「sample chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

In this light analyzer, vacuum pumps 7 and 13 are provided evacuating a gas cell 1 and a sub-chamber 2 connected to the gas cell 1, and after the evacuation, sample gas produced by heating a sample M inside the sub-chamber 2 is transferred to the gas cell 1 for performing the gas analysis.例文帳に追加

ガスセル１と、これに連結されたサブチャンバー２とを真空排気する真空ポンプ７・１３を設け、真空排気後に、サブチャンバー２内の試料Ｍを加熱して発生した試料ガスをガスセル１へ移送させてガス分析を行う。 - 特許庁

An immersion sensor for analyzing the liquid or the melt with an immersion carrier, sets a sensor for measuring the melt arranged in a sample chamber, and the immersion carrier has a sample chamber with an inlet opening arranged therein.例文帳に追加

浸漬キャリアを有する、液体、又は溶融物の分析のための本発明による浸漬センサは、試料チャンバの中に配置された溶融物を測定するためのセンサを定め、浸漬キャリアは、中に配置された注入口開口部を有する試料チャンバを有する。 - 特許庁

A pressure piston 21 is energized to a piston 19 side by the extension of the piezo elements 27a, 27b, a space between the piston 19 and the pressure piston 21 is pressurized, the piston 19 is energized to a sample chamber 3 side, and the sample chamber 3 is pressurized through a high-pressure channel 15.例文帳に追加

ピエゾ素子２７ａ，２７ｂの伸張により加圧用ピストン２１はピストン１９側へ付勢され、ピストン１９と加圧用ピストン２１との間の空間内が加圧され、ピストン１９は試料室３側へ付勢され、高圧流路１５を介して試料室３内が加圧される。 - 特許庁

This sample tube holder has a hard main body 12 provided with at least one long chamber 13 for receiving longitudinal-directional portions of the sample tubes 21, 22, and garter springs 31, 32, 33, 34 engaged with the chamber 13 and arranged in an outside thereof.例文帳に追加

この試料管ホルダーは、試料管（２１、２２）の長手方向部分を受理するための少なくとも１つの長尺チャンバー（１３）を具備してなる硬質本体（１２）と、このチャンバー（１３）と係合し、その外側に配置されたガーターバネ（３１、３２、３３、３４）とを有する。 - 特許庁

When the operator loads a column and selects a sample vaporization chamber and a detector to be used in accordance with an environmental configuration (S1), either a filling column analysis or a capillary column analysis is determined according to the selected sample vaporization chamber (S2); and according to each analysis, default values of the filter time constants are set (S3).例文帳に追加

オペレータがカラムを装着して環境設定により使用する試料気化室及び検出器を選択すると（Ｓ１）、選択された試料気化室に応じて充填カラム分析／キャピラリカラム分析のいずれかが判定され（Ｓ２）、各分析に応じてフィルタ時定数のデフォルト値が定まる（Ｓ３）。 - 特許庁

Since a mechanism (a rolling guide 21 or a magnetic levitation guide) for moving a sample chamber 3 horizontally relative to an electrooptical lens-barrel 1 is provided, vibration of the sample chamber 3 due to fluctuation in the inertia of a stage is not transmitted directly to the electrooptical lens- barrel 1.例文帳に追加

試料室３が電子光学鏡筒１に対して水平方向に移動できる機構（転がり案内２１または磁気浮上案内）を備えることにより、ステージ慣性力の変動により生ずる試料室３の振動は電子光学鏡筒１に直接伝達しない。 - 特許庁

The foul breath-measuring instrument comprises a sensor S at a chamber C where sample air is supplied, and a processing unit U for continuous measurement using the sensor S over set time when the sample air is supplied into the chamber C and for displaying the measured result on a liquid display D.例文帳に追加

サンプルエアーが供給されるチャンバーＣにセンサＳを備え、このチャンバーＣ内にサンプルエアーが供給された場合には、設定された時間に亘ってセンサＳでの測定を継続的に行い、この測定の結果を液晶ディスプレイＤに表示する処理ユニットＵを備えた。 - 特許庁

To provide an X-ray analyzer capable of analyzing a sample incapable of specifying an analytical position, by imaging clearly an analytical object position from the outside of an analytical chamber, in regard to the sample inside the analytical chamber provided with an imaging window having a thick window material.例文帳に追加

