「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

By carrying out the second variation of at least the vertical scroll with only the same pattern as one pattern stationarily displayed, it is possible to make double ready-to-wins on two jackpot lines and improve the interesting property of a game.例文帳に追加

少なくとも１つの縦スクロールの第２変動を、停止表示されている１の図柄と同一の図柄のみで行うことにより、２本の大当たりライン上でリーチとなるダブルリーチを現出させて、遊技の興趣を向上させることができる。 - 特許庁

A reading error pattern deletion part determines to refer to a reading error pattern database whether a reading error pattern is included in the individual reading text set candidates by regarding the plurality of the reading text set candidates as input, retrieves the reading text set candidate including the same phonemic sequence from the extensive Japanese text database again when including the reading error pattern, and outputs the reading text set candidates as the reading text set when not including the reading error pattern.例文帳に追加

読み誤りパターン削除部が、複数の読上げ用テキストセット候補を入力として、個々の読上げ用テキストセット候補に読み誤りパターンが含まれるか否かを読み誤りパターンデータベースを参照して判定し、読み誤りパターンを含む場合は同一の音素列を含む読上げ用テキストセット候補を大量日本語テキストデータベースから再検索し、読み誤りパターンを含まない場合は当該読上げ用テキストセット候補を読上げ用テキストセットとして出力する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board in which rise in a resistance value of a conductive pattern and disconnection are prevented when disposed in an electronic apparatus in a bent state, and to provide a method for manufacturing the same and an electronic apparatus using the same.例文帳に追加

電子機器内に屈曲する状態で配置される場合に導体パターンの抵抗値の上昇および断線が防止されたプリント配線基板、その製造方法およびそれを用いた電子機器を提供することである。 - 特許庁

To provide: a device for manufacturing a semiconductor device, the device suppressing deviation of a dimension of a pattern to be formed even when an exposure device having a plurality of exposure stages is used; a method of controlling the same; and a program for controlling the same.例文帳に追加

露光ステージを複数備えた露光装置を使用した場合であっても、形成されるパターンの寸法のずれを抑制することのできる、半導体装置の製造装置、その制御方法、及びその制御プログラムを提供する。 - 特許庁

To stably perform authentication using a vein pattern of an arbitrary range belonging to the same finger, and to naturally execute the finger vein authentication by the same operation as that of conventional mobile equipment.例文帳に追加

同一指に属する任意の範囲の静脈パターンを用いた認証を安定して行うことが可能であると共に、従来の携帯機器を操作するのと同じ動作で指静脈認証を自然に実施できるようにすること。 - 特許庁

In the display patterns shown in the figure 16, patterns have the same variation period of images from the start of variation to the finalization of special images if the patterns belong to the same basic pattern, but the variation display of display regions 50a and 50c is different.例文帳に追加

図１６に示す表示パターンは、同一基本パターンに属すれば、変動開始から全ての特別図柄が確定するまでの変動時間は同じであるが、表示領域５０ａ及び５０ｃ上での変動表示が相違する。 - 特許庁

To provide a communication terminal capable of setting all the groups or specific plural groups in them to the same termination call sound or the same vibrator vibrating pattern by remarkably saving manpower and remarkably improving operability.例文帳に追加

大幅な省力化、大幅な操作性の向上を図って全グループあるいは全グループ中特定の複数のグループを同一着信音あるいは同一バイブレータ振動パターンに設定できる通信端末装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymerizable monomer for use in a resist, suitable for microfabrication performed by dry exposure, immersion exposure or a double patterning process, and to provide a polymer of the same, a resist material using the same, and a pattern formation method.例文帳に追加

ドライ露光、液浸露光やダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用重合性単量体およびそれら重合体の提供それらを使ったレジスト材料およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After that, the temporarily stopped left and right "out" patterns are enlarged to be of the same size as of a previously prepared normal pattern (if the same patterns are arranged, a jackpot is made), and become normalized patterns to be treated equally as normal patterns (c).例文帳に追加

この後、左と右に仮停止しているハズレ図柄は、元から用意された通常図柄（同一の種類が揃うことで大当たりとなる）と同じ大きさに拡大され、通常図柄と同様に扱われる通常化図柄となる（ｃ）。 - 特許庁

