「sample distribution」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an elemental distribution analytical method having excellent depth direction resolution intersecting an analytical object plane, when the analytical object plane is on the deep position from the sample surface or is inclined with respect to the sample surface.例文帳に追加

分析対象面が試料表面から深い位置にある場合、又は試料表面に対して傾斜している場合に、分析対象面に交差する深さ方向分解能の良い元素分布分析方法を提供する。 - 特許庁

Next, a second sample is irradiated with the cesium ions on the condition that the incidence angle is zero, and the acceleration energy is 1 keV, then secondary ions emitted by the second sample is subjected to the mass spectrometry, thereby measuring a distribution of the impurity element.例文帳に追加

次に、入射角が０度、加速エネルギーが１ｋｅＶの条件でセシウムイオンを第２の試料に照射し、第２の試料から放出される二次イオンを質量分析して不純物元素の分布を測定する。 - 特許庁

By taking a different frequency from a resonance frequency of the cantilever 1 as a frequency of the alternating current applied to the sample 5, the magnetic field distribution generated from the sample 5 can be measured at a high speed.例文帳に追加

試料５に印加する交流電流の周波数を、カンチレバー１の共振周波数とは異なる周波数とすることによって高速に試料５から発生する磁界分布を測定することが出来る。 - 特許庁

To perform accurate imprinting even when a mold and a sample are somewhat bad in flatness, to suppress formation of an isolated noncontact area when the mold and sample come into contact with each other, and to make a pressure distribution on a contact plane between the mold and sample uniform in an easy method.例文帳に追加

モールドと試料の平坦性が少々悪くても正確なインプリントを行うことができ、モールドと試料との接触時に孤立した非接触領域が生じるのを抑制し、またモールドと試料の接触面での圧力分布を簡単な手法により均一化できるようにする。 - 特許庁

A function model creation unit 140 classifies sample functions into a plurality of groups on the basis of a conformity degree of each sample function calculated by using an appearance distribution of an operation code at each sample function, and creates function models indicating the appearance distributions of the operation codes in the groups for each classified group.例文帳に追加

関数モデル生成部１４０は、各サンプル関数におけるオペコードの出現分布を用いて算出した各サンプル関数同士の適合度に基づき、各サンプル関数を複数のグループに分類し、分類したグループごとに、グループにおけるオペコードの出現分布を示す関数モデルを生成する。 - 特許庁

Since the harmonics A generate a phase shift between themselves and fundamental waves while they are propagated in the sample 12, the refractive-index distribution inside the sample 12 can be obtained when the harmonics are made to interfere with harmonics (harmonics B) generated from the fundamental waves by a harmonic generation crystal 14 outside the sample 12.例文帳に追加

この高調波Ａは、試料１２を伝播する間に基本波との間で位相ズレを生じるため、試料１２外で高調波発生結晶１４により基本波から生成した高調波（高調波Ｂ）と干渉させることにより、試料１２の屈折率分布を得ることができる。 - 特許庁

This optical system characteristics discrimination method includes a first step for detecting the reflected light of the sample to form the histogram related to the intensity distribution of the reflected light in the sample, and a second step for analyzing the histogram formed in the first step that discriminates the characteristics of the sample.例文帳に追加

試料の反射光を検出して該試料における反射光の強さの分布に関するヒストグラムを作成する第１ステップと、 前記第１ステップで作成した前記ヒストグラムを解析して前記試料の特性を判別する第２ステップと、 を備える光学方式特性判別方法である。 - 特許庁

When mass balance exists between a sample arranged in a well 4 and a solution 5 surrounding the sample, the nonuniform concentration distribution of a measuring object formed in the well 4 is measured, to thereby quantitate a mass transfer rate between the sample and the solution 5.例文帳に追加

ウェル４内に配置された試料とこの試料を取り囲む溶液５間に物質収支が存在する場合に、前記ウェル４内に形成された計測対象物の不均一な濃度分布を計測することにより、前記試料−溶液５間の物質移動速度を定量する。 - 特許庁

