法の提供。 - 特許庁
A reticle manufacturing method by forming the continuous track on the surface using the continuous curvilinear character projection shots, and substrate manufacturing methods of a silicon wafer etc., are also disclosed.例文帳に追加
連続した曲線キャラクタプロジェクションショットを用いて表面上に連続的なトラックを形成することによるレチクル製造方法、およびシリコンウェハなどの基板製造方法も開示される。 - 特許庁
To provide a projector capable of performing an appropriate image projection in accordance with various contents and reducing costs by eliminating facilities for condition settings, and to provide a setting method of the same.例文帳に追加
多様なコンテンツに対応して適切な画像投射を行うことができ、条件設定用の設備を省略して低コスト化できるプロジェクター及びその設定方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a thin-film transistor in which a pattern of a semiconductor layer made of an organic semiconductor material can be formed highly finely while suppressing projection at its end.例文帳に追加
有機半導体材料からなる半導体層のパターンをその端部での突起の発生を抑制しつつ、高精細に形成することができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a reduction projection exposure system and a method, where an alignment operation of high accuracy can be carried out to make a measurement difference between wafers smaller, and superposition accuracy can be kept high.例文帳に追加
アライメント精度が高くウェハ間の測定誤差を小さくすることができ、重ね合わせ精度が高い縮小投影露光装置及び縮小投影露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide a reflection screen which provides high-contrast and high-luminance images free from reflection, and is easily manufactured, and also to provide a reflection projection system, and a method for manufacturing the reflection screen.例文帳に追加
コントラストが高く、高輝度であって映り込みのない画像を得ることができ、かつ製造が容易な反射スクリーン、反射投影システム、及び、反射スクリーンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a collision reinforcing material having a positioning projection with sufficient projecting quantity and excellent in strength, shape and dimensional accuracy.例文帳に追加
十分な突出量を持った位置決め用突起を具備すると共に、強度並びに形状及び寸法の精度に優れた車輌用衝突補強材を製造する方法を提供する。 - 特許庁
By analyzing the square root of the projection area by a method of extreme value statistics, the dimensions of the maximum nonmetal inclusion is predicted from among nonmetal inclusions existing in the metal material.例文帳に追加
この投影面積の平方根を極値統計法で解析して、金属材料中に存在する非金属介在物のうち最大の非金属介在物の寸法を予測する。 - 特許庁
To measure characteristics of a projection system before and after a period for heating (exposure) and cooling so as to provide data for correcting a model for lens heating in a method of lithography.例文帳に追加
リソグラフィの方法において、レンズ加熱のモデルを較正するためのデータを提供するために、投影システムの特性が加熱(露光)および冷却の期間の前後に測定される。 - 特許庁
To provide a pattern forming method for making an opening part between adjacent patterns finer than resolution of a projection exposing machine and for preventing the occurrence of deviation of dimensional precision between patterns.例文帳に追加
隣接するパターン間の開口部を、投影露光機の解像度よりも微細化することが可能であって、かつパターン間の寸法精度ずれが生じにくいパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In a method and a device wherein projection exposure is performed by microlithography with an optical aperture, contrast is increased by polarizing a light in the direction perpendicular to a plane of incidence of resist.例文帳に追加
光アパーチャーでマイクロリソグラフィーにより投影露光する方法および装置において、レジストの入射面に対し垂直に光を偏光させることによりコントラストを増大させる。 - 特許庁
To provide a stage device capable of achieving high-speed and precise positioning, a charged particle radiation device and reduced projection exposure device using the same, and a stage control method.例文帳に追加
高速かつ高精度位置決めを実現できるステージ装置,それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置,およびステージ制御方法を提供することにある。 - 特許庁
In the silhouette transmission processing, a two-dimensional image excluding the object is prepared by the perspective projection method (S11) and a display position of the object on the screen of a monitor is calculated (S13).例文帳に追加
シルエット透過処理では、物体を除いた透視投影法による二次元画像が作成され(S11)、モニタの画面上における物体の表示位置が算出される(S13)。 - 特許庁
PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING CONFIGURATION MEMBER OF MICROSTRUCTURE BY ASSISTANCE OF THE SAME, AND POLARIZATION OPTICAL ELEMENT ADAPTED TO BE USED IN THE SAME例文帳に追加
投影露光系、このような投影露光系の補助により微細構造の構成部材を製造する方法、このような系において使用するために適応させた偏光光学素子 - 特許庁
To provide a method for correctly calculating snow load caused by slope snow pressure acting on a projection located on any slope face such as a protective cap on head of a ground anchor used for preventing slope failure, etc.例文帳に追加
斜面崩壊防止等に使用されるグラウンドアンカー頭部の保護キャップ等の斜面に設置された突起物に作用する斜面雪圧による雪荷重を正確に算定できるようにする。 - 特許庁
A computed tomography reconstruction method includes the step of implementing an iterative image reconstruction process 300 using accurate forward projection 302 for CT metrology of an object.例文帳に追加
コンピュータ断層撮影(CT)再構成方法は、対象物のCT測定のために、精密順向投影(302)を使用する反復画像再構成プロセス(300)を実行する段階を含む。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE, SUBSTRATE FOR OPTOELECTRONIC DEVICE, SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, LIQUID CRYSTAL DEVICE, AND PROJECTION LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT USING THE LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加
