「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

The vertical fringe interference pattern projection lens 1 includes a first surface 2 having two projecting parts 3 and 4 which have the same shape and are extended in parallel with each other in a certain direction, and a second surface 5.例文帳に追加

縦縞干渉模様投影レンズ１は、ある方向に並列して伸びる同形状の二つの凸部３，４を有するレンズ第１面２と、レンズ第２面５とを備える。 - 特許庁

The liquid repellent pattern 6 is made by adding a fluorescent substance 8, which is the same as the fluorescent substance 8 contained in the sealing resin 5 sealing an LED chip 4, to a transparent liquid repellent ink.例文帳に追加

撥液パターン６は、透明の撥液インクに、ＬＥＤチップ４を封止する封止樹脂５中に含まれる蛍光体８と同一の蛍光体８が添加されてなる。 - 特許庁

In addition, a projection part 11 arranged in the same pattern as the board terminal 3 in the circuit board 1 is formed in a cable presser 10, while an elastic body 15 is mounted on the projection part 11 side.例文帳に追加

さらにケーブル押え１０には回路基板１の基板端子３と同じ配置の凸部１１が形成され、凸部１１側に弾性体１５が取付けられている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can prevent the deformation of a pattern or contact failure due to optical proximity effect, and to provide a mask for exposure used for the same.例文帳に追加

光近接効果によるパターンの変形や配線間のコンタクト不良を防止しうる半導体装置の製造方法、並びにこれに用いる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

The scanning equi-speed stroke length on the mask stage 101 is made longer than the conventional exposure apparatus having a scale down to 1/4 so that the pattern writing area is the same.例文帳に追加

マスクステージ１０１におけるスキャンの等速度ストローク長を従来の１／４に縮小される露光装置より長くすることで描画領域が同一になるようにする。 - 特許庁

To provide a novel method of applying a coating liquid, a method for forming a coated film, a method of forming a pattern using the same, and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

新規な塗布液の塗布方法、塗膜の形成方法、ならびにそれを利用したパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A base raising pattern 17 consisting of the same layer as a light shielding film 16 is formed in a seal attachment area B, and the flattening film 19 of the seal attachment area B is made ultrathin.例文帳に追加

シール付設領域Ｂに、遮光膜１６と同一の層によりなる底上げパターン１７を形成し、シール付設領域Ｂの平坦化膜１９を極薄化する。 - 特許庁

Even when a mold of the same cavity shape is used, the mode of light diffusion is changed easily only by changing the light diffusion pattern provided on the light diffusion sheet 10.例文帳に追加

同じキャビティ形状の金型を使用しても、光拡散シート１０に設けられる光拡散パターンを変更するだけで、光拡散の態様を容易に変更できる。 - 特許庁

To provide an air shower head, which can prevent contamination of a photoresist layer on a wafer, due to chemical substances and the deterioration in pattern profile of the wafer, and also to provide a photolithography system using the same.例文帳に追加

化学物質によるウェーハ上のフォトレジスト層の汚染とウェーハのパターンプロファイルの低下とを防止するエアシャワーヘッド及びそれを用いたフォトリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a UBM (Under BUMP Metal) for realizing a micro solder/ball configured from a relief pattern structure and a flip chip/package method using the same.例文帳に追加

陽刻パターン構造から構成された微細ソルダ・ボール具現のためのＵＢＭ(Ｕｎｄｅｒ ＢＵＭＰ Ｍｅｔａｌ)及びこれを利用したフリップチップ・パッケージ方法を提供する。 - 特許庁

To accurately retrieve information inside one printing surface on the basis of an index of a reference position and one coded pattern provided on the same printing surface of a print medium.例文帳に追加

印刷媒体の一の印刷面に設けられた一つのコード化パターンと基準位置の指標に基づいて、同一の印刷面内の情報を的確に検索できるようにする。 - 特許庁

The width of the middle 13c of a stripe pattern of the n-type buffer layer 13 is the same as the conventional one and a source layer 16 is disposed as to correspond to the middle 13c.例文帳に追加