A device includes a light source 14 for irradiating a sample 30 with light; a camera 32 for detecting fluorescence from the sample 30; and a means for determining degreasing uniformity and a degreasing condition of the sample 30 by using at least two indexes, namely, a first index acquired by subjecting a fluorescence intensity distribution to space pattern analysis and a second index acquired, by subjecting the fluorescence intensity distribution to statistical analysis.例文帳に追加

試料３０に光を照射する光源１４と、試料３０からの蛍光を検出するカメラ３２と、蛍光の強度分布を空間パターンの解析で得られる第１の指標と、蛍光の強度分布を統計解析して得られる第２の指標の少なくとも２つの指標を用いて、試料３０の脱脂の均一性及び脱脂の度合いを判定する手段を有する。 - 特許庁

A noncontact temperature measuring device 1 measures the temperature distribution of a sample stand and comprises: a sample base 10 placed on the sample stand 20, an electron beam source 2 for applying electron beams; a secondary electron detector 3 detecting secondary electrons induced by the irradiation of electron beams; and a temperature measurement section (signal processing section 7) for measuring temperature distribution, based on the induced secondary electrons.例文帳に追加

非接触温度測定装置１は、試料台の温度分布を測定する装置であり、試料台上２０に載置される試料ベース１０と、電子線を照射する電子線源２と、電子線照射によって誘起される二次電子を検出する二次電子検出器３と、検出した二次電子に基づいて温度分布を測定する温度測定部（信号処理部７）とを備える。 - 特許庁

To enable measurement of the thickness of a sample piece at the same time as that of the distribution of a refractive index and with high-accuracy, and thereby, to enable high-accuracy measurement of the distribution of the refractive index.例文帳に追加

この発明は、試料片の厚さを屈折率分布の計測と同時に、かつ高精度で行うことを可能とし、もって屈折率分布を高精度で計測することを可能とすることを課題とするものである。 - 特許庁

In the measuring process, using a glow discharge light emission analysis method, concentration distribution of a component element in the depth direction from the surface of the sample S is measured.例文帳に追加

測定工程では、グロー放電発光分析法を用いて、試料Ｓの表面からの深さ方向における成分元素の濃度分布を測定する。 - 特許庁

Then, the base material is doped with an element A so as to form the known concentration distribution including at least a concentration region of 1% or higher, thereby providing the standard sample.例文帳に追加

さらに、母材に、少なくとも１％以上の濃度領域を含む既知の濃度分布を形成するように元素Ａをドープして標準試料とする。 - 特許庁

An arithmetic device 7 determines an X-ray absorption spectrum of the sample 10 by operation, based on the intensity distribution detected by the detector 6.例文帳に追加

演算装置７は、検出装置６によって検出された強度分布に基づいて、サンプル１０のＸ線吸収スペクトルを演算により求める。 - 特許庁

In manufacturing a glass bead, the glass bead is reversed upside down after melting and the reversed glass bead is again heated to uniformize the element distribution of the sample in the glass bead.例文帳に追加

ガラスビードの作製において、溶融後にガラスビードの上下を反転させてから、これを再度加熱し、ガラスビード内部の試料の元素分布を均一にする。 - 特許庁

To provide a method for measuring the temperature and the temperature distribution in a chamber with high accuracy, and a method for preparing a sample suitable for temperature measurement.例文帳に追加

チャンバ内の温度，温度分布を高い精度で測定しうる温度測定方法と、温度測定に適したサンプルの作成方法とを提供する。 - 特許庁

Although attenuation arises in the light intensity distribution by attenuated total reflection, the reaction of the sample can be caught by detecting variation of the dark line position.例文帳に追加

光強度分布には、全反射減衰によって減衰が生じるがその暗線位置の変化を検出することで試料の反応を捉えることができる。 - 特許庁

To provide a method for obtaining the mixing ratio distribution image of a titanium oxide sample wherein a anatase type crystal and a rutile type crystal coexist in a non-uniform mixing ratio.例文帳に追加