本発明は厚い窓材を有する撮像窓を備える分析室内の試料に対して、分析室外から分析対象位置を鮮明に撮像できるようにして、分析位置の特定ができなかった試料の分析を可能にするＸ線分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reaction vessel for efficiently conducting heat to a temperature conditioning member by flexibly deforming a reaction chamber along the shape of the temperature conditioning member when the reaction chamber which houses a reaction sample comes into contact with the temperature conditioning member and for accelerating the reaction of the reaction sample.例文帳に追加

反応試料を収容する反応室が温調部材に接触したときに、反応室が温調部材の形状に沿って柔軟に変形することで、温調部材に熱を効率良く伝えることができ、これにより反応試料の反応を促進することができる反応容器を提供する。 - 特許庁

A sample 103 for inspecting the state of adsorption of the gas being provided in the treating chamber 101, infrared light from an infrared light introducing window 104 is irradiated on the sample 103 to measure a reflection-absorption spectrum, and thereby the state of an adsorbed residual gas in the treating chamber 101 is monitored.例文帳に追加

処理室１０１内にガス吸着状態を調べる試料１０３を設置し赤外光導入窓１０４からの赤外光を試料１０３に照射して反射吸収スペクトルを測定し処理室１０１内の吸着残留ガスの状態をモニタする。 - 特許庁

The doping device 10 is equipped with a holding stand 44 to hold the sample 18, a plasma chamber 14 to generate charged particles as plasma, an electrode 32 to accelerate the charged particles toward the sample, and a neutralizing chamber 16 to generate the neutral particles by neutralizing the charged particles which have been accelerated.例文帳に追加

ドーピング装置１０は、試料１８を保持する保持台４４と、荷電粒子をプラズマとして発生させるプラズマ室１４と、荷電粒子を試料に向けて加速する電極３２と、加速された荷電粒子を中性化して中性粒子を生成する中性室１６とを備えている。 - 特許庁

This sample analyzer 1 is equipped with at least one storage chamber 32 capable of housing liquid samples 2, at least one reaction chamber 35 housing the solid samples 3, a liquid-introducing channel 34 for communicating the storage chamber 32 with the reaction chamber 35, and a discharging chamber 36 installed in the vicinity of the reaction chamber 35.例文帳に追加

試料解析装置１は、液体試料２を収容可能な少なくとも一つ以上の貯蔵チャンバ３２と、固体試料３が収容された少なくとも一つ以上の反応チャンバ３５と、貯蔵チャンバ３２と反応チャンバ３５とを連通する液体導入流路３４と、反応チャンバ３５近傍に設けられた排出チャンバ３６と、を備える。 - 特許庁

From the pulse ion beam source 1, pulse ion beams 4 are irradiated to a sample 3 housed in a vacuum chamber 2, and the scattered particles scattered from the sample 3 is measured by the three-dimensional detector 5 arranged at a prescribed distance separated from the sample 3.例文帳に追加

パルスイオンビーム源１から、真空チャンバ２内に収容された試料３にパルスイオンビーム４を照射し、試料３から散乱された散乱粒子を、試料３から所定距離離されて配置された３次元検出器５によって測定する。 - 特許庁

In addition, a gas can be supplied to the sample cell 20 having a sample disposed thereon via the gas supply pipe 26, and a containing space of a decompression chamber 30 containing the sample cell 20 can be decompressed by a diffusion pump 33 and a rotary pump 34.例文帳に追加

また、試料を配置した試料セル２０へガス供給管２６を介してガスを供給可能であり、この試料セル２０を内包した減圧室３０の内包空間を拡散ポンプ３３及びロータリポンプ３４によって減圧可能である。 - 特許庁

A Z movement mechanism 4 is arranged inside a vacuum chamber 2, from which an already-observed sample 12 is moved sideways to take it out, and a standby sample 11 held by the Z movement mechanism 4 is moved downward and is placed on a sample stage 3.例文帳に追加

真空チャンバ２の内部にＺ移動機構４を設置し、観察済試料１２を横方向に移動して真空チャンバ外に取り出すとともに、Ｚ移動機構４が保持する待機試料１１を下方向に移動して試料ステージ３の上に設置する。 - 特許庁