When the parameter is determined to be out of the allowable range, at least two adjoining corrected edges are moved in the same direction in the same distance on the basis of the parameter value to deform the correction pattern.例文帳に追加

前記パラメータが前記許容範囲内にないと判定された場合、当該パラメータの値に基づいて、隣接する少なくとも２つ以上の前記補正エッジを同一方向に同一距離移動させることにより、前記補正パターンを変形する。 - 特許庁

To obtain a TEG(test element group) pattern for evaluating plasma damage which can eliminate the defective blowing out of all fuses and, at the same time, can make all gates to be able to be measured under the same condition without giving any damage to the gates.例文帳に追加

本発明は、すべてのヒューズの切断不備を解消するとともに、測定前のゲートにはほとんどダメージを与えることをなくしてすべて同一の条件下で測定ができるようになるプラズマダメージ評価用ＴＥＧパターンを得る。 - 特許庁

According to positional relationship between the same patterns obtained by the same continuous pattern extracting means 106, correction formula computing means 107 compute a correction formula for registration of the image to be processed and the reference image.例文帳に追加

補正式算出手段１０７は、同一連続パターン抽出手段１０６により得られた同一パターンの相互の位置関係に基づき、処理対象画像と前記参照画像との位置合わせのための補正式を算出する。 - 特許庁

In a screen processing section 17, a screen pattern is applied to the image to be processed to which averaging processing has been applied and which has been further converted into the resolution R2, at the same or approximately same cycle as that of the averaging processing and screen processing is applied thereto.例文帳に追加

平均化処理され、さらに解像度Ｒ２に変換された処理対象画像に対し、スクリーン処理部１７では前記平均化処理と同一又は略同一の周期でスクリーンパターンを適用し、スクリーン処理を施す。 - 特許庁

At this time, an electrode 42 of the electrical element 41 is connected to the conductor pattern 22 electrically, and at the same time, the resin film 23 and sheet member 81 are mutually subjected to thermal fusing and at the same time plastic deformation for sealing the electrical element 41.例文帳に追加

このとき、電気素子４１の電極４２は導体パターン２２と電気的に接続されるとともに、樹脂フィルム２３およびシート部材８１は相互に熱融着しながら塑性変形し電気素子４１を封止する。 - 特許庁

The matrix XO is a pattern with work arranged in rows in the same order as the matrix XI and information arranged in columns in the same order as the matrix XI, and arranges the impact of the work on the information.例文帳に追加

マトリクスＸＯは、作業がマトリクスＸＩと同じ順序で横方向に並ぶとともに情報がマトリクスＸＩと同じ順序で縦方向に並ぶパターンで、情報に対する作業の影響度が配列されたものである。 - 特許庁

The bent part 30a is almost at 45° to the print pattern 12, so a soldering iron is easily inserted between the ends 30 and 35 and comes into contact with both ends 30 and 35 at the same time to heat them nearly to the same temperature.例文帳に追加

屈曲部３０ａはプリントパターン１２に対してほぼ４５°の角度をなしているから、半田鏝４０は端部３０，３５間に容易に挿入され、端部３０，３５の両方に同時に接触し、ほぼ同じ温度に加熱する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device capable of rapidly and accurately specifying a fault address position of a physical memory cell from fault address information and a method for manufacturing the same, and to provide an optical recognition pattern and a method for using the same.例文帳に追加

不良アドレス情報から物理的なメモリセルの不良アドレス位置を迅速かつ正確に特定することのできる半導体記憶装置及びその製造方法及び光学認識パターン及びその使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vehicular illumination device capable of drawing some patterns of the same shape and same size irrespective of a distance ranging from a vehicle when optical images including a predetermined pattern are projected onto a road surface in front of the vehicle.例文帳に追加

車両前方の路面上に所定パターンを含む光画像を投影する場合に、車両からの距離に拘らず、同じ形状及び大きさのパターンを描画することができる車両用照明装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laser processing device capable of unifying two respective patterns of a processing laser beam and a guide laser beam, and drawing the unified pattern on a material to be processed, and to provide a laser processing method using the same.例文帳に追加