しかも、ｎ型バッファ層１３のストライプ・パターンの中間部１３ｃの幅は、従来と同様であり、ソース層１６は、中間部１３ｃに対応して配置されている。 - 特許庁

One theory points out the similarity between the highest-ranking deity of Sumer, Marduk, and Taishakuten Indra, and the pattern of Ashura and Taishakuten is exactly the same as the one of Ashur and Marduk. 例文帳に追加

シュメールの最高神マルドゥークと帝釈天インドラの類似性を指摘する説もあり、阿修羅と帝釈天の構図はアッシュルとマルドゥークの構図と全く同じである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The semi-transmitting region is a common-phase semi-transmitting portion 2 having a property of giving the same phase in the transmitting light as the phase of the light transmitting the light transmitting opening pattern 4.例文帳に追加

この半透過領域は、透過した光が、光透過用開口パターン４を透過した光と同位相となる性質を有する同相半透過部２となっている。 - 特許庁

A medal original plate 78 falling along a guide rail 77 of the die plate forming mechanism is rolled by a rolling roll and a die plate mounting roller, and at the same time a pattern of the die plate is transferred.例文帳に追加

版形成機構の案内レール７７を落下したメダル原板７８は圧延ローラと版取付ローラにより圧延されつつ版の模様が転写される。 - 特許庁

The roll coating apparatus 101 is provided with three rolls; a metering roll 102, a gate roll 103, and a pattern roll 104 and they are arranged horizontally and rotated all in the same direction.例文帳に追加

ロールコート装置１０１は、メタリングロール１０２、ゲートロール１０３、パターンロール１０４の３のロールを備え、これらは水平配置され、全て同じ方向に回転する。 - 特許庁

To provide a new compound excellent in sensitivity and the degree of resolution in resist uses, and useful for maintaining a pattern form well, and a method for producing the same.例文帳に追加

レジスト用途において、感度、解像度に優れるとともに、パターン形状を良好に維持するのに有用な新規化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-columnar electron beam exposure device and a method of multi-columnar electronic beam exposing which can perform the exposure of the same pattern in a plurality of columns even with finely variable rectangular beams.例文帳に追加

微細な可変矩形ビームでも、複数のコラムで同じパターンの露光ができるマルチコラム型電子ビーム露光装置及びマルチコラム型電子ビーム露光方法を提供すること。 - 特許庁

A result of the photography executed based thereon, a predetermined data processing is executed (S409-S413) for producing a code pattern (S414) so as to print the same (S415).例文帳に追加

そして、これに基づいて撮影された結果について、所定のデータ処理を行ない(Ｓ４０９〜Ｓ４１３)、コードパターンを作成して(Ｓ４１４)それを印刷する(Ｓ４１５)。 - 特許庁

To provide a photosetting image recording material having high sensitivity and giving high rectangularity of a pattern shape and a color filter using the same, and to provide a method for manufacturing the color filter with a high cost performance.例文帳に追加

高感度であり、パターン形状の矩形性が高い光硬化性画像記録材料およびこれを用いたカラーフィルターを提供することを目的とする。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN-FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL ELEMENT, GATE INSULATING FILM AND THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

According to the structure of the building board 10, each projected pattern section 12 is formed of a surface area 14 and an inclined area 13 surrounding the same, and the inclined area 13 has minute asperities W formed thereon.例文帳に追加

建築板１０の凸模様部１２が表面部１４とその周囲の斜面部１３とからなっていて、斜面部１３には微細凹凸Ｗが形成されている。 - 特許庁

To provide a paper deaper capable of stably and efficiently performing the printing of a pattern, cutting or the like with respect to a film sheet, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

フィルムシートに対する絵柄の印刷や、切断等を、より安定且つ高効率に行うことができる紙おむつ及び紙おむつの製造方法を提供する。 - 特許庁

As for the reticle, a diffusion surface Fsa is constituted by arranging a large number of one or plural kinds of random pattern structure, and a display screen FSb is constituted at the same plane as that of the diffusion surface Fsa.例文帳に追加