This analytical electron microscope used for detecting an X-ray generated from a sample irradiated by an electron beam is provided with an object lens system comprising an upper magnetic pole and a lower magnetic pole each having a magnetic pole opening for passing the electron beam, and a sample chamber for mounting the sample between the upper magnetic pole and the lower magnetic pole.例文帳に追加

電子線が照射された試料から発生するＸ線を検出する分析電子顕微鏡において、電子線を通過させる磁極孔を有する上側磁極および下側磁極からなる対物レンズ系と、上側磁極と下側磁極との間に試料を載置するための試料室を設ける。 - 特許庁

This sample chamber open type spectrophotometer includes the sample-holding part 2 holding liquid drop-like sample or the blank liquid 4, a light source part 6 for applying a measuring beam to a liquid drop 4, a photodetecting part 8 for detecting a measuring beam transmitted through the liquid drop 4, and a control part 18.例文帳に追加

試料室開放型分光光度計は、液滴状の試料又はブランク液４を保持する試料保持部２、液滴４に測定光を照射する光源部６及び液滴４を透過した測定光を検出する光検出部８及び制御部１８を備えている。 - 特許庁

To provide a laser ablation method in which the amount of a sample irradiated with a laser beam which is introduced into a post stage is large and stable and which is capable of suppressing contamination of a sample chamber, and to provide a sample analysis method, an analytic binder and a manufacturing method of a powder processed material.例文帳に追加

レーザ照射した試料の後段への導入量が多く且つ安定しているとともに、試料室の汚染を抑制することができるレーザーアブレーション方法、試料分析方法、分析用バインダ、及び粉末加工物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a sample preparation device for a large diameter wafer, equipped with an introduction means of a TEM holder capable of preventing pressure increase in a vacuum vessel and contamination, for fixing a sample piece having the size of several μm, enabling quick observation, and having a sample chamber having a small volume.例文帳に追加

真空容器内の圧力の増加や汚染が無く数μｍの試料片が固着されるＴＥＭホルダの導入手段を備え、迅速な観察を可能とする試料室容積が小さい、大口径ウエハ用の試料作製装置を提供する。 - 特許庁

An electrode 12 having a function for generating high frequency plasma and a sample holder 16 for storing a sample 14 of the object of etching treatment are set in an etching chamber 10, and a solid source 18 for etching gas is also arranged on the sample holder 16.例文帳に追加

エッチングチャンバ１０には、高周波プラズマを発生させる等の機能を有する電極１２と、エッチング処理の対象となるサンプル１４を保持するサンプルホルダ１６とが設置され、またサンプルホルダ１６の上にはエッチングガス用の固体ソース１８も配置されている。 - 特許庁

Inside an analysis chamber 3, an electron beam irradiation part 4 is provided to generate electron beams B made to irradiate a sample S, an X-ray spectral detector 5 which spectrally detects X rays R generated from the sample, an electron detector 6 which detects electrons E generated from the sample and the like.例文帳に追加

分析室３の内部には試料Ｓに照射するための電子ビームＢを発生する電子線照射部４や試料から発生するＸ線Ｒを分光して検出するＸ線分光検出部５、試料から発生する電子Ｅを検出する電子検出部６などを備えている。 - 特許庁

The gas sensor array 100 includes at least one radiation sources 102, 104, a gas measuring chamber 110 filled with a gas sample containing at least one measured sample, and at least one radiation detector 108 for generating an output signal depending on the presence of sample and a concentration thereof.例文帳に追加

ガスセンサアレー（１００）は、少なくとも１個の放射源（１０２，１０４）、計測される少なくとも一つの試料を含むガス試料で充填されるガス計測室（１１０）、及び試料の存在、濃度に依存して出力信号を発生する少なくとも１個の放射検出器（１０８）を具備する。 - 特許庁

The ion mobility meter 1 is provided with an ionization device 2 to ionize the sample molecules and a drift chamber 11 to measure mobility of the sample molecule ionized.例文帳に追加

イオン移動度計１は、試料分子をイオン化するイオン化装置２と、イオン化された試料分子の移動度を計測するドリフト室１１とを備える。 - 特許庁

Ion guns 4 are set in the vacuum chamber 2 for projecting ion beams to an upper and a lower surfaces of the sample thereby ion polishing the sample.例文帳に追加