アナターゼ型結晶とルチル型結晶が不均一に混合共存する酸化チタン試料の混合比分布画像を得る方法を提供する。 - 特許庁

An element distribution image of an objective portion 15 may be also displayed superimposedly on the X-ray image for indicating inside configuration information of the whole sample.例文帳に追加

また、試料全体の内部形態情報を示すＸ線画像に目的部位１５の元素分布像を重ねがきして表示することも可能となる。 - 特許庁

When the purchase of the commodity is desired, the shop information is referred, and when the distribution of commodity is desired, sample providing shop information is referred.例文帳に追加

商品の購入が希望される場合、販売店情報が参照され、商品の配布が希望される場合、サンプル提供店舗情報が参照される。 - 特許庁

Next, with the use of a crystal blank 1 to be inspected, the luminance in the same cross section of the reference sample is computed, then a luminance distribution waveform is detected.例文帳に追加

次に検査しようとする水晶ブランク１を用いて、標準サンプルの同一断面での輝度を求め、それから輝度分布波形を検出する。 - 特許庁

To provide an electron beam probe micro X-ray analytical method capable of analyzing a depth-directional element distribution from a surface of an analyzed sample.例文帳に追加

被分析試料の表面から深さ方向の元素分布分析をすることができる電子線プローブマイクロＸ線分析方法を提供すること - 特許庁

To provide an analog-digital conversion circuit which satisfies simultaneously the requirement of high sample rate and broad range of bit number without using a clock distribution phase shifter.例文帳に追加

クロック分配移相器を用いることなく、高いサンプルレート、幅広いビット数の要求を同時に満たすアナログ・ディジタル変換回路を低コストで提供する。 - 特許庁

To provide a standard sample for depth calibration of secondary ion mass spectrometry which has an impurity concentration distribution in a shallow region like a transition region.例文帳に追加

遷移領域程度の浅い領域に不純物濃度分布を有する二次イオン質量分析法の深さ校正用の標準試料を提供する。 - 特許庁

To easily evaluate the uniformity/non-uniformity of the distribution of carbon nanotubes (CNT) of a specific structure with respect to a membrane like sample in which carbon nanotubes (CNT) are dispersed.例文帳に追加

カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を分散させた薄膜状の試料について、特定の構造のＣＮＴの分布の均一性／不均一性を容易に評価する。 - 特許庁

The light intensity distribution of the speckle pattern corresponding to the non-image part is extracted to calculate an average light intensity, and a pattern sample is generated using it as a threshold.例文帳に追加

そして、非画像部に対応するスペックルパターンの光強度分布を抽出して、平均光強度を算出し、これを閾値としてパターンサンプルを生成する。 - 特許庁

To provide an accuracy management method related to collection and tabulation of accuracy control sample data and distribution of a control chart for inter-facility accuracy control.例文帳に追加

精度管理試料のデータの収集と集計、及び施設間精度管理のための管理図の配信に関する精度管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for measuring fluorescent life distribution image capable of minimizing the damage on a sample such as cells and realizing a measurement in a short time.例文帳に追加

細胞等の試料へのダメージを最小にするとともに、短時間での測定を実現することができる蛍光寿命分布画像測定装置を提供する。 - 特許庁

To measure the refractive index distribution or birefringence rate distribution of a plurality of principal axes in a sample by a precise and rapid method, without being affected by the interference by the front and the rear surfaces of a wafer and the distribution of the thickness of the wafer.例文帳に追加

本発明の目的は、ウエハーの表裏の干渉による影響を受けず、かつウエハー厚みの分布の影響を受けずにより精度が高くかつ迅速な方法で試料の複数の主軸の屈折率分布もしくは複屈折率分布を計測できるようにすることにある。 - 特許庁