１種類又は複数種類のランダムパターン構造を多数配置することにより拡散面(FSa)を構成し、拡散面(FSa)と同一面上に表示面(FSb)を構成する。 - 特許庁

To provide a repairing material supplying device which can certainly hold a minute repairing material by a required holding force to enable precise positioning, and to provide a pattern repairing device equipped with the same.例文帳に追加

微小な修復材を所定の把持力で確実に把持し、正確な位置決めが可能な補修材供給装置およびこれを備えたパターン補修装置を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable circuit board which can prevent stress load due to a difference in a wiring density of wiring pattern layers, and to provide a circuit apparatus using the same.例文帳に追加

配線パターン層の配線密度の差に起因する応力負荷が低減された、高い信頼性を有する回路基板およびそれを用いた回路装置を提供する。 - 特許庁

Each eaves soffit material A has a face on a lower side thereof, in which a grid pattern 6 formed by intersecting a number of longitudinal lines 4 with transverse lines 5 each other at right angles at same intervals.例文帳に追加

軒天井材Ａの下面側の化粧面に、同じ間隔で多数本の縦線４と横線５を直交させて形成されるグリッド模様６を設ける。 - 特許庁

The switch includes: a movable electrode 5 with three or more contact parts 52 formed on the same radius circle from a rotation center L; and a solid electrode 8 equipped with a first electrode pattern having one or more contacted parts 81a, a second electrode pattern having one or more contacted parts 81b, a common electrode pattern having one or more contacted parts 81c, and a ground electrode pattern having one or more contacted parts 81d.例文帳に追加

回転中心Ｌから同一半径円上に三以上の接触部５２が形成された可動電極５と、一以上の被接触部８１ａを有する第一電極パターン・一以上の被接触部を８１ｂ有する第二電極パターン・一以上の被接触部８１ｃを有する共通電極パターン・一以上の被接触部８１ｄを有する接地電極パターンを備えた固定電極８とを備えている。 - 特許庁

In the semiconductor wafer which serves as a TEG by which a watermark can be easily detected, there are provided a first region including a first watermark detecting pattern in which the same patterns are repeated and arranged in a first direction and a second region that includes a second watermark detecting pattern, in which the same patterns are repeated and arranged in a second direction orthogonal to the first direction.例文帳に追加

ウォータマークの検出を容易にしたＴＥＧとしての半導体ウェハとして、同じパターンの繰り返しが第１方向に並ぶ第１ウォータマーク検出パターンを含む第１領域と、同じパターンの繰り返しが上記第１方向と直交する第２方向に並ぶ第２ウォータマーク検出パターンを含む第２領域とを設ける。 - 特許庁

Error diffusion based on multiplication coefficients having the same arrangement is performed for each of left-eye and right-eye images of the same frame, a dither pattern corresponding to the frame is selected from plural dither patterns having mutually different distributions of additional coefficients, and additional coefficients are given to image data of each image subjected to error diffusion based on the selected dither pattern.例文帳に追加

同一フレームの前記左目用及び右目用の各画像に対して同一の配列の乗算係数に基づく誤差拡散を行い、付加係数の分布が互いに異なる複数のディザパターンから前記フレームに応じたディザパターンを選択し、選択したディザパターンに基づいて、誤差拡散が施された前記各画像の画素データに付加係数を付与する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

In an ink jet recording head 10, a drive IC 21 has same number of output pads 211 being connected with an output signal pattern 23 formed on a flexible board 200 for TAB as nozzle openings and same number of input pads 212 being connected with an input signal pattern 22 formed on the flexible board 200 as the nozzle openings.例文帳に追加

インクジェット式の記録ヘッド１０において、駆動ＩＣ２１は、、ＴＡＢ用のフレキシブル基板２００に形成されている出力信号パターン２３と接続する出力パッド２１１をノズル開口の数と同数備えているとともに、フレキシブル基板２００上の入力信号パターン２２に接続する入力パッド２１２もノズル開口の数と同数備えている。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device dispensing with the strict setting of a judge threshold value when an inspection image signal detected from an object to be inspected having a circuit pattern formed thereon by charged corpuscular beam or the like is compared with a reference image signal to judge a flaw on the basis of the judge threshold value to inspect the same, and an inspection method using the same.例文帳に追加