また、真空室２内には、試料の上側表面と下側表面にイオンビームを照射してイオン研磨を行うためのイオン銃４が設けられている。 - 特許庁

A device for dialysis of a sample includes a gasket and a sample chamber formed by a gasket and dialysis membranes affixed to each side of the gasket in facing relationship.例文帳に追加

試料を透析するための装置が、ガスケット、およびガスケットの両面に対向する関係で固定された透析膜によって形成された試料チャンバを備える。 - 特許庁

To provide a sample vaporizing chamber capable of performing analysis good in reproducibility in gas chromatograph analysis or gas chromatograph mass analysis performing injection of sample by a PTV(programmed temp. vaporized) method.例文帳に追加

ＰＴＶ法による試料注入を行うガスクロマトグラフ分析、ガスクロマトグラフ質量分析において、再現性のよい分析を行うことが可能な試料気化室を提供する。 - 特許庁

With this sample holder rotating mechanism, the sample holder 6 can be reversed using an electric motor, with a CVD vacuum chamber 1 being kept in vacuum condition.例文帳に追加

このサンプルホルダー回転機構を備えることにより、電動モーターを用いることなく、CVD真空チャンバー１を真空に保持したままサンプルホルダー６を反転できる。 - 特許庁

When the thermoelectron passing through a rectangular thermoelectron passing hole H extending in the drawing direction (y-axis direction) of the ion from a filament F is impacted against a sample gas introduced in an ionization chamber IC, the ion is generated from the sample gas.例文帳に追加

イオン化室ＩＣ内に導入された試料ガスに、フィラメントＦから、イオンの引出方向（ｙ軸方向）に延びる矩形の熱電子通過孔Ｈを通ってくる熱電子が衝撃すると、試料ガスからイオンが発生する。 - 特許庁

The sample is introduced in a sample chamber in the EDX analyzer 9 and irradiated with electron rays, and then a characteristic X-ray peak of a nitrogen element is analyzed from an EDX spectrum, thereby checking the presence of the lithium.例文帳に追加

ＥＤＸ分析装置９内の試料室へ試料を導入し、試料に電子線を照射しＥＤＸスペクトルより、窒素元素の特性Ｘ線のピークを分析することにより、リチウムの存在が可能となる。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope suitable for measuring an accurate probe current at the time of sample observation, even in a sample chamber held in lower vacuum than the inside of a microscope body part.例文帳に追加

鏡体部内よりも低い真空に保たれた試料室においても、試料観察時に正確なプローブ電流を測定するのに適した走査電子顕微鏡を提供すること。 - 特許庁

To provide a sample-positioning apparatus for compactly integrating a mechanism for receiving/transferring a sample irradiated with an ion beam or an electron beam, and a mechanism for positioning in a vacuum chamber having severe spatial constraints.例文帳に追加

スペース的な制約が厳しい真空容器内で，イオンビームまたは電子ビームを照射する試料を受取り・受け渡しする機構と位置決めする機構をコンパクトにまとめた試料位置決め装置を提供すること。 - 特許庁

Furthermore, because the optical microscope 15 is out of a vacuum chamber, when an ion etching process of the sample 6 is carried out, no stain caused by particles dispersed from the sample in the ion etching process is formed on a lens of the optical microscope 15.例文帳に追加

また、試料６のイオンエッチングの際には光学顕微鏡１５が真空チャンバ外にあるので、イオンエッチングによって試料から飛散した粒子で光学顕微鏡１５のレンズが汚れることはない。 - 特許庁

A microsphere internally including magnetic particles is agitated with a whole blood sample in a mixing chamber 12 and is connected to a blood ingredient (red blood cell) of the whole blood sample.例文帳に追加

内部に磁気粒子を含む微小球体は混合チャンバー１２の中で全血サンプルと共に攪拌され、微小球体が全血サンプルの血液成分（赤血球）に結合する。 - 特許庁

Microwave and plasma-produced gas are introduced into a processing chamber 2, and high frequency voltage is applied to a sample bed 3 for plasma processing on the sample W.例文帳に追加

処理室２内にマイクロ波及びプラズマ生成ガスが導入され、試料台３に高周波電圧が印加されて試料Ｗにプラズマ処理が施される。 - 特許庁

When the confluent solution is discharged before being naturally mixed, the adhesion of the sample solution to the peripheral wall of the confluent chamber 10 is prevented because the sample solution is surrounded by the diluent.例文帳に追加