When a film thickness distribution is caused by the density etc., of a pattern in a local area on the sample like a chip on a wafer, the film thickness distribution on the whole surface of the sample is found based on the film thicknesses of divided areas by finding the film thickness values representing the divided areas by continuously detecting the spectroscopic waveform at every divided area.例文帳に追加

又、ウェハにおけるチップのように試料上の局所的領域でパターンの密度等による膜厚分布が生じる場合、区分領域毎に分光波形を連続的に検出し、その区分領域を代表する膜厚値を求め、区分領域の膜厚を基に試料全面の膜厚分布を求める。 - 特許庁

To provide a method and device for acquiring a sample electric potential distribution image with a probe capable of catching fine voltage fluctuation of a sample.例文帳に追加

本発明は探針による試料電位分布像の取得方法及び装置に関し、試料の微小電圧変動を捉えることが可能な探針による試料電位分布像の取得方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The device includes a substrate which defines a sample-distribution network having (i) a sample inlet, (ii) one or more detection chambers, and (iii) channel means providing a dead-end fluid connection between each of the chambers and the inlet.例文帳に追加

デバイスは、（ｉ）サンプル注入口、（ｉｉ）１つ以上の検出チャンバ、および（ｉｉｉ）各チャンバと注入口との間に行き止まり流体連通を提供するチャネル手段を有するサンプル分配ネットワークを規定する基板を備える。 - 特許庁

Meanwhile, in the image processing device 5, a partial image extraction part 571 acquires the plurality of oblique illumination sample images photographed by the microscope 3, and extracts partial images from the respective oblique illumination sample images, based on the brightness distribution thereof.例文帳に追加

一方、画像処理装置５では、部分画像抽出部５７１が、顕微鏡３で撮像された複数の偏斜標本画像を取得し、各偏斜標本画像からその明るさの分布に基づいて部分画像を抽出する。 - 特許庁

The device includes a substrate 32 which defines a sample-distribution network 34 having (i) a sample inlet 38, (ii) one or more detection chambers, and (iii) a channel means providing a dead-end fluid connection between each of the chambers and the inlet.例文帳に追加

デバイスは、(i)サンプル注入口３８、(ii)１つ以上の検出チャンバ、および(iii)各チャンバと注入口との間に行き止まり流体連通を提供するチャネル手段を有するサンプル分配ネットワーク３４を規定する基板３２を備える。 - 特許庁

The device for forming an electrostatic latent image having such a charge is provided with an optical system for creating a charge distribution in the sample by exposing the surface of the sample charged by means of the charger and forming an electrostatic latent image.例文帳に追加

このような帯電装置を有する静電潜像の形成装置であって、帯電装置で帯電された試料の面を露光して試料に電荷分布を生成させ静電潜像を形成するための光学系を有する。 - 特許庁

To provide a method that readily obtains the distribution of crystal nonuniform structure of a measuring sample, using a speckle diffraction light generated by irradiating a crystalline measuring sample with coherent X-rays.例文帳に追加

コヒーレント性を有するＸ線を、結晶性のある測定試料に照射することによって得られるスペックル状の回折光を用いて、該測定試料の結晶の不均一構造の分布を、容易に得ることができる方法を提供する。 - 特許庁

With this spectrum, a process for obtaining a signal intensity ratio of a plurality of elements is performed for a plurality of times, etching the standard sample surface in parallel, and a calibration curve indicating the distribution of the signal intensity ratio of a plurality of elements in the standard sample.例文帳に追加

このスペクトルから、複数の元素の信号強度比を求める工程を、標準試料表面をエッチングしながら複数行い、標準試料における複数の元素の信号強度比の分布を示す検量線を作成する。 - 特許庁

The method includes the steps of applying a DC magnetic field to a measurement object sample; repeatedly applying an AC magnetic field to demagnetize, while sequentially weakening a strength of the AC magnetic field; measuring a magnetic field distribution on a surface of the sintered tool, and obtaining a residual stress distribution of the sintered tool by converting the magnetic field distribution into the residual stress distribution.例文帳に追加