回路パターンなどが形成された被検査対象物から荷電粒子線等によって検出される検査画像信号と参照画像信号とを比較して判定しきい値により欠陥を判定して検査する際、厳密な判定しきい値を設定することを不要にしたパターン検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a graphic pattern specifying system and a graphic pattern collation system, capable of specifying easily an optional graphic pattern in a plurality of displayed graphic patterns, capable of specifying easily an electric facility material or the like required for architectural construction, from a diagram of low resolution printed in a paper medium, and for conducting speedily the integration therefor, and an integration system using the same.例文帳に追加

表示された複数の図形で任意の図形を簡単に特定することができ，ひいては，解像度が低く紙媒体に印刷された線図から，建築に必要な電設資材等を簡単に特定し，これらの積算をスピーディに行うための，図形特定システム，図形照合システム，及びこれを用いる積算システムを提供する。 - 特許庁

The continuous pixel number counter 14 counts a number of pixels which continue in the same density based on the input density agreement flag, a continuous pixel number comparator 15 compares the counted value with a continuous number of pixels (a pattern pixel number) of the trace pattern which is memorized beforehand, and if they agree, the comparator outputs a continuous pixel number agreement flag which shows that the trace pattern is detected.例文帳に追加

連続画素数カウンタ１４は入力された濃度一致フラグに基づき同一濃度で連続する画素数をカウントし、連続画素数比較器１５はこのカウント値と予め記憶した追跡パターンがもつ画素の連続数（パターン画素数）を比較し、一致した場合に追跡パターンが検知されたことを示す連続画素数一致フラグを出力する。 - 特許庁

This inspecting substrate used for inspecting the position detecting device for optical state is provided with a first pattern (SP) having a first structural configuration, a second pattern (MP) having a second structural configuration which is different from the first pattern (SP), and correction patterns (CSP and CMP) respectively having the same patterns as the first and second patterns (SP) and (MP).例文帳に追加

位置検出装置の光学状態を検査するために用いられる本発明の検査用基板は、第１の構造形態を有する第１パターン（ＳＰ）と、第１の構造形態とは異なる第２の構造形態を有する第２パターン（ＭＰ）と、第１パターンおよび第２パターンの全体と同じパターンを有する補正パターン（ＣＳＰ，ＣＭＰ）とを備えている。 - 特許庁

In the image processing apparatus, a pattern detecting section 53 detects a specific pattern in inputted image data, and when a system controller 6 detects a previously set specific pattern, the system controller 6 prohibits the output of the image data, and at the same time, imposes usage restriction complying to a management table on a user who has tried to execute the output of the image data.例文帳に追加

パターン検知部５３によって入力された画像データ内の特定のパターンを検知し、予め設定された特定のパターンをシステムコントローラ６によって検知したときは、システムコントローラ６がその画像データの出力処理を禁止すると同時に、その画像データの出力を実行しようとした使用者に対して管理テーブルに従った使用制限を課す。 - 特許庁

To provide a pattern data conversion method and a pattern data conversion device for, in the case of extracting an outline from an SEM image and converting the contour into polygon coordinate data such as GDSII (General Data Stream), reducing the number of coordinate points configuring the contour as much as possible, and at the same time, suppressing the fluctuation of a pattern shape so as to be an extent that transfer simulation is not affected.例文帳に追加

ＳＥＭ画像から輪郭線を抽出してＧＤＳＩＩなどのポリゴン座標データに変換する際に、輪郭を構成する座標点数をなるべく少なくすると同時に、パターン形状の変動を転写シミュレーションに影響がない程度に抑えるパターンデータ変換方法及びパターンデータ変換装置を提供する。 - 特許庁

To provide a patterned composite resin molded object having a pattern formed by a material itself, not losing a flat grain pattern even if a surface is abraded because the pattern is formed in the direction right-angled to an extrusion direction to reach up to a depth direction and imparting appearance near to that of natural wood, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