試料液が希釈液に包囲されることにより、合流液がその自然混合前に排出されると、試料液が合流チャンバ１０の周壁へ付着しなくなる。 - 特許庁

The residual gas eliminating mechanism 25 ionizes residual gas remaining inside the sample chamber 3 so as to electrically collect and eliminate it, and particularly, hydrocarbon in the residual gas is prevented from adhering to the sample 16 surface.例文帳に追加

この残留ガス除去機構２５は、試料室３内に存在する残留ガスをイオン化し電気的に収集して除去する機構を有しており、特に残留ガス中のハイドロカーボンが試料１６表面に付着するのを防止する。 - 特許庁

A sample observation part 50 has an electronic lens system consisting of a cathode lens 1, an intermediate lines 2 and a projection lens 3 in order to observe the sample 9 in a vacuum chamber 6.例文帳に追加

試料観察部５０は、真空チャンバ６内の試料９を観察するための、カソードレンズ１と、中間レンズ２と、投影レンズ３とからなる電子レンズ系を有する。 - 特許庁

The ratio anechoic chamber 10 reflects electromagnetic waves radiated from a sample under test 14 up from an installation area of the sample 14 toward measuring positions P1, P2,..., Pn on the floor surface 18, according to the radiating direction of the waves.例文帳に追加

電波暗室１０は、被試験体１４の設置領域の上方に、被試験体１４から放射された電磁波を、その放射方向に応じた床面１８側の測定位置(P1,P2,・・・,Pn)に向けて反射する。 - 特許庁

Alternatively, the temperature of the sample 6 surface is monitored and when the temperature of the sample 6 surface has become nearly the same as the temperature in a vacuum chamber, focused charged particle beam etching processing or deposition processing is started.例文帳に追加

あるいはサンプル6表面の温度をモニターし、サンプル6表面の温度が真空内の温度とほぼ同じになってから集束荷電粒子ビームエッチング加工またはデポジション加工を開始する。 - 特許庁

To provide a sample analyzing method capable of effectively removing the particulates bonded to the inner walls of both of a sample chamber and a connection tube.例文帳に追加

試料室及び接続チューブの内壁に付着した微粒子を効果的に除去することができる試料分析方法及び試料分析装置を提供する。 - 特許庁

The movement of the movable portion to the second position causes a pressure drop to transport the biological sample into the sample chamber from the at least one reservoir.例文帳に追加

第２の位置への移動可能な部分の移動は、圧力低下を生じ、少なくとも１つのレザバからサンプルチャンバへの生物学的サンプルを移動させる。 - 特許庁

The sample 1 inside a vacuum chamber 20 is irradiated with a prescribed incident beam 2, and the secondary ions 3 scattered from the surface of the sample 1 are passed through an electric field by a qudrupole electrode 4 so as to be then detected by an ion detector 13.例文帳に追加

真空容器２０内の試料１に所定の入射ビーム２を照射して試料１表面から飛散させた２次イオン３を四重極電極４による電場に通過させた後にイオン検出器１３により検出する。 - 特許庁

Also, in the analysis chamber, a sample electrode surface 22 for placing a sample 20 is arranged so that distance to a counter electrode 24 is electrically closer than that to a peripheral wall 11.例文帳に追加

また、分析チャンバーは、試料２０を載置する試料電極面２２を、対向電極２４までの距離が周壁１１までの距離より電気的に近くなるように配設する。 - 特許庁

The pressure regulating means is constituted of a piping 18 for supplying inert gas to the inside of at least one out of the sample chambers 10a, 20a, or for discharging the gas inside the sample chamber.例文帳に追加

この圧力調整手段は、各試料室１０ａ，２０ａのうち少なくとも一方の試料室内へ不活性ガスを供給するか又は同試料室内のガスを放出する配管１８で構成することができる。 - 特許庁

The thickness adjustment part 5a is a circular ring having a rectangular cross section and arranged so that the etching rate of the sample S placed on a sample stand 9 in a reaction chamber 10 corresponds to the highest region.例文帳に追加

厚み調整部５ａは、矩形断面を有する円環であり、反応室１０内部の試料台９に載置される試料Ｓのエッチングレートが最も高い領域に対応するように配置してある。 - 特許庁