加工用レーザ光線及び案内レーザ用光線のそれぞれのパターンを統一して加工用素材上に描画するできるレーザ加工装置及び方法の提供。 - 特許庁

MATRIX FOR MANUFACTURING STRUCTURE HAVING FINE STRUCTURE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THIS STRUCTURE BY USING THE SAME AND THIS STRUCTURE MANUFACTURED BY THIS METHOD例文帳に追加

微細構造パターンを備えた構造体製造用母型及びそれを用いた前記構造体の製造方法、並びにこの製造方法によって製造された前記構造体 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ALUMINUM CURRENT COLLECTOR HAVING 3D PATTERN STRUCTURE USING PHOTOLITHOGRAPHY, AND METHOD OF MANUFACTURING ULTRAHIGH-CAPACITY CAPACITOR USING THE SAME例文帳に追加

フォトリソグラフィーを使用して３Ｄパターン構造体を有するアルミニウム集電体を製造する方法およびそれを使用して超大容量コンデンサを製造する方法 - 特許庁

To provide a wiring board having a wiring pattern in which wire is more thinned, the increase of electric resistance is suppressed and adhesion strength is improved; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

より細線化され、電気抵抗の増大が抑制され、且つ密着強度に優れた配線パターンを有する配線板、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To more accurately evaluate the reliabilty of insulation between the through holes of a wiring board at the time of forming an actual circuit by forming an evaluation pattern in the same condition as that of an actual wiring board.例文帳に追加

実際の配線板と同様な条件の評価パターンを形成し、実回路形成時におけるスルーホール間の絶縁信頼性評価をより正確に行なう。 - 特許庁

A plurality of magnetic dots 21c, formed by pattern forming by a lithographic process or the like and having substantially the same configuration, are arrayed uniformly on respective clusters 21b.例文帳に追加

クラスタ２１ｂのそれぞれには、リソグラフィ工程などによりパターン形成された、ほぼ同一形状を有する複数の磁性ドット２１ｃが一様に配列されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive ceramics green sheet which is improved in pattern processibility and storage stability, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

感光性セラミックスグリーンシートに関し、パターン加工性、保存安定性を向上した感光性セラミックスグリーンシート及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a hologram observation tool which enables a light reproduced pattern to be seen replacing a light source in a scene while a spot due to 0th-order transmitted light is inconspicuous and a computer hologram for the same.例文帳に追加

０次透過光によるスポットが目立たなく明るい再生パターンがシーン中の光源に置き替わって見えるホログラム観察具とそのための計算機ホログラム。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) is used and has small PEB time dependency and large exposure latitude, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に露光光源がＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）である場合に好適なポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

Between the head amplifier IC and the wiring pattern, an underfill is filled, and the outer surface of the head amplifier IC is covered with the same resin of the underfill.例文帳に追加

ヘッドアンプＩＣと配線パターンとの間にはアンダーフィル４０が充填されているとともに、ヘッドアンプＩＣの外面はアンダーフィルと同一の樹脂により被覆されている。 - 特許庁

In a scribe-line region 3 on the wafer 1, a first stress-absorbing pattern 33 is formed at the same time when the wiring 31 of a first layer is formed in the chip region 2.例文帳に追加

また、ウェハ１上のスクライブライン領域３には、チップ領域２に第１層の配線３１を形成するときに、第１の応力吸収パターン３３を同時に形成する。 - 特許庁

To provide a data holding device and a logical operation circuit using the same, which can appropriately reduce characteristic variation of a ferroelectric element caused by a density of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの疎密に起因する強誘電体素子の特性ばらつきを適切に低減することが可能なデータ保持装置及び、これを用いた論理演算回路の提供。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist material capable of suppressing pattern defects of a chemically amplified resist film caused by base species from outside, and to provide a patterning method using the same.例文帳に追加

外部からの塩基種に起因する化学増幅レジスト膜のパターン欠陥を抑制できる化学増幅レジスト材料と、それを用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electric sewing machine capable of forming same stitches or seams of high quality when stitches of specified pattern is formed through designation of needle swing width.例文帳に追加