材料自体によって模様が形成されていると共に、押出方向に対して直角方向に模様があり、さらには該模様が深さ方向にまで及ぶため、表面が摩耗しても板目模様が消去せず、天然の木材に近い外観を与える模様付複合樹脂成形体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By adding the subsidiary pattern in the hole as separated by a designated distance from the ring gate pattern 122 having a vertical symmetric structure, variation of critical dimensions (CD) in a pair of ring gate patterns having a vertical symmetric structure is reduced, where CD due to lens aberration between adjacent patterns must be the same, and a fine pattern is precisely formed.例文帳に追加

上下対称構造を有するリングゲートパターン１２２の穴中に一定距離離隔して補助パターン１２４を追加することによって、隣り合うパターン間で生じるレンズ収差によるＣＤが一致しなければならない１対の上下対称構造を有するリングゲートパターン間の臨界寸法変化を減らし、微細化パターンを正確に形成することができる。 - 特許庁

The GPU 15 specifies a shape of a diagram being a plotting object, and selects a kind of interleave pattern adapted to the specified diagram shape, and sets so that the same pattern does not overlap in the interleave patterns even when any kind of interleave pattern is selected in the picture element areas designated by the frame buffer 18.例文帳に追加

ＧＰＵ１５は、描画対象となる図形の形状を特定し、特定された図形の形状に適合するインターリーブパターンの種類を選定するとともに、フレームバッファ１８で指定される画素領域が、どの種類のインターリーブパターンが選定された場合であっても当該インターリーブターン内で同一のものが重複しないように設定する。 - 特許庁

In the case of a probability variable state and a variation shortening state, a CPU for main control determines an exclusive variation pattern in the predetermined fiftieth symbol variation game after the game state is attained, and determines a different variation pattern without determining the exclusive variation pattern in the other specific symbol variation game in the same game state.例文帳に追加

主制御用ＣＰＵは、確変状態及び変短状態である場合において、その遊技状態となってから予め定められた５０回目の図柄変動ゲームでは、専用の変動パターンを決定する一方、同じ遊技状態でそれ以外の特定図柄変動ゲームでは、専用の変動パターンを決定することなく、別の変動パターンを決定する。 - 特許庁

A correlator 201 inputs input data Sa transmitted by inserting a fixed pattern for establishing the time slot synchronization into the same fixed position of the respective unique words indicating specific information for each time slot, and acquires correlated result data Sc by performing the correlation arithmetic operation of the fixed pattern in the unique word of the time slot with a reference pattern Sb.例文帳に追加

相関器２０１が、タイムスロットごとの固有情報を示すユニークワードのそれぞれの同一の固定位置にタイムスロット同期を確立するための固定パターンを挿入して伝送された入力データＳａに対して、タイムスロットのユニークワードにおける固定パターンを参照パターンＳｂと相関演算した相関結果データＳｃを得る。 - 特許庁

To provide a pattern matching method by which, even when almost the same enumerated parts are present in a pattern for example, pattern matching of design data and images acquired by an image formation device or the like can be performed in high accuracy; and to provide its program and a device therefor, concerning a method, a program, and a device suitable for specifying information on unevenness in the design data.例文帳に追加

本発明の目的は、設計データ内の凹凸情報を特定するのに好適な方法，プログラム及び装置の提供に係り、一例として同じような部分が羅列するようなパターンであっても、設計データと、画像形成装置等で取得された画像との間のパターンマッチングを高精度に行い得る方法，プログラム及び装置の提供にある。 - 特許庁

In a blank pattern combination game (b) which is performed before a big jackpot symbol combination game ((c) and (d)) for introducing a symbol combination for a big jackpot and introduces a blank symbol combination, a pattern of the same kind as a big jackpot pattern which will form the symbol combination for the big jackpot is displayed in a display region H.例文帳に追加

大当りの図柄組み合わせが導出される大当りの図柄組み合わせゲーム（図９（ｃ），（ｄ））よりも前に行われ、はずれの図柄組み合わせが導出されるはずれの図柄組み合わせゲーム（図９（ｂ））において、前記大当りの図柄組み合わせを形成することになる大当り図柄と同一種類の図柄を表示領域Ｈに表示させる。 - 特許庁