半導体装置、電気光学装置用基板、液晶装置用基板とその製造方法、及び液晶装置、並びにこれを用いた投射型液晶表示装置および電子機器 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a microlens substrate in which a luminescent point (the same as a white point) is not generated, a transmission type screen provided with the microlens substrate and a rear projection television.例文帳に追加
輝点(白点に同じ)が生じないマイクロレンズ基板の製造方法、および該マイクロレンズ基板を具備する透過型スクリーン並びにリアプロジェクションテレビを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide equipment and a method for welding a projection bolt by which welding motion adapted to the various shapes of steel-sheet parts is performed in a small scale as far as possible.例文帳に追加
鋼板部品の種々な形状に適応した溶接動作を、できるだけ小規模で行わせることができるプロジェクションボルトの溶接装置および溶接方法を提供する。 - 特許庁
To suppress reduction in sharpness due to wear of abrasive grains by intentionally varying a projection height of the abrasive grains, in a cutting wheel with abrasive grains bonded to a base by a brazing method.例文帳に追加
ろう付け法によって砥粒を基板に固着した切断ホイールにおいて、砥粒の突き出し高さを意図的に変化させることによって、砥粒の摩耗による切れ味の低下を抑制する。 - 特許庁
To provide a polishing method of an optical fiber penetration projected end from an optical connector end surface and a polishing device capable of simply and easily polishing an optical fiber projection end penetrated and projected from an end surface of a ferrule.例文帳に追加
フェルールの端面から貫通突き出た光ファイバ突出端を簡易に研磨可能とする光コネクタ端面からの光ファイバ貫通突出研磨方法及び研磨装置の提供。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of spiral contact pieces, capable of forming a projection on the surface of the spiral contact pieces with reduced production cost.例文帳に追加
製造工程を増やすことなくスパイラル接触子の表面に凸部を形成することができ、しかも製造コストの低減を図れるようにしたスパイラル接触子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for exposing comprises the steps of synchronously moving a reticle 2 and a wafer 4, and exposing an image of the reticle 2 on the wafer 4 with the exposure beams from illumination optical systems 9, 9a, and 9b via a projection optical system 8.例文帳に追加
レチクル2とウエハ4とが同期して移動し、照明光学系9,9a,9bからの露光光でウエハ4上にレチクル2の像を投影光学系8を介して露光する。 - 特許庁
To provide a method of easily manufacturing a surfacing type magnetic head slider for reducing quantity of projection of a protecting film without giving bad influence to a property of the magnetic head element.例文帳に追加
製造が容易でありかつ磁気ヘッド素子の特性に悪影響を与えることなく保護膜の突出量を低減することができる浮上型磁気ヘッドスライダの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polarization conversion element capable of easily handling and of reducing manufacturing cost, and further to provide a polarization conversion unit, a projection device and a manufacturing method of the polarization conversion element.例文帳に追加
取り扱いが容易で、製造コストを低く抑えることができる偏光変換素子、偏光変換ユニット、投射装置、及び偏光変換素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
OPTICAL MODULATING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR THE OPTICAL MODULATING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS EQUIPPED WITH THE OPTICAL MODULATING DEVICE, AND IMAGE PROJECTION DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH THE OPTICAL MODULATING DEVICE例文帳に追加
光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置 - 特許庁
The manufacturing method of the commutator comprises a rounding process in which a sheet plate material T having a projection 11 is formed into a cylindrical shape and a commutator forming process in which, after hardening the filled resin, an undercut planned portion A is cut out.例文帳に追加
凸部11を有する板材Tを円筒形状にする丸め工程と、充填した樹脂の硬化後、アンダーカット予定部Aを切削する整流子形成工程とを有する。 - 特許庁
To provide a projection optical system, capable of accurately projecting a pattern by suppressing the influence of a wavefront aberrations or particularly coma aberrations, and to provide an aligner and the exposure method.例文帳に追加
波面収差、特にコマ収差の影響を抑え、パターンを精度良く投影することができる投影光学系、露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method and a device for correcting lateral color shift in a multi-panel projection system, which eliminate or reduce a disadvantageous influence caused by a viewing angle.例文帳に追加
視野角度から生ずる不都合な影響を除去若しくは低減するマルチ−パネル・プロジェクション・システムにおける側方色変更を修正するための方法並びに装置の提供 - 特許庁
A method includes a step of acquiring a sequence of a data frame indicating a two- or three-dimensional region, a step of transforming the data by projection, and a step of calculating periodic timing information based on the transformed data.例文帳に追加
2次元又は3次元領域を表すデータフレームのシーケンスを取得し、前記データを射影により変換し、変換されたデータに基づいて周期タイミング情報を算出する。 - 特許庁
To provide a blasting method of a surface of a plastic film whereby the generation of an electrostatic pattern is prevented, adhesion of an abrasive material on a non-projection surface is restrained, and a mat surface is evenly blasted.例文帳に追加
静電気模様の発生がなく、非投射面に研掃材の付着が少なく、マット面の面状が均一にブラスト加工されるプラスチックフイルム表面のブラスト加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure device and an exposure method for exposing an image of high quality with a small amount of developing unevenness all over the surface of a printed image, as for a projection type exposure device.例文帳に追加
投射型の露光装置において、プリント画像の全面にわたり発色ムラの少ない、品質の高い画像を露光できる露光装置および露光方法を提供すること。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|