針振り巾を指定して所定の針振りパターンの縫い目を形成するとき、縫い目の揃った高品質なパターン縫いを行うことが可能な電子ミシンを提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin molded object having fluctuation or a quality feeling peculiar to a grain pattern of natural wood and a method and apparatus capable of producing the same with good productivity.例文帳に追加

天然木材の木目模様特有の揺らぎや質感を具有する熱可塑性樹脂成形体及びそれを生産性よく製造できる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resolution inspection chart in which a resolution inspection pattern can be automatically disposed at the same place in any arbitrary attitude and resolution inspection precision can be improved.例文帳に追加

解像度検査用パターンを同一の場所に任意の姿勢で自動的に配置することができ、解像度検査の精度を向上させることができる解像度検査用チャート。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having small PEB temperature dependency and good balance of sensitivity, exposure latitude, resolution and profile, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＰＥＢ温度依存性が小さく、感度、露光ラチチュード、解像力、プロファイルのバランスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet having a pattern of an uneven part having higher rigidity improving effect as compared with a conventional effect, and to provide a layered structure and a vehicle panel using the same.例文帳に追加

従来よりも剛性向上効果の高い凹凸部のパターンを有する板材、およびこれを用いた積層構造体並びに車両パネルを提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of preventing occurrence of a pattern defect in a wafer peripheral part when chips are arranged in a surface of a semiconductor wafer, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

半導体ウエハの面内にチップを配列する場合に、ウエハ周辺部のパターン不良の発生を防止できる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having good pitch dependence and coverage dependence of CD and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＣＤのピッチ依存性、被覆率依存性が良好な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that improves connection reliability between a wiring pattern layer and a pad electrode of a semiconductor chip, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

配線パターン層と半導体チップのパッド電極との接続信頼性を向上することができる半導体装置とその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Consequently, even if the user carries out nozzle check pattern printing on the same paper a plurality of times, the user is not required to reset paper in a paper feed tray each time.例文帳に追加

これにより、ユーザーは同じ用紙にノズルチェックパターン印刷を複数回に亘って実行する場合でも、その度に用紙を給紙トレイにセットし直す必要がない。 - 特許庁

The plurality of electrodes are exposed to the same plane as an external face in a directly above direction of the conductor pattern among external faces of the transfer mold resin.例文帳に追加

そして、該複数の電極は、該トランスファーモールド樹脂の外面のうち導体パターンの直上方向の外面と同一平面上に露出したことを特徴とする。 - 特許庁

For example, since the sub-array SA1 and the sub-array SA2 belong to the same vibrator region (IV), the common delay pattern is set to the sub-array SA1 and the sub-array SA2.例文帳に追加

例えば、サブアレイＳＡ１とサブアレイＳＡ２は、同じ振動子領域（ＩＶ）に属しているため、サブアレイＳＡ１とサブアレイＳＡ２に対して共通の遅延パターンが設定される。 - 特許庁

For example, since the sub-array SA1 and the sub-array SA2 belong to the same transducer region (IV), the common grouping pattern is set for the sub-array SA1 and the sub-array SA2.例文帳に追加

例えば、サブアレイＳＡ１とサブアレイＳＡ２は、同じ振動子領域（ＩＶ）に属しているため、サブアレイＳＡ１とサブアレイＳＡ２に対して共通のグルーピングパターンが設定される。 - 特許庁

An inter-electromagnetic-valve interval TD between the same electromagnetic valves 32e, 32f and an inter-pattern interval TP between the operation patterns A, B are set in a memory beforehand.例文帳に追加

同一電磁弁３２ｅ，３２ｆ間における電磁弁間インターバルＴＤと、動作パターンＡ，Ｂ間におけるパターン間インターバルＴＰとが予めメモリに設定される。 - 特許庁

Consequently, more accurate search can be attained, as compared with the case where search is performed by the same motion pattern over the whole effective movable angle range.例文帳に追加

これにより、有効可動角度範囲の全体にわたって同じ動きパターンにより探索しようとする場合と比較して、より的確に探索していくことが可能になる。 - 特許庁