被測定試料に直流磁界を加えた後、交流磁界の強度を逐次弱めながら反復して交流磁界を加える消磁操作を実施し、その後前記焼結工具表面の磁界分布を測定して、前記磁界分布を残留応力分布に変換することにより前記燒結工具の残留応力分布を求める。 - 特許庁

The plasma film deposition system comprises: a sample stand for installing at least a sample substrate inside a vessel holdable to a reduced pressure; a target having a through hole and arranged with a fixed interval from the sample stand or one or more sets of targets arranged so as to be confronted each other; and a mechanism for controlling the distribution of particles flying from the target to the sample substrate.例文帳に追加

本発明のプラズマ成膜装置は、減圧に維持できる容器内に、少なくとも、試料基板を設置するための試料台と、試料台から一定の間隔をおいて配置された、貫通溝を有するターゲットまたは１組以上の互いに相対向して配置されたターゲットと、ターゲットから試料基板に飛来する粒子分布を制御する機構とを有する。 - 特許庁

To acquire an image forming device having high image quality by measuring a potential distribution with high resolution in the micron order relative to a sample having a surface potential distribution such as a latent image carrier (photosensor) used for the image forming device such as a copying machine.例文帳に追加

複写機等の画像形成装置に用いる潜像担持体（感光体）などの表面電位分布を有する試料に対して、電位分布測定をミクロンオーダーの高分解能で測定し、高画質の画像形成装置を得る。 - 特許庁

The device includes a means which irradiates an electron beam and charges a photoconductor sample 30, an exposure optical system which forms the electrostatic latent image, and a scanning means which scans the surface of a sample by the electron beam and measures an electrostatic latent image distribution on the surface of the sample 30 by a detection signal obtained by the scanning.例文帳に追加

電子ビームを照射して感光体試料３０上に帯電電荷を生成させる手段と、静電潜像を形成させるための露光光学系と、試料面を電子ビームで走査する走査手段と、を有し、走査で得られる検出信号により試料３０面の静電潜像分布を測定する装置。 - 特許庁

A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.例文帳に追加

分散バス１１とフローセル１５とを循環流路１４を介して接続した試料液循環系１と、フローセル１５内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系２とを本体筐体４に設ける。 - 特許庁

To provide a manufacturing and calibrating method of a standard sample capable of imparting accurate calibration quantity by reducing the irregularity of the calibration quantity caused by the acoustic characteristic distribution present in a sample in a case that a material having a stria is used as the standard sample in the absolute calibration of a characteristic analyzer of an ultrasonic material.例文帳に追加

超音波材料特性解析装置の絶対校正において、脈理を有するような材料を標準試料とする場合、試料内に存在する音響特性分布に起因する校正量のばらつきを低減し、正確な校正量を与えることができる標準試料の作製法および校正方法を与える。 - 特許庁

The image comparing unit 27 compares the distribution of average densities in the image between the output sample 237 and the proof 238, and outputs information relating to differences between the output sample 237 and the proof 238 as the inspection results, based on the comparison results.例文帳に追加

画像比較部２７は、平均濃度の画像内分布を出力見本２３７およびプルーフ２３８の間で比較し、比較結果に基づいて出力見本２３７およびプルーフ２３８の間の差異に関する情報を検査結果として出力する。 - 特許庁

A plurality of potentials to be applied to the back of the sample S are set, and the Vth distribution when some position on the sample S surface is put on a boundary between reflection and absorption of the electron beam is defined by expression: (Vacc-Vsub) from an acceleration voltage Vacc and an application voltage Vsub to the back.例文帳に追加

試料Ｓ裏面に加える電位を複数設定し、試料Ｓの表面のある位置が電子ビームが反射するか吸収される境界となった場合のＶｔｈ分布を加速電圧Vaccと、裏面の印加電圧Vsubから、Vacc-Vsub により定義する。 - 特許庁